JPH01316155A - 半導体ペレット切削加工装置 - Google Patents

半導体ペレット切削加工装置

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JPH01316155A
JPH01316155A JP14495988A JP14495988A JPH01316155A JP H01316155 A JPH01316155 A JP H01316155A JP 14495988 A JP14495988 A JP 14495988A JP 14495988 A JP14495988 A JP 14495988A JP H01316155 A JPH01316155 A JP H01316155A
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JP
Japan
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pellet
semiconductor substrate
semiconductor
mark
positional deviation
Prior art date
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Application number
JP14495988A
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English (en)
Inventor
Mitsuki Tsukada
塚田 光記
Hideaki Hayashi
英明 林
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は半導体基板からペレットを切抜く際に基板を
切削加工する装置に係り、特に半導体基板の位置合せを
自動化した半導体ペレット切削加工装置に関する。
(従来の技術) サイリスタ等の大電力用半導体装置は、ウェハ工程にお
いて1枚の半導体基板上に複数個のサイリスクペレット
を形成し、この後、切削工具を用いて各ペレット毎に切
出し、その後、容器に収納することによって完成する。
そして、1枚の半導体基板から各ペレット毎に切出しを
行なう際には半導体ペレット切削加工装置が使用される
第4図は従来の半導体ペレット切削加工装置の概略的な
構成を示す図である。図において、Xステージ51、Y
ステージ52及びθステージ53がらなる移動機構54
上には、弾力性を有するシート部材55を介して半導体
基板56が載置される。また、図示しないが上記シート
部材55には表裏を貫通する孔が多数形成されており、
この孔の裏側からバキュームポンプで排気を行なうこと
により、半導体基板5Bが移動機構54上に固定される
。また、上記移動機構54上に載置された半導体基板5
6の上方には、半導体基板5Bを切削するための砥石5
7とスピンドル5Bとからなる切削工具59が設けられ
ている。
この切削工具59は全体的に上下運動すると共に砥石5
7が回転駆動されるように構成されている。また、上記
半導体基板56の上方には半導体基板56の表面を観察
するための二視野顕微鏡60が設けられている。
第5図は前記移動機構54上に固定された半導体基板5
6の表面と、二視野顕微鏡60との関係を示す図である
。この半導体基板5B上には図中の破線で示すように例
えば3個分のサイリスタペレット71A、 71B、 
71Cが予め形成されており、これらペレット71の中
心位置はそれぞれ72A、 72B。
72Cである。また、この基板56の表面には少なくと
も2か所に位置合せ用の十字マーク73A、 73Bが
形成されており、両マーク間の直線距離は同一種類の基
板では常に一定である。また、Boa及び60bはそれ
ぞれ前記二視野顕微鏡60の各鏡筒であり、前記移動機
構54を動作させることにより、基板56上の位置合せ
用の十字マーク73A、、 73Bを二視野顕微鏡60
の各鏡筒60a、 (fobでそれぞれ目視できるよう
になっている。また、図示しないが、各鏡筒60a、 
60bの接眼部には位置合せの基準となる基準ラインが
設けられている。
このような装置を用いて半導体基板56を切削加工し、
各ペレット毎に切出す際には全て作業者の手作業で行な
われる。すなわちまず始めに、移動機構54上に半導体
基板56を載置固定する。次に二視野顕微鏡60を見な
がら、基板56上の位置合せ用の十字マーク73A、 
73Bが二視野顕微鏡60の各鏡筒60a、 60bの
基準ラインとそれぞれ一致するように、移動機構54の
Xステージ51、Yステージ52及びθステージ53を
動かし、基板56の中心位置を切削工具59の位置と合
致させる。そして次にXステージ52及びYステージ5
3をそれぞれ所定量だけ動かし、第1番目のペレット加
工位置、例えばペレット71Aの中心位置72Aを切削
工具59の位置と合致させる。この後、切削工具59の
砥石57を回転させ、かつ全体を下降させながら半導体
基板56のペレット71Aの部分を切削し、切出しを行
なう。
以下、同様にしてXステージ51及びYステージ52を
それぞれ所定量だけ動かし、第2番目、第3番目のペレ
ット加工位置を切削工具59の位置に合致させた後、基
板を切削し、ペレットの切出しを行なう。
上記従来の装置を用いた加工法では、半導体基板の位置
合せを実施する前に、基板56上の位置合せ用の十字マ
ーク73A、 73B相互間の直線距離と二視野顕微鏡
60の各鏡筒60a、 60b相互間の距離とを一致さ
せる必要がある。そして両距離が一致した状態で位置合
せ用の十字マーク73A、 73Bの位置合せ作業をX
ステージ51及びYステージ52を動かしながら行なう
ため、長時間の作業が強制される。また、作業内容が単
純であり、長く作業を継続すると、作業者の眼精疲労を
招き、生産性の低下並びに製品の品質低下にも影響を及
ぼしている。しかも、従来装置では、半導体基板の種類
が変更になると、位置合せマークの位置が変わり、必然
的に二視野顕微鏡60の鏡筒Boa、 60bの設定位
置も再調整しなければならない。従って、加工すべき半
導体基板の種類が多数あると、総加工作業時間に占める
二視野顕微鏡位置設定のための調整時間の割合いが高く
なり、段取りの改善が要求されている。
(発明が解決しようとする課題) このように従来の半導体ペレット切削加工装置では、位
置合せを作業者による手作業で行なうようにしているの
で、切削加工前の段取りに多くの時間が費やされ、半導
体装置の生産性が損われると共に品質低下が発生すると
いう問題がある。
この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
あり、その目的は、半導体装置の生産性の向上と品質低
下の防止を図ることができる半導体ペレット切削加工装
置を提供することにある。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) この発明の半導体ペレット切削加工装置は、光電変換手
段を用いて上記半導体基板の表面上に予め設けられてい
る位置合せ用のマークの中から少な(とも2か所のマー
クを検出するマーク検出手段と、上記マーク検出手段に
よって検出されたマークの位置とその基準位置との間の
位置ずれ量を平行移動量成分と傾き二成分とに分けて算
出する演算手段と、上記演算手段によって算出された位
置ずれ量に基づいて上記半導体基板内の予め設定された
ペレット加工位置を補正する補正手段と、上記補正手段
によって補正されたペレット加工位置とペレット切削用
工具との位置を相対的に合致させる手段とを具備したこ
とを特徴とする。
(作用) TV左カメラによる光電変換手段により半導体基板の表
面上に設けらだ2か所の位置合せ用のマークが検出され
る。検出された各マークとそれぞれの基準位置との間の
相対的な位置ずれ量が平行移動量成分と傾き同成分とに
分けて算出される。
そして、この算出された位置ずれ量に基づいて半導体基
板のペレット加工位置が補正される。これにより、正し
いペレット加工位置がペレット切削用工具の位置と相対
的に合致し、この後、切削加工が行なわれる。
(実施例) 以下、図面を参照してこの発明を実施例により説明する
第1図はこの発明の半導体ペレット切削加工装置の一実
施例に係る全体の構成を示す図である。
図において、10は、Xステージ11、Yステージ12
、これらXステージ及びYステージを駆動するXステー
ジ用モータ13、Yステージ用モータ14からなる移動
機構である。この移動機構10のXステージll上には
、弾力性を有するシート部材15を介して半導体基板1
6が載置される。図示しないが、上記シート部材15に
は表裏を貫通する孔が多数形成されており、この孔の裏
側からバキュームポンプで排気を行なうことにより、半
導体基板1Bが移動機構10上に固定される。
また、上記移動機構10上に載置された半導体基板1G
の上方には、この半導体基板1Gを切削するための切削
工具17が設けられている。この切削工具17は上記半
導体基板16を切削する砥石18とスピンドル19とで
構成され、この切削工具17は全体的に上下運動すると
共に切削時には砥石18が回転駆動される。そして、こ
の切削工具17の動作は切削工具駆動制御部20によっ
て制御される。
さらに上記半導体基板16の上方にはこの基板表面の画
像を撮像するためのTV左カメラ1が設けられている。
このTV左カメラ1で撮像された画像情報は位置認識補
正部22に供給される。この位置認識補正部22は、上
記TV左カメラ1からの画像情報に法づき、上記半導体
基板16の表面に予め形成されている位置合せ用のマー
クの位置を検出し、かつ検出されたマークの位置とその
基準位置との位置ずれ量を算出する。さらに位置認識補
正部22は、算出された位置ずれ量から基板上の所定位
置とその基準位置に対する位置ずれ量を算出する。
23は装置全体の動作を制御するシステム制御部であり
、このシステム制御部23は上記切削工具駆動制御部2
0とは信号線24で、位置認識補正部22とはデータバ
ス25及びコマンドバス26とで、さらにXステージ用
モータ13.  Yステージ用モータ14とは信号線2
7.28とでそれぞれ接続されている。
第2図は上記第1図における位置認識補正部22の詳細
な構成を示すブロック図である。
前記TV左カメラ1では前記第5図の基板の一方の位置
合せ用の十字マーク73Aを含む一定領域の画像情報と
他方の位置合せ用の十字マーク73Bを含む一定領域の
画像情報とが得られ、それぞれの画像情報は画像情報記
憶部31に格納される。この画像情報記憶部31に格納
された一方のマーク73Aを含む一定領域の画像情報は
マーク検出部32Aに送られ、ここでこのマーク位置の
X座標値及びY座標値が検出される。このマーク検出部
32Aテ検出されたマーク位置のX座標値及びY座標値
は位置ずれ全算出部33Aに送られる。この位置ずれ量
算出部33Aには予めこのマークに対応する基準位置の
X座標値及びY座標値が記憶、もしくは供給されるよう
になっており、この位置ずれ全算出部33Aは両座標値
を比較することによって実際のマーク位置とその基準位
置との間のX方向及びY方向の位置ずれ量Δxa、Δy
aを算出する。
同様に、画像情報記憶部31に格納された他方の位置合
せ用の十字マーク73Bを含む一定領域の画像情報はマ
ーク検出部32Bに送られ、ここでこのマーク位置のX
座標値及びY座標値が検出される。
このマーク検出部32Bで検出されたマーク位置のX座
標値及びY座標値は位置ずれ全算出部33Bに送られる
。この位置ずれ全算出部33Bでもこのマークに対応す
る基準位置のX座標値及びY座標値が記憶、もしくは供
給されるようになっており、この位置ずれ全算出部33
Bは両座標値を比較することによって実際のマーク位置
とその基準位置との間のX方向及びY方向の位置ずれ量
Δxb。
Δybを算出する。
上記両位置ずれ全算出部33A、 33Bで算出された
マーク73Aと73Bそれぞれの位置と対応する基準位
置との間のX、Y方向の位置ずれ量Δxa。
ΔY a sΔxb、 Δybは位置補正算出部34に
送られる。
一方、認識制御部35はデータバス25及びコマンドバ
ス26を介して前記システム制御部23と接続されてい
る。この認識制御部35は、上記画像情報記憶部31、
両マーク゛検出部32A、 32B及び両位置ずれ全算
出部33A、 33Bの動作を制御すると共に、上記位
置補正算出部34に対し、加工対象基板の各ペレット中
心位置に対応したX、Y座標値(x n。
yn)を送る。
また、上記位置補正算出部34は、上記両位置ずれ全算
出部33A、 33Bから送られた位置ずれ量Δxa、
ΔV a sΔxb、Δybに基づき、実際の基板上の
前記2か所の位置合せ用の十字マーク73A、 73B
間の中心位置とその基準位置との間の位置ずれ量をX、
Y座標方向の平行移動成分xs。
ysと、傾き量成分θとに分けて算出する。
例えば基準となる位置合せ用の十字マーク73A173
Bと、実際に移動機構10上に載置された基板1B上の
位置合せ用の十字マーク73A’ 、 73B’ との
位置が第3図に示すような関係のとき、第2図中の位置
ずれ全算出部33A、 33Bはそれぞれのマークの位
置ずれ量Δxa、  ΔY a sΔxb、Δybとし
て図示のような値を算出する。このような値が送られる
ことにより、位置補正算出部34は第3図に示すように
、基準となる位置合せ用の十字マーク73A、 73B
の中心位置74と、実際に移動機構10上に載置された
基板16上の位置合せ用の十字マーク73A’ 、 7
3B’ の中心位置74′ との間の位置ずれ量をX、
Y座標方向の平行移動成分xs。
ysと、傾き量成分θとして算出する。例えば、マーク
73A、 73Bそれぞれとその中心位置74との間の
距離をノとすれば、平行移動成分xs、ys及び傾き量
成分θ(°)はそれぞれ次の式で与えられる。
xs=、i?cosθ−(J!−Δxa)      
−1ys−ノCOSθ+Δyb          −
2θ−90°−cos’ I(Δya−Δyb)/2ノ
+  −3すなわち、上記1.2.3式で与えられる平
行移動成分xs、ys及び傾き量成分θじ)は、実際の
基板上の全ての点について一様である。
そこで次に認識制御部35は上記位置補正算出部34に
対し、加工対象基板の各ペレット中心位置に対応したX
、Y座標値(x n、  y n)として第1番目のペ
レット加工位置、例えば前記第5図中のペレット71A
の中心位置72Aに対応した座標値を送る。位置補正算
出部34は予め算出した上記平行移動成分xs、ys及
び傾き量成分θじ)と、加工を行なうべきペレット位置
の中心座tl(xn。
yn)に基づき次のような演算を行なう。
x n’−(xnIIcosθ−yn会sinθ)+x
s  −4yn’ =(xnΦsinθ+yn11co
sθ)+ys  −5すなわち、上記演算後に位置補正
算出部34から位置補正がなされた後のペレット71A
の中心位置72Aに対応したX、Y座標値(xn’ 、
yn’ )が認識制御部35に送られ、これがさらにデ
ータバス25を介して第1図中のシステム制御部23に
送られる。システム制御部23はこのX、Y座標値(x
n’ 、yn’ )に基づき、信号線27.28を介し
てXステージ用モータ13、Yステージ用モータ14に
指令を与え、Xステージ11、Yステージ12それぞれ
を必要な距離だけ移動させる。これにより、予め移動機
構lO上に載置された基板1Bの第1番目のペレット加
工位置、すなわち前記第5図中のペレット71Aの中心
位置72Aが切削工具17の位置と合致し、その後、切
削工具駆動制御部20からの指令により切削工具59の
砥石57が回転し、かつ全体が下降して半導体基板16
のペレット71Aの部分が切削され、ペレットの切出し
が行なわれる。
以下、同様にして認識制御部35から位置補正算出部3
4に対し、加工対象基板の次のペレット中心位置に対応
したX、Y座標値(x n、  y n)が送られるこ
とにより、位置補正算出部34は平行移動成分xs、y
s及び傾き同成分θじ)と(x n。
yn)に基づき上記4式及び5式のような演算を行なう
ことにより位置補正がなされた後のベレ・ソト中心位置
に対応したX、Y座標(xn’。
yn / )の値を算出し、さらにこの座標(xn’。
yn′)に基づきXステージ用モータ13、Yステージ
用モータ14に指令が与えられる。これによりXステー
ジ11、Yステージ12それぞれが必要な距離だけ移動
し、この後、切削工具59によって次のペレット71B
の部分が切削され、切出しが行なわれる。
このように上記実施例の装置では、基板上の位置合せ用
のマークの認識を自動的に行ない、それぞれの基準位置
との位置ずれ量を算出し、この算出された位置ずれ量に
基づいてペレット加工位置を自動的に補正しているため
、従来のように二視野顕微鏡を用いた作業者の目視によ
る位置合せのときと比べ、作業時間が大幅に短縮される
。さらに、作業者の目視による作業が不要となるので、
従来のような眼精疲労による生産性の低下並びに製品の
品質低下を防止することができる。
また上記実施例装置では、半導体基板の1種類が変更に
なった場合には、加工を行なう前に基準となるマーク7
3A、 73B及びその中心位置の各座標及び前記距離
ノ等の設定データを変更するだけで対応することができ
る。このため、加工すべき半導体基板の種類が多数あっ
ても、総加工作業時間に占める段取り時間は大幅に短縮
される。
なお、この発明は上記実施例に限定されるものではなく
種々の変形が可能であることはいうまでもない。例えば
、上記実施例では2か所のマークを検出することによっ
て基準位置との位置ずれ量を算出し、かつ位置ずれ量の
算出のために第2図に示すようにマーク検出部32と位
置ずれ全算出部33とをそれぞれ2つ設ける場合につい
て説明したが、これは2か所以上のマークを検出するこ
とによって基準位置との位置ずれ量を算出するようにし
てもよく、また、マークの形状も十字マークに限定され
るものではない。さらに、マーク検出部32と位置ずれ
全算出部33とをそれぞれ1つのみ設け、これらを各マ
ークに対して時間をずらせて使用することも可能である
[発明の効果] 以上説明したようにこの発明によれば、半導体装置の生
産性の向上と品質低下の防止を図ることができる半導体
ペレット切削加工装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の半導体ペレット切削加工装置の一実
施例に係る全体の構成を示す図、第2図は上記第1図装
置の一部の詳細な構成を示すブロック図、第3図は上記
実施例装置の作用を説明するための図、第4図は従来装
置の概略的な構成を示す図、第5図は上記従来装置にお
ける半導体基板表面と二視野顕微鏡との関係を示す図で
ある。 10・・・移動機構、11・・・Xステージ、12・・
・Yステージ、13・・・Xステージ用モータ、14・
・・Yステージ用モータ、15・・・シート部材、1B
・・・半導体基板、17・・・切削工具、18・・・砥
石、19・−・スピンドル、20・・・切削工具駆動制
御部、21・・・TVカメラ、22・・・位置認識補正
部、23・・・システム制御部、31・・・画像情報記
憶部、32A、 32B・・・マーク検出部、33A、
 33B位置ずれ全算出部、34・・・位置補正算出部
、35・・・認識制御部。 出願人代理人  弁理士 鈴江武彦 2色 第2図 第3図 第4図 第5図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  半導体基板から所定形状のペレットを切抜く半導体ペ
    レット切削加工装置において、 光電変換手段を用いて上記半導体基板の表面上に予め設
    けられている位置合せ用のマークの中から少なくとも2
    か所のマークを検出するマーク検出手段と、 上記マーク検出手段によって検出されたマークの位置と
    その基準位置との間の位置ずれ量を平行移動量成分と傾
    き量成分とに分けて算出する演算手段と、 上記演算手段によって算出された位置ずれ量に基づいて
    上記半導体基板内の予め設定されたペレット加工位置を
    補正する補正手段と、 上記補正手段によって補正されたペレット加工位置とペ
    レット切削用工具との位置を相対的に合致させる手段と を具備したことを特徴とする半導体ペレット切削加工装
    置。
JP14495988A 1988-06-13 1988-06-13 半導体ペレット切削加工装置 Pending JPH01316155A (ja)

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JPH03287347A (ja) * 1990-04-02 1991-12-18 Tokyo Seimitsu Co Ltd アライメント方法並びにその装置
JP2005288550A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Tamura Seisakusho Co Ltd 精密研削装置および精密研削方法

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