JPH013155A - アニリン及びオキサミドの同時製造方法 - Google Patents

アニリン及びオキサミドの同時製造方法

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JPH013155A
JPH013155A JP63-131790A JP13179088A JPH013155A JP H013155 A JPH013155 A JP H013155A JP 13179088 A JP13179088 A JP 13179088A JP H013155 A JPH013155 A JP H013155A
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JP
Japan
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carbon atoms
acid
nitro compound
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JP63-131790A
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エイト・ドレント
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シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アニリン及びオキサミドの同時製造方法並び
にこの方法によって同時に製造されたアニリン及びオキ
サミドに関する。
本発明は、特に式 (式中、Xはハロゲン原子あるいはアルキル、アルコキ
シ、アリールオキシ、シアノ、エステル又はトリフルオ
ロメチル基であり、そしてnは0〜5の整数である。) のアニリン及び式 ] (式中、各Rは独立的にアルキル基である。)のオキサ
ミドの同時製造に関する。
〔従来の技術〕
本出願人の英国特許出願第8615155号には、第■
族貴金属、二座配位子及び酸又はその塩からなる特定の
触媒系を用いて芳香族ニトロ化合物を一酸化炭素及びア
ミンと反応させることにより、尿素誘導体が製造される
方法が記載されている。
〔発明の解決点及び解決手段〕
全く異なる有用な生成物がアミンの量を変えることによ
り得られる、と言うことを今般見出した。
〔発明の詳細な 説明は、式 (式中、Xはハロゲン原子あるいはアルキル、アルコキ
シ、アリールオキシ、シアノ、エステル又はトリフルオ
ロメチル基であり、そしてnは0−5の整数である。) のアニリン及び式 %式% (式中、各Rは独立的にアルキル基である。)のオキサ
ミドの同時製造方法において、(a)パラジウム金属又
はその化合物、(b)式 %式% (式中、MはP、Asまたはsbであり、Aは橋中に少
なくとも2個の炭素原子を有する二価のを機橋状基であ
りかつこれらの炭素原子のいずれも立体障害を起こし得
る置換基を有しておらず、そしてR1、R2、R3及び
R4は同じ又は異なる随意に置換された炭化水素基であ
る。) の二座配位子、及び (c)酸又は酸の遷移金属塩 からなる触媒系の存在下で、−数式 (式中、X及びnは上記に定義された通りである。)の
芳香族ニトロ化合物を一酸化炭素及び該ニトロ化合物に
関してモル過剰量のHN R2(ここで、Rはアルキル
基である。)のアミンと反応させる、ことを特徴とする
上記同時製造方法に関する。
本発明による方法によって製造されるアニリンは、式(
1)中におけるフェニル基において置換されていても置
換されていなくてもよい。Xは、アルキル基好ましくは
1〜10個の炭素原子を有するもの一層好ましくは1〜
4個の炭素原子を有するものであり得る。Xがハロゲン
である場合、塩素及びフッ素が好ましい。好ましくは、
アルコキシ及びアリールオキシ基は10個より多くない
炭素原子を有しそして好ましくは酸素原子を経てフェニ
ル核に結合されている。エステル基は、好ましくは。1
0個より多くな51炭素原子−層好ましくは6個より多
くない炭素原子を有する。最も好ましい置換基は、塩素
原子及びメチル基である。
式(II)中、基Rは、好ましくは1〜10個の炭素原
子−層好ましくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル
基例えばメチルまたはエチル基である。
既に指摘したように、式(1)及び(III)中の置換
基Xは互いに対応する。好ましい芳香族ニド1:1(I
s金物は、ニトロベンゼン、2−クロロ−4−二トロト
ルエン及びパラ−イソプロピルニトロベンゼンである。
本発明による方法において出発物質として用いられるア
ミンは、好ましくは1〜10個の炭素原子−層好ましく
は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を持つジアル
キルアミン例えばジメチルアミン及びジエチルアミンで
ある。アミンは芳香族ニトロ化合物の量に対してモル過
剰量で用いられるべきであり、好ましくはアミン/ニト
ロ化合物のモル量の比率は2又はそれ以上である。
反応は、下記の式に従い起こると考えられる:反応温度
は、50℃ないし200℃の範囲にあり得そして好まし
くは70℃ないし150℃の範囲にある。圧力は、大気
圧ないし200バールの範囲にあり得る。
触媒系は、 (a)パラジウム金属又はその化合物、(b)式 %式% (式中、MはP、Asまたはsbであり、Aは橋中に少
なくとも2個の炭素原子を有する二価の有機橋状基であ
りかつこれらの炭素原子のいずれも立体障害を起こし得
る置換基を有しておらず、そしてR■、R2、R″及び
R4は同じ又は異な、る随意に置換された炭化水素基で
ある。) の二座配位子、及び (c)酸又は酸の遷移金属塩 からなる。
均質パラジウム化合物及び不均質パラジウム化合物の両
者とも用いられ得る。均質系が好ましい。
適当なパラジウム化合物はパラジウムと例えば硝酸、硫
酸又は1分子当たり12個より多(ない炭素原子を含有
するアルカン酸との塩である。原則的に、ハロゲン化水
素酸の塩も同様に用いられ得る。パラジウムカルボキシ
レート特にパラジウムアセテートが、好ましい触媒化合
物である。更に、パラジウムアセチルアセトネートも用
いられ得る。
カーボン上に担持されたパラジウム並びにイオン交換体
と結合したパラジウムが、適当な不均質パラジウム化合
物の例である。
パラジウム又はその化合物の量は臨界的でない。
芳香族ニトロ化合物1モル当たり10−4〜101モル
の範囲の量の使用が好ましい。
−:座配位子において、立体障害を与える置換基は不存
在であるべきであり、このことは、下記の一般式を有す
る錯化合物の形成を妨害し得る置換基は存在してはいけ
ないことを意味する:して配位子り、及びR2は、弱く
配位した溶媒配位子例えばアセトニトリル、メタノール
、アセトン又はアセチルアセトンでありあるいはすぐ前
のパラグラフに記載のパラジウム化合物に用いられるも
のに対応する。
二速配位子において、Mは好ましくはリンである。
炭化水素基R1、R2、R3及びR4は一般に2〜18
個の炭素原子好ましくは6〜14個の炭素原子を有する
、アリール基特にフェニル基が最も適当である。好まし
い橋状基−R−は式(CR’R6)、lを有するもので
あり、しかして式中R5及びR6は水素原子あるいは立
体障害を与えない炭化水素基でありそしてnは3又は4
である。置換基R5及びR6は、好ましくは水素原子で
ある。橋状基Rはまた環状構造例えば芳香族又は脂環式
基の一部をなし得、橋中の炭素炭素結合は飽和でも不飽
和でもよく、また橋中においであるいは橋に結合した環
状又は非環状基中において1個又はそれ以上のへテロ原
子例えば硫黄、酸素、鉄又は窒素が、2個の原子Mを結
合する橋中に存在しなければならない2個の炭素原子以
外の炭素原子に対して置換されていてもよい。
適当な二速配位子の例は、1.3−ジ(ジフェニルホス
フィノ)プロパン、1.4−ジ(ジフェニルホスフィノ
)ブタン、2.3−ジメチル−1,4−ジ(ジフェニル
ホスフィノ)ブタン、1.4−ジ(ジシクロへキシルホ
スフィノ)ブタン、1.3−ジ(ジーp+−)リルホス
フィノ)プロパン、1.4−ジ(ジ−p−メトキシフェ
ニルホスフィノ)ブタン、2.3−ジ(ジフェニルホス
フィノ)−2−ブテン、1,3−ジ(ジフェニルホスフ
ィノ)−2−オキソプロパン、2−メチル−2−(メチ
ルジフェニルホスフィノ)−1,3−ジ(ジフェニルホ
スフィノ)プロパン、o、oI−ジ(ジフェニルホスフ
ィノ)ビフェニル、1.2−ジ(ジフェニルホスフィノ
)ベンゼン、2.3−ジ(ジフェニルホスフィノ)ナフ
タレン、1,2−ジ(ジフェニルホスフィノ)シクロヘ
キサン、2.2−ジメチル−4,5−ジ(ジフェニルホ
スフィノ)ジオキソラン及びCY・81) 2−メチル−2−(メチルジフェニルホスフィノ)−1
,3−ジ(ジフェニルホスフィノ)プロパン即ちCHa
  C(CH2P(C6H5)り3のような構造を有す
る化合物は、三官能性であるけれども、本発明に関して
二速配位子と考えられると述べられ、何故ならこれらの
3個のリン原子のうちの2個だけが錯体中のパラジウム
原子と配位し得るからである。
二速配位子は、広範囲例えばパラジウム1モル当たり0
.1〜10モルの範囲で変えられ得る量で用いられ得る
酸は、好ましくは2〜14個の炭素原子を有するカルボ
ン酸例えば酢酸、9−アントラセンカルボン酸及び2.
4−6−トリメチル安息香酸である。
カルボン酸との塩を形成し得る遷移金属は、周期表の第
1B、、、I[B、IIIB、IVB、VB、VIB及
び■族、ランタニド及びアクチニドの金属として定めら
れ得る。銅、鉄及びニッケルが好ましい。鉄及びニッケ
ルの塩は、銅塩の場合とほぼ同じ変換度及び選択性をも
たらす。カリウム塩の場合は、変換が全く達成されない
ことが観察される。
本発明による方法は、溶媒の存在下で好都合に行われ得
る。種々の溶媒が用いられ得、例えばケトン(例えば、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アセトフェノン及びシクロヘキサノン)、エーテル
(例えば、ジエチレングリコ−\ ルジメチルエーテル(“ジグリメ”ともいわれる。)、
アニソール、ジフェニルエーテル)、芳香族化合物(例
えば、ベンゼン、トルエン及び3種のキシレン)、ハロ
ゲン化芳香族化合物(例えば、クロロベンゼン及びオル
ト−ジクロロベンゼン)、ハロゲン化パラフィン炭化水
素(例えば、メチレンクロライド及び四塩化炭素)、パ
ラフィン(例えば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン及びイソオクタン)、ニトリ
ル(例えばベンゾニトリル及びアセトニトリル)及びエ
ステル(例えば、メチルヘンシェード)である。アニリ
ンも、溶媒として用いられ得る。
反応は、回分的に、半連続的に又は連続的に行われ得る
得られるオキサミドは、肥料としであるいはファインケ
ミカル用の中間体として有用である。
〔実 施 例〕
電磁かくはん機を備えた250mJのハステロイC製オ
ートクレーブ中に、0.1モルのニトロベンゼン、06
2モルのジエチルアミン、溶媒としての50m1lのジ
エチレングリコールジメチルエーテル及び触媒系を導入
した。オートクレーブをCOで60バールに加圧し、そ
して温度を電気的手段によって所要反応温度に上げた。
所要反応時間後、圧力を下げ、オートクレーブを徐冷し
、そして反応混合物をNMR及びGLC/MSによって
分析してアニリン及びオキサミドの量を測定した。
下記の表に、すべての例について、ミリモルでの触媒成
分の量、反応時間(t)、反応温度(T)、変換度(ニ
トロベンゼン及びアミンを基準として計算)及びニトロ
ベンゼン摂取量を基準としたオキサミドの収率(%)が
記載されている。
(以下余白)

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Xはハロゲン原子あるいはアルキル、アルコキ
    シ、アリールオキシ、シアノ、エステル又はトリフルオ
    ロメチル基であり、そしてnは0〜5の整数である。) のアニリン及び式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、各Rは独立的にアルキル基である。)のオキサ
    ミドの同時製造方法において、 (a)パラジウム金属又はその化合物、 (b)式 R^1R^2−M−A−M−R^3R^4 (式中、MはP、AsまたはSbであり、 Aは橋中に少なくとも2個の炭素原子を有 する二価の有機橋状基でありかつこれらの 炭素原子のいずれも立体障害を起こし得る 置換基を有しておらず、そしてR^1、R^2、R^3
    及びR^4は同じ又は異なる随意に置換された炭化水素
    基である。) の二座配位子、及び (c)酸又は酸の遷移金属塩 からなる触媒系の存在下で、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、X及びnは上記に定義された通りである。)の
    芳香族ニトロ化合物を一酸化炭素及び該ニトロ化合物に
    関してモル過剰量のHNR_2(ここで、Rはアルキル
    基である。)のアミンと反応させる、ことを特徴とする
    上記同時製造方法。
  2. (2)アミンHNR_2が、1〜4個の炭素原子を有す
    る基Rを有する、請求項1記載の方法。
  3. (3)アミンがジメチルアミン又はジエチルアミンであ
    る、請求項2記載の方法。
  4. (4)芳香族ニトロ化合物が1〜4個の炭素原子のアル
    キル基少なくとも1個又は塩素原子を有する、請求項1
    〜3のいずれか1つの項記載の方法。
  5. (5)芳香族ニトロ化合物がp−イソプロピルニトロベ
    ンゼン、3,4−ジクロロニトロベンゼン、3−クロロ
    −4−メチルニトロベンゼンである、請求項4記載の方
    法。
  6. (6)芳香族ニトロ化合物がニトロベンゼンである、請
    求項1記載の方法。
  7. (7)芳香族ニトロ化合物のモル量に対するアミンのモ
    ル量の比率が2又はそれ以上である、請求項1〜6のい
    ずれか1つの項記載の方法。
  8. (8)二座配位子であるホスフィンを用いる、請求項1
    〜7のいずれか1つの項記載の方法。
  9. (9)二座配位子であるホスフィンが1,3−ジ(ジフ
    エニルホスフイノ)プロパンである、請求項8記載の方
    法。
  10. (10)酸が2〜10個の炭素原子を有するカルボン酸
    である、請求項1又は請求7〜9のいずれか1つの項記
    載の方法。
  11. (11)カルボン酸が酢酸である、請求項10記載の方
    法。
  12. (12)遷移金属塩が銅塩、鉄塩又はニッケル塩である
    、請求項1、10又は11記載の方法。
  13. (13)反応を溶媒の存在下で行う、請求項1〜12の
    いずれか1つの項記載の方法。
  14. (14)溶媒がジエチレングリコールジメチルエーテル
    又はアニリンである、請求項13記載の方法。
  15. (15)反応温度が50℃ないし200℃好ましくは7
    0℃ないし150℃である、請求項1〜14項のいずれ
    か1つの項記載の方法。
JP13179088A 1987-06-02 1988-05-31 Simultaneous production of aniline and oxamide Pending JPS643155A (en)

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