JPH01315050A - 光磁気ディスク用基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光磁気ディスク用基板に関し、さらに詳しくは
書き換え可能な光磁気ディスクに用いられる光磁気ディ
スク用基板に関するものである。

［従来の技術およびその課題］ 従来、情報を熱磁気的に記録し、磁気光学的に再生する
光磁気記録媒体としては、透明な樹脂基板上あるいはガ
ラス基板上に誘電体からなる保護層、垂直磁化膜からな
る記録層、金属膜からなる反射層等を種々の組合わせで
、スパッタ法あるいは蒸着法により成膜したものが用い
られている。

このうら垂直磁化膜としてはＧｄＴｂＦｅ、　ＤｙＦｅ
。

ＧｄＣｏ、　ＴｂＣｏ、　ＴｂＤｙＦｅ、　ＴｂＦｅＣ
ｏＷの希土類−３ｄ遷移金属の非晶質合金薄膜が量産に
適し、かつ読み出しノイズが少ないこと等から有望とさ
れている。

ディスク用基板は、ガラス基板および樹脂基板の２種類
に大別できる。このうらガラス基板は破損しやすく、か
つ高価であることから、主として樹脂基板が用いられて
いる。樹脂基板としては、量産性および価格の点から、
ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート
（Ｐ聞へ）等が用いられている。

基板と記録層の間の中間層は、記録層である垂直磁化膜
の酸化保護と、カーエンハンス効果の双方を目的として
形成され、ＭＮ、ＳｉＮ等の窒化物、Ｓｉｎ、　　５ｉ
０２等の酸化物のほか、２ｎＳ、　　ＨｇＦ２　。

ＳｉＣ等の種々の誘電体が用いられている。記録層に用
いられる希土類−３ｄ遷移金属非晶質合金は非常に酸化
されやすく、空気中に数日放置するだけで表面酸化によ
りカー回転角は大きく低下する。

中間層はこの酸化を防ぐ目的で形成されているもので、
通常、記録層を誘電体保護膜で挟み込むことが行われて
おり、効果をあげている。

第２図は上記のような従来用いられてきた光磁気記録媒
体の一例の内外周部の概略断面図を示したもので、ポリ
カーボネート基板２１の表面に中間層２２、光磁気記録
層２３および保護層２４が順次成膜されて成膜領域を形
成している。また、ポリカーボネート基板２１表面の成
膜領域との接触面内には、光ヘッドを案内するためのグ
ループ２５が形成されている。

しかしながら上記構造において、樹脂基板と誘電体保護
膜の付着力は、必ずしも十分でなく、高温高湿下での環
境試験により低下し、時間の経過に伴い、成膜領域の樹
脂基板からの剥離が発生するという欠点がおった。

本発明は以上述ぺたような従来の問題点を解決するため
になされたもので、樹脂基板と成膜領域との剥離が生じ
ることがなく、長期信頼性の優れた光磁気ディスク用基
板を提供することを目的と覆る。

［課題を解決するための手段〕 本発明は、樹脂基板表面の情報記録層が形成されるべき
面にグループ領域が設けられてなる光磁気ディスク用基
板において、樹脂基板のグループ領域外の内外周平坦面
には溝が形成されていることを特徴とする光磁気ディス
ク用基板である。

［作用］ 高温高湿条件の環境試験による光磁気記録媒体の樹脂基
板からの剥離は、その剥離形状から線状剥離と円型剥離
に大別できる。線状剥離は、環境試験の初期に基板表面
のグループ領域外の平坦部から発生し、その後試験時間
の増加に伴いグループ領域に成長する。一方、円型剥離
は、線状剥離が発生した後に、記録膜の全域にほぼ均一
に発生する。従って線状剥離の発生が防止できれば、光
磁気ディスクの長期信頼性を向上させることができる。

線状剥離が平坦部で発生する理由としては、次の２点が
考えられる。即ち、第１には温湿度の変化に対応した基
板内の水分の不均一性により、単板では反りが発生する
が、全面密着で貼合せた場合には基板の反りは発生せず
、それに対応した記録膜を剥離させようとする応力が生
じる。この応力は、特に基板の内外周部で大きく、この
内外周部は基板の平坦部に対応する。第２には発生しは
じめの微小な剥離が成長する場合、平坦部では抵抗なく
拡大できるが、グループ部では溝の段差により成長が阻
害され、線状剥離にまで至ることが少ない。

上記の理由のうら、第１の理由は溝の有無に関係しない
が、第２の理由は平坦部にも満があれば、線状剥離の発
生もしくは成長を防止できることを意味している。従っ
て、光磁気ディスク用基板としてグループ領域外の平坦
部に溝を形成したものを用いることにより、線状剥離の
発生もしくは成長を防止でき、光磁気ディスクの長期信
頼性を高めることができる。

［実施例］ 次に本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明
する。

第１図は本発明の光磁気ディスク用基板を用いた光磁気
ディスクの一例を示すディスク内外周部の概略断面図で
ある。図中、１はポリカーボネート基板、２は中間層、
３は光磁気記録層、４は保護層、５はグループ、６は溝
である。

上記の如く構成された光磁気ディスクを作製するには、
まずポリカーボネート基板１表面にグループ５および溝
６を形成する。溝６の形成はグループ５の形成と同時に
、例えば射出成型法によって形成づることもできるし、
あるいは別々に形成することもできる。この溝６の形成
領域は、基板１のグループ領域外の内外周平坦面にあっ
て、後工程で形成される成膜領域を少なくとも全て含む
ものとする。

次いで中間層２としてＳｉ多結晶体ターゲットを用いた
Ａｒ＋　Ｎ２ガスによるスパッタ法によって、スパッタ
ガス圧２．５ｘ　１０−Ｉ　Ｐａ、投入電力４００脣で
窒化ケイ素膜を８００Ａの膜厚で成膜する。次に、光磁
気記録層３としてＦｅＣ０合金ターゲット上に丁ｂチッ
プをのけた複合ターゲットを用いたＡｒガスによるスパ
ッタ法によって投入電力１００Ｗ、スパッタガス圧９　
Ｘ　１０−２　ＰａでＴｂＦｅＣｏ膜を膜厚８００人で
成膜する。最後に保護層４として上記したスパッタ法に
よる窒化ケイ素膜を膜厚８００Ａで成膜する。

上記の方法で作製された光磁気ディスクを用い、８０°
Ｃ１９０％ＲＨの温湿度条件で環境試験を行ったところ
、８００時間経過後においても線状剥離は発生しなかっ
た。

一方、第２図に示したような従来形状の基板に光磁気記
録層を成膜した光磁気ディスクを上記と同様の条イ′↑
で環境試験したところ、５００時間経過後に線状剥離か
発生した。

また、本実施例におけるポリカーボネート基板に代えて
Ｐ聞へ基板を用いた場合も、環境試験による基板と光磁
気記録層の線状剥離の発生は上記と同様に防止され、長
期信頼性が向上した。

［発明の効果１ 以上説明したように、本発明の基板を用いて作製した光
磁気ディスクは、光磁気記録層の基板からの剥離が生じ
難いので、従来の光磁気ディスクに比べて長期信頼性が
大幅に改善されるという効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を用いて作製した光磁気ディ
スクの内外周部の概略断面図、第２図は従来の光磁気デ
ィスクの内外周部の概略断面図である。 １．２１・・・ポリカーボネート基板 ２．２２・・・中間層 ３．２３・・・光磁気記録層 ４．２４・・・保護層 ５．２５・・・グループ ６・・・溝

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）樹脂基板表面の情報記録層が形成されるべき面に
   グループ領域が設けられてなる光磁気ディスク用基板に
   おいて、樹脂基板のグループ領域外の内外周平坦面には
   溝が形成されていることを特徴とする光磁気ディスク用
   基板。