JPH01313487A - N―ホスホノメチルグリシンの製造方法 - Google Patents

N―ホスホノメチルグリシンの製造方法

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JPH01313487A
JPH01313487A JP1107918A JP10791889A JPH01313487A JP H01313487 A JPH01313487 A JP H01313487A JP 1107918 A JP1107918 A JP 1107918A JP 10791889 A JP10791889 A JP 10791889A JP H01313487 A JPH01313487 A JP H01313487A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、N−ホスホノメチルグリシンの製造に関し、
特にN−アシルアミノメチルホスホン酸とグリオキシル
酸又はその誘導体とから、N−アシルアミツメデルホス
ホン酸又は関連する中間体を分離することなく、N−ホ
スホノメチルグリシンを製造する改良された方法に関す
る。
〔従来の技術〕
N−ホスホノメチルグリシンは発芽種子、芽を出しつつ
ある苗木、成熟しつつある定着した木々草木類の植物及
び水性植物の成長を調節するのに有用な高性能で商業的
に重要な植物毒である。
N−ホスホノメチルグリシンの塩は、広範な種類の植物
を防除するため、発芽後の植物毒又は除草剤として水性
配合物にして適用するのが便利である。
ゲルドナー(G aertner)によるカナダ特許箱
1.039,739号明細書には、次のようにしてN−
ホスホノメチルグリシンを製造する方法が記載されてい
る。アシルアミノメチルホスホン酸又はそのエステルと
グリオキシル酸誘導体とを反応させてカルボニルアルド
イミノメタンホスホネートを形成させる。次に、カルボ
ニルアルドイミノメタンホスホネートを触媒による水素
添加にかけ、N−ホスホノメチルグリシン又はそのエス
テルを生成させる。そのエステル基を加水分解してN−
ホスホノメチルグリシンを生成させることができる。
フランツ(F rar+z)による米国特許第3,79
9,758号明細書には、エチルグリシネート、ホルム
アルデヒド及び亜燐酸ジエチルを反応させ、次に加水分
解することによりN−ホスホノメチルグリシンを製造す
ることが記載されている。フランツにより記載されてい
る別の方法には、水酸化ナトリウムの存在下でグリシン
をクロロメチルホスフィン酸でホスフィノメチル化し、
N−ホスフィノメチルグリシンを塩化第二水銀で酸化す
る方法が含まれている。
モーゼル(Moser)による米国特許第4,369,
142号明細書には、アミノメチルポスホン酸を水性媒
体中で二酸化硫黄触媒の存在下でグリオキサルと反応さ
せるN−ホスホノメチルグリシンの製造方法が記載され
ている。
H,ヤナカワその他による「水性媒体中でのオキソ酸及
びアンモニアからα−アミノ酸及びその誘導体の新規な
形成法」〔J、Biochem、 91.2087−2
090(1982) )には、グリオキシル酸をアンモ
ニア、メチルアミン及び硫酸アンモニウムと反応させて
グリシン及び(又は)その誘導体を製造することが記載
されている。第2088頁の表1には、pH4及びpH
8,27℃及び105℃の温度で種々のアミノ酸の合成
が示されている。第2088頁の左欄の下から右欄の上
には、酸性pH及び低い温度が、アルカリ性pH及び高
い温度よりもグリシンの形成にとって好ましいことが記
載されている。
J キールハーク(K ihlberg)による「ス)
ヘロムビンの合成、第一アミンをモノカルボキシメチル
化するための新規な方法J (Acta Che+n1
caScandinavica B 37.911−9
16(1983)〕には、二当量のグリオキシル酸と、
第一脂肪族アミン及び芳香族アミンとの反応が記載され
ており、その反応は、対応するイミン誘導体を最初形成
することによって進行する。第914頁に示されている
表Iには、種々の出発アミンが当量量のグリオキシル酸
と約25℃〜70℃の温度で反応すると、対応するN−
ポルミル−N−カルボキシメチルアミンそれは容易に加
水分解されてN−カルボキシメチルアミンになることか
記載されている。
クライナー(K leiner)による米国特許第4、
670,191号明細書には、アミンメタンホスポン酸
を2モル当量のグリオキシル酸と10’C〜100℃の
温度で反応さぜることによるN−ボスボッメチルグリジ
ンの製造方法が記載されている。
上記文献の教示は、単独又は組合せてN−ホスホノメチ
ルグリジンの満足すべき収率を生しさせるのに用いるこ
とがてきるが、それらの教示はいずれも一つ以上の欠点
を有する。今度、安価な原料、低い資本コスト及び簡単
な操作方法を用いて、中間生成物を分離する必要なく、
高収率でN−ホスボッメチルクリシン又はその誘導体を
製造する直接的方法か見出された。
〔本発明の要約〕
これら及び他の利点は、反応条件下でグリオキシル酸と
、式 %式% (式中、Rは1〜約6個の炭素原子を有するアルキル、
1〜約6個の炭素原子を有するハロアルキル、ペンシル
及びフェニルからなる群がら選択される) によって表されるN−アシルアミノメチルポスホン酸と
を一緒にすることからなるN−ホスホツメデルクリシン
の製造方法によって達成される。
〔本発明の詳細な記述〕
ここで用いる用語アルキルとは、メチル、エチル、イソ
プロピル、シクロプロピル、シクロヘキシル、t=ニブ
チルイソブチル、n−ブチル、及びフェニル、ヘキシル
等などの種々の形のものの如き直鎖及び分岐鎖基の両方
を意味する。6個より多い炭素原子を有する種々のアル
キル形のものも本発明の方法で用いることができるが、
特に有利であるとは思われない。メチルが好ましい用語
ハロアルキルには上記アルキル基の全てで、塩素、臭素
及び沃素の如き一つ以上のハロゲン原子で置換されたも
のが含まれる。クロロアルキルが好ましい。
用語ベンシル及びフェニルは、当業者に知られている通
常の意味を有するが、そのようなヘンシル及びフェニル
基は置換されていてもいなくてもよい。典型的な置換基
には、ニトロ、メチル又はクロロの如きハロが含まれる
が、満足すべき結果は値段の低い非置換フェニル基を用
いて得られている。
グリオキシル酸には、その水和物、ヘミアセタール、又
はアセタール誘導体、又はグリオキシル酸のエステルも
含まれ、上て述べたようにエステル基は]〜6個の炭素
原子を有するアルキル基である。全て有効である。
本方法で有用なN−アシルアミツメデルホスホン酸は報
告されている。Synthesis(June 197
8)の第479及び480頁に報告されていることとは
対照的に、簡単なアルキル及びアリールアミドは、三塩
化燐とホルムアルデヒドとの反応で良好な収率てホスホ
ノメチル化されることが見出され、それが本方法の第一
工程として言及するところのものになっている。
り゛リオキシル酸とN−アシルアミノメチルホスホン酸
とのモル比は、N−ホスホノメチルクリシンの収率に影
響を与える。定量的収率を得るためには1モルのN−ア
シルアミノメチルホスホン酸対2モル以上のグリオキシ
ル酸を用いるのが好ましい。1.2より小さなモル比を
用いることも出来るか、N−ホスホノメチルグリシンの
収率は低下する。
本発明の方法には、水又は鉱酸水溶液中でN−アシルア
ミノメチルホスホン酸とグリオキシル酸とを加熱し、−
度に加水分解/還元アルキル化を行なわせ、N−ホスホ
ノメチルグリシンを与えることが含まれる。精製された
N−アシルアミノメチルホスホン酸又はホスホノメチル
化反応から取り出された粗製油でも用いることができ、
満足な結果を与える。粗製未分離N−アシルアミノメチ
ルホスホン酸を使用することにより、費用のかかる分離
工程がいらなくなり、全収率が向上し、廃棄物量が減少
する。このことは本発明で達成しようとしていることで
ある。
反応の温度は広い範囲以内で変えることができる。外囲
温度を用いることができるが反応は遅くなり、好ましく
は少なくとも50℃、−層好ましくは少なくとも70℃
の温度を用いる。この−段階加水分解/還元アルキル化
法の上限温度は、N−アシルアミノメチルホスホン酸の
加水分解上の安定性にのみ依存する。従って、反応は還
流温度(約110℃)又は加圧下で約150℃の温度で
行なうことができる。方法の観点から、N−ベンゾイル
アミノメチルホスホン酸、グリオキシル酸及び塩化水素
酸水溶液を用いた場合、約り35℃〜約140℃の温度
が好ましい。
本発明を次の実施例により更に例示するが、それに限定
されるものではない。
実施例1 アセトアミドからN−ホスホツメ ル 1シン50M1
フラスコに、アセトアミド(1,48f、0.025モ
ル)、パラホルムアルデヒド(0,79g、0.026
5モル)及び7111の氷酢酸を導入した。混合物を溶
液になるまで加熱しく〜100℃)、次に室温へ冷却し
た。次に三塩化燐(4,111?、0.03モル)を−
度に添加し、温度は40℃へ上昇した。溶液を107℃
で3時間加熱し、次に蒸発させて55℃で油を得た。
得られた油を、25肩!水中に5.1h(0,55モル
)のグリオキシル酸−水和物を入れたもので処理しな。
溶液を還流下で一晩加熱した。反応溶液のHPLC分析
により、それは、収率69.9%のN−ホスホツメチル
グリシン及び収率7.72%のN−ホルミル−N−ホス
ホノメチルグリシンを含んでいることが示された。
実施例2 実施例1に記載したように、アセトアミド(2,96g
、0.05モル)をホスホノメチル化した。107℃で
3時間加熱した後、メチル2−ヒドロキシ−2−メトキ
シアセテート及び51のH2Oを導入し、反応溶液を蒸
発させて濃厚な油を得た。その油を50ij!の濃HC
Iで処理し、還流下で一晩加熱した。
反応混合物をイオン交換により精製し、6.2FIのN
−ホスホノメチルグリシンを得た。それはアセトアミド
を基にして73.4%の収率に相当する。
実施例3 ベンズアミドからN−ホスホツメ ルグリシン100i
+1フラスコに、ベンズアミド(3,02f、0.02
5=12− モル)、パラホルムアルデヒド(0,79g、0.02
65モル)及び20zlの氷酢酸を導入した。混合物を
溶液になるまで加熱しく〜100℃)、次に水浴中で1
0℃へ冷却した。三塩化燐<3.6g−0,0265モ
ル)を、温度を30℃より低く保ちながら滴下した。溶
液を120℃へ加熱し、120℃に2時間維持した。加
熱した後、溶液を減圧下で蒸発させ、酢酸を除去し、N
−ベンゾイルアミノメチルホスホン酸を油として得た。
油を、グリオキシル酸−水和物(4,85g、0.05
3モル)及び2511の濃HCIで処理し、還流下で8
時間加熱した。得られた溶液のHPLC分析により、ベ
ンズアミドに基づいて収率82.4%のN−ホスホノメ
チルグリシンが存在することが示された。
実施例4 ベンズアミド(6、1g、0.05モル)を、実施例3
に記載した如くホスホノメチル化した。酢酸を蒸発させ
た後、油を、圧力計及び圧力解放弁を具えた250肩f
fフイツシヤー ポーター(F 1sher−P or
ter)瓶へ移した。油をグリオキシル酸−水和物(1
0,4y、0.11モル)を濃HCI(水溶液)30z
N中に入れたもので処理した。混合物を窒素で2.07
X 105N / 訳2(30psi)へ加圧し、油浴
中で130〜138°Cの油温度まで加熱した。周期的
に圧力を解放し、内部圧力を2.90x 105〜3.
58X 105N / x2(42〜52psi)に維
持した。3.5時間後、気体の発生が止まり、反応物を
冷却した。
反応混合物のHPLC分析により、ペンスアミドに基づ
き収率82.5%のN−ホスホツメデルクリシン及び収
率45%のN−ホルミル−N−ホスボッメチルグリシン
が得られたことが示された。
実施例5 込孟只Yカ洟ソリー二斗」)らN−ホスホノメチル乙W
−ン之 フエニルカルハメーt−(3,53y)、ホルムアルテ
ヒド(0,79y>及び酢酸(20肩1りを50肩!フ
ラスコに入れた。こを85℃へ加熱し、次に水浴中で約
15℃へ冷却した。三塩化燐(4,1h)を−度に添加
し、溶液を107°Cへ1時間に亙って加熱した。1.
07°Cで25時間加熱し、室温で一晩撹拌した後、溶
液を蒸発させて油を得た。
油をグリオキシル酸−水和物(5,1g)を251の8
20に入れたものと一緒に加熱し、還流下で12時間加
熱しな。反応混合物のHP L Cによる分析により、
N−ホスホツメデルクリシン(収率21.6%)及びN
、N−イミノメチルホスホン酸(収率15.9%)及び
イミノニ酢酸(収率25゜9%)の存在が示された。
実施例6 50+1フラスコに、N−クロロアセチルアミノメチル
ホスホン酸<0 、2g、0001モル)及びグリオキ
シル酸(0,22,,0002モル)及び2′R1の水
を入れた。
混合物を還流下で12時間加熱しな。得られた溶液のH
PLCによる分析により、N−ホスホノメチルクリシン
(収率76.8%)、N−ホルミル−N−ホスホツメデ
ルクリシン(収率56%)及びアミンメチルホスポンM
(収率35%)の存在か示された。
本発明を、かなり詳細に述べた特定の具体例によって記
述してきたが、これは単なる例示のためであって、別の
具体例及び操作方法が本記載を見ることによって当業者
には明らかになるであろうことは理解されるべきである
。例えば、N−アシルアミノメチルホスポン酸を塩化水
素酸の存在下でグリオキシル酸と一緒にすると、アシル
置換基は対応するカルボン酸に転化され、それは回収し
て本方法で有効なアミド出発材料を製造するのに用いる
ことができる。別の例として、アルキル以外のエステル
の如きグリオキシル酸の他の誘導体を本発明の方法で用
いることができる。従って、記載した本発明の本質から
離れることなく修正を行なうことができる。

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)反応条件下でグリオキシル酸又はその誘導体と、
    式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは1〜約6個の炭素原子を有するアルキル、
    1〜約6個の炭素原子を有するハロアルキル、ベンジル
    及びフェニルからなる群から選択される) によって表されるN−アシルアミノメチルホスホン酸と
    を一緒にすることからなるN−ホスホノメチルグリシン
    の製造方法。
  2. (2)グリオキシル酸対N−アシルアミノメチルホスホ
    ン酸のモル比が少なくとも2:1である請求項1に記載
    の方法。
  3. (3)N−アシルアミノメチルホスホン酸と、グリオキ
    シル酸又はその誘導体とを一緒にし、約50℃〜約18
    0℃の温度へ加熱する請求項1に記載の方法。
  4. (4)温度が約70℃〜約150℃である請求項3に記
    載の方法。
  5. (5)Rがアルキルである請求項1に記載の方法。
  6. (6)Rがメチルである請求項5に記載の方法。
  7. (7)Rがフェニルである請求項1に記載の方法。
  8. (8)水又は鉱酸水溶液の存在下で約70℃〜約150
    ℃の間の温度でグリオキシル酸誘導体と、式▲数式、化
    学式、表等があります▼ (式中、Rは1〜約6個の炭素原子を有するアルキル及
    びフェニルからなる群から選択される)によって表され
    るN−アシルアミノメチルホスホン酸とを一緒にするこ
    とからなり、然も、グリオキシル酸対N−アシルアミノ
    メチルホスホン酸のモル比が少なくとも2:1であるN
    −ホスホノメチルグリシンの製造方法。
  9. (9)鉱酸が塩化水素酸又は硫酸である請求項8に記載
    の方法。
  10. (10)Rがフェニルである請求項8に記載の方法。
  11. (11)鉱酸が塩化水素酸である請求項10に記載の方
    法。
  12. (12)Rがメチルである請求項8に記載の方法。
  13. (13)鉱酸を添加しない水が用いられる請求項12に
    記載の方法。
  14. (14)グリオキシル酸の誘導体がグリオキシル酸のア
    ルキルエステルで、そのアルキル基が1〜約6個の炭素
    原子を有する請求項8に記載の方法。
  15. (15)グリオキシル酸の誘導体がグリオキシル酸のア
    ルキルエステルヘミアセタルで、そのアルキル基が1〜
    約6個の炭素原子を有する請求項8に記載の方法。
  16. (16)実質的に無水反応条件下で、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは上で定義した通りである) によって表されるアミド、パラホルムアルデヒド及び三
    塩化燐を一緒にし、N−アシルアミノメチルホスホン酸
    を分離することなく反応混合物にグリオキシル酸又はそ
    の誘導体を添加することによりN−アシルアミノメチル
    ホスホン酸を製造する請求項1に記載の方法。
JP1107918A 1988-05-02 1989-04-28 N―ホスホノメチルグリシンの製造方法 Expired - Lifetime JPH068304B2 (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
US188930 1988-05-02
US07/188,930 US4851159A (en) 1988-05-02 1988-05-02 Process for the preparation of N- phosphonomethylglycine

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EP (1) EP0341233B1 (ja)
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KR (1) KR910009821B1 (ja)
CN (1) CN1022247C (ja)
AR (1) AR248029A1 (ja)
AT (1) ATE120199T1 (ja)
AU (1) AU606516B2 (ja)
BR (1) BR8902030A (ja)
CA (1) CA1339749C (ja)
DE (1) DE68921787T2 (ja)
ES (1) ES2013216T3 (ja)
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