JPH01313314A - トリクロロシランの製造方法 - Google Patents

トリクロロシランの製造方法

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JPH01313314A
JPH01313314A JP14048688A JP14048688A JPH01313314A JP H01313314 A JPH01313314 A JP H01313314A JP 14048688 A JP14048688 A JP 14048688A JP 14048688 A JP14048688 A JP 14048688A JP H01313314 A JPH01313314 A JP H01313314A
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heteropolyacid
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Kaoru Inoue
薫 井上
Toshihiro Abe
智弘 安部
Keiichi Ikeda
圭一 池田
Masami Murakami
雅美 村上
Noriyuki Yanagawa
紀行 柳川
Masayoshi Ito
正義 伊藤
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/08Compounds containing halogen
    • C01B33/107Halogenated silanes

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は四塩化ケイ素と水素からトリクロロシランを製
造する方法に関する。
従来の技術 近年のエレクトロニクス産業の発展に伴い、多結晶シリ
コン、モノシランガス等の需要は急激に増大しており、
今後益々その需要は増加の一途を辿ることが見込まれて
いる。ここに於てトリクロロシランは上記シリコン物質
の原料として最も大量に利用されているものである0例
えば高純度多結晶シリコンはトリクロロシランの熱分解
によって製造されており、現在全世界での゛高純度多結
晶シリコンの殆どがこの方法で製造されている。又最近
トリクロロシランの不均化反応によってモノシランが製
造される方法が実用化されつつあり、トリクロロシラン
需要は今後その重要性が極めて増大する。しかしながら
、これらの方法においてはトリクロロシランが消費され
ると共に大量の四塩化ケイ素が副生する0例えばトリク
ロロシランの熱分解による高純度多結晶シリコンの製造
に於ては、トリクロロシランの約60%が四塩化ケイ素
として副生じ、又トリクロロシランの不均化によるモノ
シランの製造においては、実質的にモノシランの3倍モ
ルの四塩化ケイ素が副生ずる事になる。従ってこの副生
じた四塩化ケイ素は例えばアエロジル等の原料として利
用する事でトリクロロシランの生産価格を低減する方法
等が知られているが、実質上置も優れた四塩化ケイ素の
利用方法はこれを再びトリクロロシランに変換し、上記
方法の原料として再利用する事である0例えば四塩化ケ
イ素をトリクロロシランに変換する事によって、トリク
ロロシランの不均化によるモノシランの製造は、実質的
に金属ケイ素と水素によってモノシランを製造するプロ
セスに帰着し、このプロセスは最近実用化されつつある
従って四塩化ケイ素をトリクロロシランに変換する技術
は極めて有用であり、特にこれを安価、簡便かつ効率よ
く行う事はプロセスの経済上極めて重要である。
従来、四塩化ケイ素をトリクロロシランに変換する方法
としては次の方法が知られている。
(1)四塩化ケイ素と水素を1000°C又はそれ以上
で反応させトリクロロシランを製造する方法。
(2)四塩化ケイ素、水素及び金属ケイ素を500℃付
近で反応させトリクロロシランを製造する方法。
(3)四塩化ケイ素、水素、金属ケイ素及び塩化水素を
500℃付近で反応させトリクロロシランを製造する方
法。
(1)の方法に関しては、例えば特開昭57−3711
号に於ては1100〜1600℃で水素及び四塩化ケイ
素を上記温度の発熱体に吹き付ける方法で、トリクロロ
シランが約60%の収率で得られている。又特開昭57
−156318号では、第一段目で900℃の温度にお
いて水素と四塩化ケイ素をモル比11x/5iC1n=
2で反応させ、25%9収率でトリクロロシランを得て
いる。特開昭59−45920号に於ては、プラズマ中
で四塩化ケイ素と水素を反応させてトリクロロシランを
得ている。特開昭60−81010号に於ては、120
0〜1400℃の温度範囲で四塩化ケイ素と水素を反応
させて、約30%の収率でトリクロロシランを得ている
(2)の方法は(1)の方法に比較して比較的低温で反
応が進行し熱的に有利な方法であるといえる。
又(2)の方法で更に有効に反応を進行させる為に塩化
水素ガスを使用する(3)の方法も当然の事乍ら同様な
特徴を有している。(2)及び(3)の方法に関しては
触媒を用いる事が有効であり、銅化合物又は金属鋼を触
媒としている0例えば特開昭56−73617号に於て
は、w4粉を触媒として350〜600°Cで流動床反
応を行い、トリクロロシランを得てイル、又特開昭58
−11042号に於ては、[fffl持又は銅及びニッ
ケルを担持した触媒を用いて反応を行いトリクロロシラ
ンを得ている。
これらの方法に於て例えば(1)の方法ではかなり高い
四塩化ケイ素の転化率でトリクロロシランが得られるが
、とりわけ30%以上の収率でトリクロロシランを得る
為には、1000℃以上の高温で反応を行う為これに費
やす熱量は真人なものである。
加えて高温反応である為、塩化ケイ素による反応器等の
腐食が激しく、更に望ましくない高分子量の塩化ケイ素
類が不可避的に副生ずる等の欠点を有しており、未だ実
用化には程遠い。
これに対し、(2)及び(3)の方法は熱力学的見地か
らもトリクロロシランの製造に有用な方法であり、前記
した様にトリクロロシランの不均化によるモノシランを
製造する方法で副生ずる四塩化ケイ素からトリクロロシ
ランを製造する事は、特に(2)の方法では実質的には
金属ケイ素と水素からモノシランを製造する事となる為
、非常に有用な方法であるといえる。尚、(3)の方法
に於てはトリクロロシランの収量は多いが、塩化水素は
四塩化ケイ素のトリクロロシランへの変換には関与せず
、実質的には金属ケイ素からトリクロロシランを合成す
る事となる。従って四塩化ケイ素の再利用という観点か
らすれば(2)の方法よりは幾分有用性は劣るが、一方
トリクロロシランの収量が多いという利点も有しており
、塩化水素を少量使用する事によりその特徴を全厚させ
る事が望ましい。
更に、これら(2)及び(3)の方法を組合せたプロセ
スも知られている(特開昭60−36318号)。
以上の方法に於て四塩化ケイ素の有効再利用という観点
からすれば(2)の方法が最も優れており、又トリクロ
ロシランの生成という観点からすれば(3)の方法も優
れた方法であり捨て難い、即ち(2)又は(3)の方法
は経済性も高く、特に(2)の方法は現在本命の方法と
して実用化されつつある。
然し乍ら、(2)の方法に於ては、反応温度は通常50
0〜600℃で行われており、300℃程度の低温では
反応は殆ど進行せず、実質的にトリクロロシランが生成
した例はない、又この(2)の方法に於ては従来大量か
つ連続的にトリクロロシランを製造する場合には、気体
一固体相流動床装置が用いられている。然し乍らその場
合、500〜600℃と高い温度で行う為、原料塩化シ
ランは高温領域では腐食性が大きく、工業的にトリクロ
ロシランを製造するには装置の腐食が大きな問題となり
、更には、高温である為高分子量のクロロシラン類の生
成によるトリクロロシランの選択率の低下、又熱量の大
量使用といった、工業化の為には更に解決されるべき多
(の欠点を有している。
発明が解決しようとする課題 本発明の課題は、四塩化ケイ素と金属ケイ素及び水素と
の反応でトリクロロシランを製造するに際し、従来の触
媒に比べて極めて反応活性の高い触媒を見出し、300
℃以下の反応温度領域に於ても極めて有効にトリクロロ
シランを製造し且つ気相反応に於ても触媒成分の揮発の
ない経済的利点のある方法を提供することにある。
課題を解決するための手段 本発明者らは、上記!1題を達成するために鋭意検討し
た結果、特定の触媒の存在下に、トリクロロシランの熱
分解による多結晶シリコンの製造又はトリクロロシラン
の不均化反応によるモノシランの製造に於て副生ずる四
塩化ケイ素をトリクロロシランに変換し四塩化ケイ素を
有効に利用する極めて経済性の高い方法を見出し、本発
明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、 四塩化ケイ素と金属ケイ素を、水素又は水素及び塩化水
素と反応せしめてトリクロロシランを製造する方法にお
いて、該四塩化ケイ素を液体又は気体状態として、該反
応系を気体−液体一固体又は気体一固体の不均一相反応
とすると共に、該不均一反応を、金属銅及び/又は銅化
合物、ハロゲン化アルミニウムの溶融塩及びヘテロポリ
酸の陽イオン交換体の存在下に行う事を特徴とするトリ
クロロシランの製造方法である。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明で行う四塩化ケイ素のトリクロロシランへの変換
は、基本的に次式 %式%(1) で表わされる。この反応は、平衡反応であり、温度が高
い程、Ha/5iC1*モル比が高い程、反応圧力が高
い程、右方向に進行する。又温度に関しては300℃程
度より高い際には、温度を高くした割には平衡組成は顕
著にトリクロロシランに有利とはならず、寧ろ熱量が過
大となる事の方が経済的に大きく影響する。従って出来
るならば400℃以下の低温領域で行う事が経済的とな
る。ここに於て今迄に300°C前後の低温でトリクロ
ロシランを製造した例は知られていなかったが、本発明
に於ては、上記反応を金属銅及び/又は銅化合物、ヘテ
ロポリ酸の陽イオン交換体及びハロゲン化アルミニウム
とアルカリ金属のハロゲン化物からなる溶融塩の存在下
に行う事で、300°C程度の低温でさえもトリクロロ
シランを収率よく製造する事を可能ならしめたものであ
る。又当然の事であるが、塩化水素ガスを本発明反応系
内に加える事によってトリクロロシランの収量を増大さ
せる手段を採用してもよい。
ここに於て本発明で使用するハロゲン化アルミニウムの
溶融塩の有効性について述べる。
本発明に於てハロゲン化アルミニウムが反応に有効に関
与している事が当然推定される。然し乍ら、これらハロ
ゲン化アルミニウムの多くは、通常の反応温度更にはそ
れ以下の温度に於てさえも頗る連発性が高い為に、反応
系に添加してもその系内から揮発して有効に反応に作用
しない事が反応形態によっては生じる欠点を有している
1例えば塩化アルミニウム及び臭化アルミニウムでは2
00 ’C以下で容易に渾発し、固体−気体の流通反応
ではこれらのハロゲン化アルミニウムは反応を例え20
0℃以下で行ったとしても有効に利用され難い。これら
の欠点は、本発明の如(ハロゲン化アルミニウムをアル
カリ金属との溶融塩とする事で解消され、その結果上記
反応に関してそのハロゲン化アルミニウムの効果を阻害
する事無く且つハロゲン化アルミニウムの揮発が完全に
抑制され、前記反応は極めて効率的に可能になった。
本発明に使用する金属ケイ素の純度は特に限定するもの
ではなく、冶金ケイ素の98%程度の低純度品でも高純
度ケイ素であっても構わない、経済的な観点からすれば
、前者でも充分好結果が得られる為これを使用する事が
好ましい、又金属ケイ素の形態は問わないが、反応速度
の観点から表面積の大きい粉末状で使用する事が推奨さ
れる。勿論、粒状等他の形態で使用することも可能であ
る。
本発明で使用する金属銅は、特に限定するものではな(
、通常市販の電解銅が用いられるが、その他還元刷も使
用可能である。純度に関しては其程間則にする必要はな
い、又その形態は問わないが、反応速度の観点から表面
積の大きい粉末状で使用することが好ましい、勿論、粒
状等他の形態で使用する事も可能である。更に銅化合物
としては銅の塩化物、硫酸塩及び硝酸塩等が挙げられ、
反応形態上塩化物を用いることが好ましい。
又本発明で使用する溶融塩は、ハロゲン化アルミニウム
とアルカリ金属のハロゲン化物を規定量の割合に混合し
加熱溶融させたものである。この時ハロゲン化アルミニ
ウムとアルカリ金属のハロゲン化物との割合は、任意に
決定する事が可能であるが、好ましくはハロゲン化アル
ミニウムとアルカリ金属ハロゲン化物とのモル比で5=
1〜1:5の範囲で行うことが推奨される。余りにも一
方の化合物が多い場合には好ましい溶融状態を得る事は
難しい、然し乍ら本発明に於てはこれらの組成を熱論限
定するものではない。
次に本発明で使用するハロゲン化アルミニウムは、アル
ミニウムの弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物であり、
好ましくは塩化アルミニウムを用いることが経済性及び
設備の耐腐食性の観点から推奨される。又本発明におい
てはこれらハロゲン化アルミニウムの一種又は複数種か
ら形成される溶融塩を用いて行う事もできる。
更に本発明においてハロゲン化アルミニウムとの溶融塩
に使用するアルカリ金属のハロゲン化物は、元素記号で
Li、  Na 、 K %Rh%Cs 、 Frで表
わされる金属の弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物であ
る。更に好ましくは経済性、耐腐食性等の観点から塩化
ナトリウム、塩化カリウム等塩化物が推奨される。又こ
れらの一種若しくは二種以上を用いて本発明に提供する
ことも゛可能である。
又本発明に於て使用するヘテロポリ酸の陽イオン交換体
は、モリブデン及び/又はタングステンの酸化物を主体
としたものであり、−i式%式% で示される化合物である。但し、ここに於てnl、M2
は金属元素を表わし、Xはへテロポリ酸中の水素イオン
とイオン交換した陽イオンを示す、?11としてはP 
、 St、  Co 、 Cr、  Mn 、 Ni等
が挙げられ、通常この金属元素は中心原子若しくはヘテ
ロ原子といわれるものである。又M2としては一般的に
V等の金属原子である。更にXとしては通常陽イオンと
なりうる元素であり、具体的にはLi、 Na。
K等のアルカリ金属元素、Mg、  Ca等のアルカリ
土類金属元素、AI、更にはTi、  Zr 、 V 
、 Nb、 Cr。
F’lOs H、Hns Res Ff3s Rus 
O3,COs Rhs Njs PLPt、 Cu、 
Ag%Au%Cd、 Hg、 Zn等の遷移金属元素な
どが挙げられる。又その他陽イオンを形成する化合物等
としては、例えばアンモニウムといったものも挙げられ
る。又一般的にはaは1又は2の値をとり、bはO又は
lの値であり、Cは10〜20前後の整数、dは40程
度の整数をとる。更にe及びfは陽イオン金属の価数と
母体となるヘテロポリ酸の水素イオン数から決定され、
例えばリンモリブデン酸 HiPMo+zOn。を二価
のニッケル又は銅イオンでイオン交換する場合には、e
−1の時にはf−1、e−1,5の時にはf−0となる
ように、個々のへテロポリ酸と金属の価数によって決定
される。
具体的には、例えばリンモリブデン酸、ケイモリブデン
酸及びこれらのMo、  一原子の一つ又は二つ以上を
V原子に置き換えた構造を有するヘテロポリ酸等とアル
カリ性を示す金属化合物又はアミン、アンモニア等の塩
基性化合物との中和反応によって又は弱酸(ヘテロポリ
酸より弱い酸)の塩(炭酸塩、酢酸塩など)との反応に
よって通常水溶液中で調製される0本発明に於てはこれ
らのへテロポリ酸の塩を溶媒除去した後、200″C以
上、好ましくは300〜600℃の温度で加熱処理をし
たものを用いる。
次に本発明に於ける四塩化ケイ素のトリクロロシランへ
の変換方法について述べる。
変換方法は基本的には上記(1)式に従って行われるが
、本発明に於ては、反応は気体相−固体相の所謂気−固
相の不均一反応系で行う、又四塩化ケイ素の臨界温度以
下で四塩化ケイ素が液体状態として気体−液体一固体の
不均一反応を行う事も可能である。又反応に使用する水
素は予め反応に不活性な媒体(気体)、例えばアルゴン
、ヘリウム及び/又は窒素等で稀釈して用いても構わな
いが、反応平衡、反応速度及び経済的な観点から水素単
独で使用することが好ましい、又通常水素中に予期され
る不純物を含んでいても差し支えなく、更には加圧反応
を行う際には水素を同時に加圧媒体とする事が好ましい
、又反応条件に於いて原料、生成物、金属銅及び/又は
銅化合物、ハロゲン化アルミニウム、アルカリ金属のハ
ロゲン化物等に対して不活性(反応を起こさない)な溶
媒、例えばn−ヘキサン、n−へブタンに代表される脂
肪族炭化水素、シクロヘキサン、シクロオクタンに代表
される脂環式炭化水素及びベンゼン、トルエンに代表さ
れる芳香族炭化水素等を使用する事も可能である。
又反応温度については敢えて規定はしないが、実質的に
反応を進行させる為には150℃以上、好ましくは20
0〜650°Cで行う事が反応平衡の観点から更には反
応速度上の観点からも好ましい、尚本反応を行うに際し
て原料として仕込む四塩化ケイ素中に反応平衡量以下の
トリクロロシランが混在していても構わなく、この事は
反応によって生成したトリクロロシランを1留等により
分離する際に四塩化ケイ素中にトリクロロシランが残存
していても使用可能である事を意味するが、好ましくは
反応平衡上トリクロロシラン含有量ができるだけ少ない
四塩化ケイ素を使用する事が実質的にトリクロロシラン
の生成量が多くなり望ましい。
次に本発明における原料、金属銅及び/又は銅化合物、
ハロゲン化アルミニウム、アルカリ金属のハロゲン化物
及びヘテロポリ酸の陽イオン交換体等の添加物の使用量
について述べる。本発明に於ける金属ケイ素の使用量は
特に限定はしないが、バッチ式で行う場合は四塩化ケイ
素に対して1重量%以上で行う事が好ましく、この値未
満であると反応と共に金属ケイ素が消費され、有効に反
応が行いえな(なる恐れがある。又金属銅及び/又は銅
化合物に関してはその量は特に限定はしないが、仕込金
属ケイ素に対する金属原子比(g−ats+s/g−a
tms)を0.5%以上として反応を行う事が、又仕込
金属ケイ素に対するハロゲン化アルミニウムの原子比を
0.1%以上として反応を行う事が好ましい、更には使
用溶融塩を反応溶媒的、つまりは金属ケイ素に対して重
量比で数倍又はそれ以上使用する事も可能である。
又へテロポリ酸の陽イオン交換体の使用量に関しても特
に限定はしないが、金属ケイ素に対して0.5重量%以
上で使用することが好ましい。
次に本発明を実施するための具体的な態様について述べ
る。前記した欅に本発明における反応は150℃以上で
行うことが好ましく、さらに加圧(水素加圧が好ましい
)状態で行われることが好ましく、また流通反応法若し
くはバッチ式反応の何れかの方法で行うことも可能であ
る。
本発明における実施方法に関しては特に限定はしないが
、実施し易い方法として以下の方法が挙げられる。勿論
これらの方法に本発明は限定されるものではない。
(1)オートクレーブ中に所定量の四塩化ケイ素、金属
ケイ素、金属銅及び/又は銅化合物、ヘテロポリ酸の陽
イオン交換体及びハロゲン化アルミニウムとアルカリ金
属ハロゲン化物からなる溶融塩を入れた後、所定の圧力
に水素で加圧し、その後加熱撹拌反応を行う方法。
(2)予め所定温度、及び水素で所定圧に保たれた加圧
反応器中に所定量の四塩化ケイ素、銅及び/又は銅化合
物、ヘテロポリ酸の陽イオン交換体及びハロゲン化アル
ミニウムとアルカリ金属ハロゲン化物との溶融塩を連続
的に導入し反応を行う方法。
(3)予め金属ケイ素、銅及び/又は銅化合物、ヘテロ
ポリ酸の陽イオン交換体及びハロゲン化アルアミニウム
とアルカリ金属のハロゲン化物からなる溶融塩を反応器
中に入れ、所定温度に保ちながら、水素加圧で四塩化ケ
イ素及び水素を連続的に導入し且つ生成ガスを連続的に
抜出し乍ら反応を行い、必要に応じて金属ケイ素、金属
銅及び/又は銅化合物、ヘテロポリ酸の陽イオン交換体
及び溶融塩を間歇的もしくは連続的に導入する方法。
実施例 以下本発明を実施例によって具体的に説明する。
尚本実施例に使用したヘテロポリ酸の陽イオン交換体は
総て400℃、2hrで加熱処理を行ったものである。
実施例1 下部にガラスフィルターを取りつけ固体を保持できるよ
うにした内径11−一のパイレックス製反応管に、ケイ
素(純度98%約200メツシエ)、金属銅粉末(化学
用、約200メツシユ)、塩化ナトリウムと塩化アルミ
ニウムの溶融塩(溶融温度200℃、AlClコ/Na
CL、1モル比)及びリンモリブデン酸の種々の陽イオ
ン交換物(ヘテロポリ酸の水素イオンを総て交換するこ
とを目的として陽イオン類は総てへテロポリ酸の酸当量
よりも1.1倍当量過剰として陽イオン交換物を調製し
た。)からなる混合物(AI成Cu/SiJOwL%、
AlC11/CuJ、5モル比、ヘテロポリ酸の塩/C
u−125wt%)を2.1 af充填し、この混合物
をシリカウールではさみ固定した0反応管内をヘリウム
でよく置換した後、四塩化ケイ素を0℃に保ち、所定流
量の水素によってバブリングさせ、水素と共に混合ガス
として反応管に導入させた(この時四塩化ケイ素の蒸気
圧から計算したHz/5iCIaモル比は9.3であワ
た。)。
反応管を所定温度に保持してトリクロロシランの生成反
応を行った。各種へテロポリ酸の塩、反応接触時間、反
応温度による結果はガスクロマトグラフィー分析によっ
て求めた。
第1表に示したように低温反応に於ても非常に優れた反
応成績が得られた。尚反応生成ガス組成は反応が定常に
なった後の値を掲げている。又原料混合ガスを理想気体
とし、昇温による体積膨張を計算し、混合ガスの所定温
度における流量計算を行い、この流量で仕込固体体積を
割った値を便宜上接触時間とした。
第1表 交換陽  反応器 接触時間 TCS/(TC5+5T
C)イオン  度 ”(:    sec     m
o1%(NH4)″  400  2.3    24
.3(NH4)”   400  1.4    24
.1(NH,) ”   400  0.8    2
4.6 (平衡)(N)Ia)’   300  12
.0    21.3(NH4)”    300  
 6.5      16.4(N)1.)”    
300   2.8      13.9(Ni)” 
    400   0.8      24.5(N
i)”     300   12.0      2
1.0(Ni)”     300   6.5   
   17.3(Ni)”     300   2.
8      14.6(Cu)”     400 
  0.8      24.7(Cu) ”    
 300   6.5      17.7(Na)”
      400   0.8      24.3
(Na)”      300   6.5     
 17.7(Cr)”     400   0.8 
     24.1(Cr)”     300   
6.5      16.1(Co)”     40
0   0.8      22.4(Co) ”  
   300   6.5      10.2(AI
)”     400   0.8      24.
4(AI)”     300   6.5     
 15.9TC3−)リクロロシラン、STC・四塩化
ケイ素TC5/ (TC3+5TC)・反応生成ガス中
のTC3組成実施例2 交換した陽イオンを(Ni)”とし、種々のへテロポリ
酸で交換したものを調製し、これを実施例!で用いたヘ
テロポリ酸塩の代わりとして用い、その他ケイ素、金属
銅粉末及び溶融塩は実施例1と同一とし、更に各々の添
加成分のケイ素に対する組成は実施例1と同一とし、実
施例1と同一の反応装置、同一の反応方法によってトリ
クロロシランの生成反応を行った。
第2表に示したようにそれぞれのへテロポリ酸塩を用い
てもよい反応活性が認められた。
第2表 ヘテロ 反応温度 接触時間 TCS/ (TC5+5
TC)ポリ酸    ”Csec    mo1%ケイ
Mo酸 400   0.8     24.6ケイM
o酸 300   6.5     17.9リン−酸
 400   0.8     24.7リン胃酸 3
00   6.5     17.3ケイ−酸 400
  0.8    24.5ケイ−酸 300  6.
5    17.3ケイMo9:ケイモリブデン酸 リン胃酸:ケイタングステン酸 比較例1 ヘテロポリ酸の塩としてはリンモリブデン酸のニッケル
塩を用いて、次のようにブランクテストを行った。各添
加物のケイ素に対する組成は実施例1と同一とし、実施
例1から銅粉末を除いた固体混合物、溶融塩を除いた固
体混合物、ヘテロポリ酸の塩を除いた固体混合物及びヘ
テロポリ酸の塩と溶融塩を除いた固体混合物を実施例1
と同一の反応管に同一容量充填し、実施例1と同一の反
応方法によってトリクロロシランの生成反応を行った。
第3表に掲げたように反応温度を500℃と高くしても
、どの場合にも実施例1及び2の結果に比較して極めて
低い活性を示し、本発明の添加物系がこの反応に有効で
あることがわかる。
第3表 (反応温度500℃、接触時間2sec)除去
成分      TC3/(TC5+STC)mo1%
銅粉末           0.0 溶融塩           17.9ヘテロポリ酸の
塩       16.3溶融塩十へテロポリ酸の塩 
  23.4但し、溶融塩とへテロポリ酸を除いた従来
の触媒である銅のみを用いた反応については400℃反
応も併せて行い、その結果接触時間2秒に於ける生成ガ
ス中のトリクロロシランの組成は12.0鋼01%であ
った。この事からも本発明の触媒系が公知の銅触媒に比
較して極めて活性が高い事がわかる。
比較例2 ヘテロポリ酸の塩としてはリンモリブデン酸のニッケル
塩を用いて、実施例1における塩化アルミニウムを溶融
塩としてではなくそのままの形で加えた以外は、実施例
1と全く同一の反応条件(混合固体の組成(Cu/Si
 、 Ni−P−Mo 、 AICIz/Cu)、固体
充填容量、反応方法及び分析方法等)でトリクロロシラ
ンの生成反応を行った。
反応定常時の生成ガスの濃度(TC5/STC+TC5
)mo1%)は、反応温度500℃、接触時間2 se
cで18.2s+o1%であり、実施例1の結果に比較
して極端に低い活性であった。又比較例1の溶融塩を除
いた結果とほぼ同等であった。
尚、反応を行った際にその反応系内の昇温途中で反応管
非加熱部分に白色固体の析出付着が認められた。従って
塩化アルミニウムが揮発し反応系内から除去されたもの
と思われる。
実施例3 ヘテロポリ酸の塩としてリンモリブデン酸のニッケル塩
を用い、溶融塩をに、Cl−AlC1z(1:l+mo
l比)に代えた以外は、全〈実施例2と同一の添加物お
よび組成(Cu/Si 、 AlCl3/Cu及びヘテ
ロポリ酸塩/Cu)として、実施例1〜2と同一の反応
方法によってトリクロロシランの生成反応を行った。
第4表に掲げたようにアルカリ金属を代えた溶融塩を用
いても反応の成績に殆ど影響しない事が判明した。
第4表 反応温度  接触時間  TCS/(TC3+5TC)
400 °C1,4sec         24.6
  mo1%400    0.8     24.3
3006゜5     17.6 実施例4 溶融塩組成をKCI−AICIzJ3/67mol比 
に代えた以外は、固体添加物組成(Cu/Si、  A
lC1z/Cu、ヘテロポリ酸塩/Si)、反応装置、
反応方法及び反応ガス分析方法等を総て実施例3と全く
同一にして、溶融塩の組成のみを変化させて、トリクロ
ロシランの生成反応を行った。
第5表に示したように溶融塩の組成を変化させても反応
成績は殆ど変わらず、余り溶融塩組成が反応成績に影響
しない事がわかる。
第5表 反応温度  接触時間  TC5/ (TC3+5TC
)400℃   1.4sec     23.7 s
o1%400    0.8     24.4300
    6.5     17.7実施例5 固体添加物及びその組成は実施例3と同一とし、これら
添加物のケイ素に対する添加量を実施例3の(1/2)
及び(115)と減少させて、その他は全〈実施例3と
同一の方法で、トリクロロシランの生成反応を行った。
第6表に掲げたように′M媒酸成分(1/2)にしても
反応成績には全く影響しない、又(115)にしても余
り大きく影響しないで、本発明が実施される事が判明し
た。尚、比較の為実施例3の結果も併せて掲げた。
第6表 触媒量率 反応温度 接触時間TC3/(TC3+5T
C)1400℃  1.4sec   24.6 so
1%1    400   0.8   24.31 
   300   6.5   17.6L/2   
400   1.4   24.71/2   400
   0.8   24.91/2   300   
6.5   17.9115   400   1.4
   24.5115   400   0.8   
23.0115   300   6.5   13.
2*:実施例3に対する割合 実施例6 金属銅を塩化銅に代えてCu/Si・2.Owt%とな
るようにし、その他の添加物は総て実施例3と同一とし
、更にケイ素に対する添加量を実施例3の175として
、実施例3と同一の反応装置及び反応方法によってトリ
クロロシランの生成反応をjテっだ、従って触媒の添加
条件は実施例5の触媒量115に於て、金属銅を塩化銅
に変換したことに他ならない。
第7表に掲げたように塩化銅に変換しても同様に充分触
媒活性が認められた。
第7表 塩化銅 反応温度 接触時間 TC3/(TCS+5T
C)CuCIz   400°C0,8sec    
23.6 no1%CuCIg   300   6.
5     14.2CuzCIz   400   
0.8     23.8(:uzClz   300
   6.5     14.4実施例7 ヘテロポリ酸の塩としてケイモリブデン酸のニッケル塩
、溶融塩としてNaCI−AICIz(1:1mol比
、熔融温度200″C)及び銅粉末を用いて、ケイ素に
対するそれぞれの組成(Cu/Si、  AICb15
i 、 ヘテロポリ酸塩/Si)は、総て実施例1と同
一のケイ素混合固体を用いて、内径14−一の下部にS
uS孔板を取り付は固体を保持できるようにしたSuS
製反応管に、上記固体混合物を15jd充填し、固体を
シリカウールで固定し、反応系内を水素で35気圧に加
圧し、所定温度に保持した後、四塩化ケイ素と水素をモ
ル比で1とし、反応管に導入する前に混合及び予備加熱
して、加圧状態でこの混合ガスを反応管に導入して、ト
リクロロシランの生成反応を行った0反応管より排出さ
れた生成ガスは、加圧下でドライアイス−冷媒によって
一70°Cに冷却し、クロロシラン類を凝縮し、水素と
分離した後、凝縮液を採取してガスクロマトグラフィー
によって分析した。尚、反応凝縮液は一定時間間隔で採
取し、更にガスクロマトグラフィーによる分析値(トリ
クロロシランの生成りから一定時間に反応によって消費
されたケイ素の消費量を求め、次にケイ素の消費量から
消費率、体積減少、反応管内体積、この一定時間間隔に
於ける平均体積を求め、この平均体積を加圧及び加熱状
態での水素と  ゛四塩化ケイ素の混合ガスを理想気体
として計算したitで割った値を便宜上接触時間と定義
した。
第8表に掲げたように加圧状態に於ても低温領域でも極
めて効率よくトリクロロシランが生成する事が判明した
第8表 反応温度  接触時間  TC5/(TC5+5TC)
500°C20sec     26.8 a+o1%
500    10      26.7500   
  5      26.4400    73   
   25.5400    57      25.
3400    30      25.7400  
  13      21.3350    90  
    22.4350    70      22
.0350      40        19.8
350      20        14.4比較
例3 固体充填物としてケイ素と金属銅粉末のみ又はケイ素と
塩化第一銅のみとし、その組成はそれぞれケイ素に対し
て10wt%となるように混合して、実施例7と同一の
充填容量、同一の反応装置及び同一の反応方法でトリク
ロロシランの生成反応を行った。
第9表に掲げたように本発明に於ける触媒成分(金属銅
及び/又は銅化合物、塩化アルミニウムの溶融塩及びヘ
テロポリ酸の陽イオン交換物から構成される)に比較し
て、どちらも極端に低い活性であり、この事から本発明
の触媒成分が加圧状態での反応に於いても極めて有効で
ある事がわかる。
第9表 添加物 反応温度 接触時間 TC5/(TC5+ST
C)Cu      500  °C20sec   
  24.5 mo1%Cu      500   
  10       20.2Cu      50
0     7       15.0Cu     
 350    120        ?、OCu 
     350    100       5.O
Cu      350     50       
 2.9CuxC1g    500     40 
      26.9Cu*C1g   500   
  20       23.6CuxClz   5
00     10       18.OCuzCI
g    350    120       7.2
CuzcI2   350    100      
  6.0Cu*C1g    350     50
       3.2実施例日 200 dのオートクレーブに98%ケイ素を30.0
g、ケイモリブデン酸のアンモニウム((N114)”
 )塩を10.3g、 Cu粉末を8.19 gを、N
aCl−AlCl5溶融塩(1:1sol比、溶融温度
200°C)を10.8 g及び四塩化ケイ素を90g
入れ、水素60kg/c*”Gでオートクレーブを加圧
した後、500rpmの撹拌速度で撹拌し乍ら、220
°Cに昇温し、四塩化ケイ素を液体状態のままとして、
220°Cで2時間のトリクロロシランの生成反応を行
った00反応終了後オートクレーブを5℃に冷却しなが
ら反応液を取り出し分析をした。
はTCS/(TC5+5TG)=10.6 mo1%で
トリクロロシランの生成が認められた。
実施例9 ケイモリブデン酸の陽イオン交換物をニッケルイオンに
代えて10.3g仕込んだ以外は、他の充填物及び充填
量等実施例8と全く同一の反応条件及び反応方法でトリ
クロロシランの生成反応を行った。
TC3/(TC5+5TC)=8.9  mo1%であ
った。
実施例1O NaCI−AICIs溶融塩(1:2sol比、溶融温
度200°C)を9.2g加えた以外は、その他の添加
物及び添加量は実施例9と同一とし、更に反応条件及び
反応方法も実施例9と全く同一として、トリクロロシラ
ンの生成反応を行った。
反応液中のトリクロロシランはTCS/ (TC5+5
TC)・8.2mo1%となり、溶融塩組成に殆ど影響
されずにトリクロロシランの生成が認められた。
発明の効果 本発明は、四塩化ケイ素をトリクロロシランへ経済的に
変換する極めて有効な方法であり、且つ該変換反応を有
効に遂行させ得る触媒を提供するものである。
従来四塩化ケイ素のトリクロロシランへの変換反応は、
500〜600°Cの高温で行うことを余儀なくされて
いたが、本発明を遂行することにより、その高い反応活
性を有する触媒を使用するため、かってない300℃程
度の低温領域においても円滑に且つ有効に該変換反応を
遂行することが可能となった。加えて本発明においては
、その触媒成分の揮発を防止することに成功したため、
該反応を高い効率で且つ定常的に遂行することが可能と
なった。更に驚くべきことには、本発明においては、四
塩化ケイ素をその臨界温度以下の液体状態として反応を
行うこともできる。
又当然のことながら、低温で該反応を可能とした結果、
反応装置等の腐食も大幅に抑制することが可能となった
以上のように本発明を実施することにより、その高い反
応活性の観点から反応設備の縮小、小型化、その低温高
活性の観点から従来法に比較して大幅なエネルギーの低
減、低温反応遂行による装置等の腐食の抑制の観点から
材料費の低減化且つ耐用年数の長期化、加えて触媒成分
等の揮発の抑制の観点から原料費等の低減且つプロセス
上のトラブルの抑制等、経済的にも更には工業的にも極
めて有益に該反応を遂行することが可能となる。
特許出願人  三井東圧化学株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 四塩化ケイ素と金属ケイ素を、水素又は水素及び塩
    化水素と反応せしめてトリクロロシランを製造する方法
    において、該四塩化ケイ素を液体又は気体状態として、
    該反応系を気体−液体−固体又は気体−固体の不均一相
    反応とすると共に、該不均一反応を、金属銅及び/又は
    銅化合物、ハロゲン化アルミニウムの溶融塩及びヘテロ
    ポリ酸の陽イオン交換体の存在下に行う事を特徴とする
    トリクロロシランの製造方法。 2 ハロゲン化アルミニウムの溶融塩がハロゲン化アル
    ミニウムとアルカリ金属のハロゲン化物から構成される
    請求項1に記載の方法。 3 ハロゲン化アルミニウムが塩化アルミニウムである
    請求項1に記載の方法。 4 アルカリ金属のハロゲン化物がナトリウム又はカリ
    ウムの塩化物である請求項2に記載の方法。 5 ヘテロポリ酸の陽イオン交換体がモリブデン又はタ
    ングステンの酸化物を主成分としたものである請求項1
    に記載の方法。 6 ヘテロポリ酸の陽イオン交換体が300〜600℃
    で加熱脱水されたものである請求項5に記載の方法。 7 ヘテロポリ酸の陽イオン交換体がヘテロポリ酸の水
    素イオンの一部又は全部が陽イオンとイオン交換したも
    のである請求項1に記載の方法。 8 ヘテロポリ酸の水素イオンとイオン交換する陽イオ
    ンがアンモニウム、亜鉛、鉄、ニッケル、コバルト、銅
    、マンガン、クロミウム、ナトリウム、カリウム、リチ
    ウム、カルシウム又はアルミニウムである請求項7に記
    載の方法。 9 銅化合物が塩素化銅である請求項1に記載の方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006098722A1 (en) * 2005-03-09 2006-09-21 Rec Advanced Silicon Materials Llc Process for the production of hydrochlorosilanes
CN103787339A (zh) * 2014-01-02 2014-05-14 河南科技大学 离子液体介质中四氯化硅液相冷氢化制备三氯氢硅的方法
JP2015536298A (ja) * 2013-09-30 2015-12-21 エルジー・ケム・リミテッド 卜リクロロシラン製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006098722A1 (en) * 2005-03-09 2006-09-21 Rec Advanced Silicon Materials Llc Process for the production of hydrochlorosilanes
JP4813545B2 (ja) * 2005-03-09 2011-11-09 アールイーシー シリコン インコーポレイテッド ヒドロクロロシランの製造方法
JP2015536298A (ja) * 2013-09-30 2015-12-21 エルジー・ケム・リミテッド 卜リクロロシラン製造方法
US9643851B2 (en) 2013-09-30 2017-05-09 Lg Chem, Ltd. Method for producing trichlorosilane
CN103787339A (zh) * 2014-01-02 2014-05-14 河南科技大学 离子液体介质中四氯化硅液相冷氢化制备三氯氢硅的方法

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