JP3553469B2 - メチルクロロシランを直接合成するための連続法 - Google Patents

メチルクロロシランを直接合成するための連続法 Download PDF

Info

Publication number
JP3553469B2
JP3553469B2 JP2000238961A JP2000238961A JP3553469B2 JP 3553469 B2 JP3553469 B2 JP 3553469B2 JP 2000238961 A JP2000238961 A JP 2000238961A JP 2000238961 A JP2000238961 A JP 2000238961A JP 3553469 B2 JP3553469 B2 JP 3553469B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
catalyst
selectivity
methylchlorosilane
chloride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000238961A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001081094A (ja
Inventor
カルヒアウアー ヴィルフリート
シュトラウスベルガー ヘルベルト
シュトレッケル ヴィリバルト
グロース ヨッヘン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wacker Chemie AG
Original Assignee
Wacker Chemie AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wacker Chemie AG filed Critical Wacker Chemie AG
Publication of JP2001081094A publication Critical patent/JP2001081094A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3553469B2 publication Critical patent/JP3553469B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • C07F7/16Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、クロロメタンを、ケイ素および銅触媒を含む触媒組成物と反応させて、メチルクロロシランを直接合成するための連続法に関する。
【0002】
ミュラー−ローコウ(Mueller−Rochow)の直接合成法では、塩化メチルを、銅触媒および好適な助触媒の存在下にケイ素と反応させてメチルクロロシランを取得し、さらにこの際、目的生成物であるジメチルジクロロシランに関し、最高可能収量(時間単位および反応容積あたりで形成されるシランの量)および最高可能選択性も要求される。ジメチルジクロロシランは、例えば直鎖状ポリシロキサンの製造に必要である。
【0003】
直接合成は、バッチワイズであるいは連続的に実施でき、工業的な生産においては、連続法が有利である。連続直接合成法は、流動層反応器中で実施され、ここで、塩化メチルは流動化媒体としてだけでなく反応体としても使用される。最初に、所望のケイ素を大きくても700μmを越えない程度の粒度を有する粉末にまで破砕し、銅触媒および助触媒と混合し、触媒組成物を製造する。
【0004】
反応器を連続して操作する際、メチルクロロシランの製造速度および目的生成物であるジメチルジクロロシランの選択性は、十分安定した生産フェーズを経て低下する。それ故、生産活動を一定期間後に終了させなくとはならない。従って、生産活動は、通常、数日から数週間しか継続しない。
【0005】
生産活動を停止した後、反応器を空にし、ケイ素、銅触媒および助触媒を再装入してから反応条件に戻す。一定の誘導フェーズを経て、粗シランの形成が開始される。その後、開始フェーズに入る。すなわち、反応は最初のうち、低選択性および低反応性で進行する。その後、反応器は、安定した生産フェーズに再到達する。このことから、生産速度の上昇により、直接合成の経済効率は、一定の選択性を保持して向上すると考えられる。
【0006】
直接合成の反応性および選択性は、使用する触媒ならびに助触媒に深く依存する。
【0007】
US−Re33452には、例えば銅、亜鉛および錫元素あるいは化合物を組み合わせた触媒を使用した直接合成について記載されている。銅、亜鉛および錫のそれぞれの触媒の混合比は、方法、特に生産性および選択性に絶大な影響を及ぼし、金属、合金あるいは化学化合物のような、触媒を触媒組成物へ組み込む際の形状は、2次的な重要事項である。
【0008】
K.M. LewisおよびD.G. Rethwischにより編集された”Catalyzed Direct Reactions of Silicon”、Elsevier、1993、第1章 ”Commercial Production of Silanes by the Direct Synthesis”、B.Kenner、K.M. Lewis、12頁には、工業的に大規模で実施する方法において使用される、様々な銅触媒が記載されている。例えば、塩化銅(I)は、単独銅成分として使用され、酸化銅および塩化銅(I)の混合物を使用することもあると記載されている。このような混合物を使用する場合、誘導フェーズは短縮され、反応性は上昇する;このような混合物の選択性に対する効果についての情報はない。
【0009】
G. Ertl、H. Knoezinger、J. Weitkampにより編集された”Handbook of Heterogeneous Catalysis” 第4刊、Wiley−VCH;2章(無機反応)の2.5 The DirectProcess to Methylchlorosilane (ミュラー・ローコウの合成法)B. Pachaly、1788頁には、酸化銅で被覆したCuClを大規模な工業的方法で利用することの利点は、反応系中で起こる酸化銅から塩化銅への変換が、CuClからCuSiへの反応よりも遅いことであり、これが実質的な反応中心を成すと記載されている。従って、定常状態のCuCl濃度は非常に低く、塩化銅と金属ケイ素との酸化還元反応によりわずかであるが金属銅が生じ、この金属銅が不所望の副反応を誘起し、これにより選択性が減少し収量が低下する。同時に、異なる銅触媒の様々な混合物の使用の可能性について記載している。
【0010】
W. Noll; ”Chemistry and Technology of Silicones” ; Academic Press
1968、29頁には、金属銅の代わりに塩化銅(I)を使用できることが記載されているが、この場合メチルジクロロシランの割合が増加する、すなわち選択性が低下する。
【0011】
触媒系中で使用する銅触媒の化学特性は、反応性および選択性に関して想像以上の効果を有する。塩化銅(I)は非常に優れた反応性を示すが、反応時間の経過とともに選択性は著しく減少する;酸化銅は優れた選択性が長時間継続すると同時に並の反応性を有する。酸化銅と塩化銅との混合物を触媒として使用する場合、反応挙動は、混合比に基づき、各2成分のうちのひとつによって決定される。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、ジメチルジクロロシランの選択性を保持したまま、生産性を向上させる、ミュラー−ローコウ法に基づいたメチルクロロシランの直接合成法を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は、クロロメタンを、ケイ素、亜鉛助触媒および
a)酸化銅
b)少なくとも80質量%の酸化銅と塩化銅(I)との混合物
c)塩化銅(I)、および
d)少なくとも80質量%の塩化銅(I)と酸化銅との混合物
から選択した銅触媒を含む触媒組成物と反応させて、メチルクロロシランを直接合成するための連続法に関し、この際、銅触媒a)またはb)に次いでc)またはd)、あるいは銅触媒c)またはd)に次いでa)またはb)というように、銅触媒a)、b)、c)およびd)を交替して使用する。
【0014】
本発明は、フェーズごとに、酸化銅から塩化銅(I)あるいはその逆で、銅触媒成分を交換し、各銅成分の負の特性、すなわち酸化銅の並の反応性および塩化銅(I)による選択性の低下、を回避すると同時に、正の特性、すなわち、塩化銅(I)の優れた反応性および酸化銅の長期継続的な選択性、を保持するという見識を基礎とする。
【0015】
例えば、本発明の方法において、銅触媒a)またはb)を含む触媒組成物を用いて反応を開始し、反応性および選択性の面で反応が安定すると同時に銅触媒をc)またはd)に変換する場合、その後に選択性が先に低下してしまうことなく、反応性が速やかに上昇する。選択性が明かに低下し始めるまで、この触媒混合物の使用を継続する。次いで、銅触媒a)またはb)を再装入すると、反応性は維持されたまま、選択性が再度上昇する。選択性が所望の高レベルに到達し、反応性が再び低下し始めると同時に、触媒組成物を銅触媒c)またはd)に戻す。反応器の稼働時間中に、この操作をできる限り頻繁に反復する。
【0016】
反応は、銅触媒c)またはd)を含む触媒組成物で開始することもできる。この場合、選択性の著しい低下と共に、銅触媒を銅触媒a)またはb)に交換する。方法のその他の点は、前記方法と同様である。
【0017】
触媒の交換は、有利に1〜1000時間後、特に有利に5〜200時間後に実施する。
【0018】
銅触媒b)は、有利に、少なくとも酸化銅90質量%含有する。銅触媒d)は、有利に、少なくとも塩化銅(I)90質量%含有する。
【0019】
この方法は、有利に、流動層反応器中で、有利に250〜350℃、特に有利に270〜320℃の温度範囲で実施する。最も容易であるので、通常、周囲大気圧(すなわち約0.1MPa)〜0.5MPaで実施するが、それよりも高圧を使用してもよい。
【0020】
文献に記載される別の添加物を、方法の実施中に、触媒組成物またはガス流へ添加してもよい。しかし、有利には別の添加物を添加しない。
【0021】
有利な実施態様において、ガス流の量を、触媒組成物およびガスの流動層が反応器中で形成するように選択した。ケイ素、触媒および助触媒の混合物を触媒組成物と呼ぶ。未反応のクロロメタンおよび気体のメチルクロロシランを反応器中に残す。場合により、飛沫同伴粒子を気体流から1つ以上のサイクロンを介して分離することができ、触媒組成物の大きな飛沫同伴粒子を反応器中へ再供給した。
【0022】
次いで、粗シランを、残留微粉成分および未反応のクロロメタンから分離し、蒸留した。精製した未反応のクロロメタンを反応器に再供給してよい。
【0023】
触媒組成物を、各成分の室温での簡単な混合により製造した。次いで、反応器中へ導入する前に、触媒組成物の熱処理を実施してもよいが、これは有利な実施態様ではない。
【0024】
方法を連続的に実施する。連続的な実施とは、ある量の反応したケイ素と反応微粉といっしょになって廃棄される触媒および助触媒とを、有利に予め混合した触媒組成物として、連続的に補充することを意味する。
【0025】
本発明の有利な実施態様において、ケイ素を700μmよりも小さい粒度、特に500μmよりも小さくかつ20μmよりも大きい粒度で使用する。使用するケイ素は、通常、99%を上回る純度を有する。
【0026】
本発明の方法で使用する酸化銅は、酸化銅(II)の形、酸化銅(I)の形、あるいは混合酸化物の形である。一般式CuOxで示される混合酸化物の場合、xは、0.5〜1、有利に少なくとも0.7の値である。記載の酸化銅は、例えばUS5306328に記載される方法で製造でき、ここで、酸化率は、乾燥温度および該温度での滞留時間を介して、固有の値に設定することができる。酸化銅はまた、少量の金属銅を含有してよい。銅の計量的な割合は、銅触媒a)、b)、c)またはd)のいずれを使用する場合にも、使用するケイ素に対して計算上0.3〜10質量%、有利に0.5〜7質量%、特に有利に0.8〜5質量%の金属銅を含有する触媒組成物を使用することによって、有利に選択される。
【0027】
本発明の方法において、亜鉛を有利に金属亜鉛の形で使用し、別に更なる助触媒、酸化亜鉛または塩化亜鉛との合金の形で使用してもよい。使用する亜鉛の量を選択し、触媒組成物は、ケイ素に対し金属亜鉛を計算上、0.005〜1.0質量%、有利に0.010〜0.50質量%、特に有利に0.015〜0.35質量%含有する。
【0028】
使用できる別の助触媒は、有利にリン、セシウム、バリウム、鉄、特に、錫またはアンチモン、あるいはそれらの組合せである。
【0029】
本発明の方法において、助触媒を、有利に金属または合金の形で使用する。使用する助触媒の量を選択し、触媒組成物は、ケイ素に対し金属助触媒を計算上、有利に5〜100ppm、特に有利に10〜80ppm、非常に有利に15〜60ppm含有する。
【0030】
以下の実施例において、注記がなければ、
a)全ての量は質量;
b)全ての圧力は0.10MPa(絶対圧力);
c)全ての温度は20℃である。
【0031】
【実施例】
比較可能な条件(温度、圧力、ガスの流速、ケイ素の品質、助触媒:SnおよびZnCl、等)下に、以下の銅触媒を、触媒組成物を連続的に装入し、微粉を再循環させる主要サイクロンおよび微粉を廃棄する後処理用サイクロンを備えた工業規模の流動層反応器(触媒組成物約30トン)中で使用した。データは、安定生産フェーズの値である。
【0032】
例1(本発明の方法ではない):
CuOが長期継続する良好な選択性を有し、同時に並の反応性を有することは公知である。CuOを、US5306328に記載される方法に従って製造した。
【0033】
7日を通して、選択性および反応性は一定の変動範囲内に留まり、すなわち、稼働時の8時間平均は、
1時間あたり粗シラン3.2トン(+/− 0.3)
粗シラン中のジメチルジクロロシラン85.2質量%(+/− 1.7%)
例2:
CuClが、非常に良好な反応性を有するものの、下降傾向の中位の選択性しか有しないことは公知であり、CuOからCuClへの触媒の継続的な交換および復帰により、良好な選択性と同時に高い反応性をも獲得できる。CuClは、Faravelli Chemiehandelsges mbH Germanyからの入手が可能である。CuOから開始した場合、銅触媒を、反応器稼働中の安定した生産フェーズでCuOからCuClに交換する(反応性および選択性については、例1に記載した通りである)。
【0034】
触媒を交換して15時間後、8時間平均として、以下のデータを得た:
1時間あたり粗シラン3.9トン、
粗シラン中のジメチルジクロロシラン86.9質量%;
触媒を交換して72時間後、8時間平均として、以下のデータを得た:
1時間あたり粗シラン4.5トン、
粗シラン中のジメチルジクロロシラン81.0質量%;
(CuClを長時間使用すると、ある時点で選択性が急激に低下することが明かである)。
【0035】
触媒を引き続きCuClからCuOへ交換して復帰させた。
【0036】
触媒を交換して12時間後に、以下のデータを得た:
1時間あたり粗シラン4.5トン、
粗シラン中のジメチルジクロロシラン83.8質量%。
【0037】
触媒を交換して36時間後、8時間平均として、以下のデータを得た:
1時間あたり粗シラン4.0トン、
粗シラン中のジメチルジクロロシラン85.4質量%。
【0038】
触媒を交換して96時間後には、例1の8時間平均を示した。
【0039】
例3
例2に類似した方法
CuO触媒組成物による一定の生産フェーズにおいて、CuClへ触媒を交換する直前の選択性の8時間平均は:
ジメチルジクロロシラン86.9質量%であった。
【0040】
触媒を交換して96時間後、すなわちCuOへの再度の交換の直前における選択性の8時間平均は:
ジメチルジクロロシラン83.4質量%であった。
【0041】
先の触媒交換から16時間後、すなわちCuClへの再度の交換の直前における選択性の8時間平均は:
ジメチルジクロロシラン86.5質量%であった。
【0042】
先の触媒交換から37時間後、すなわちCuOへの再度の交換の直前における選択性の8時間平均は:
ジメチルジクロロシラン84.9質量%であった。
【0043】
先の触媒交換から17時間後、すなわちCuClへの再度の交換の直前における選択性の8時間平均は:
ジメチルジクロロシラン86.8質量%であった。
【0044】
例4(本発明の方法ではない)
例3の後、質量比が3:1のCuOとCuClの混合物を次の触媒交換に使用した;交換して12時間後、選択性は、ジメチルジクロロシラン83.9質量%にまで再度低下した(本発明と異なるCuClとCuOとの混合物では、わずかな正の効果しか得られないことが明かである)。

Claims (3)

  1. クロロメタンを、ケイ素、亜鉛助触媒および
    a)酸化銅
    b)少なくとも80質量%の酸化銅と塩化銅(I)との混合物
    c)塩化銅(I)、および
    d)少なくとも80質量%の塩化銅(I)と酸化銅との混合物
    から選択した銅触媒を含む触媒組成物と反応させて、メチルクロロシランを直接合成する連続法において、銅触媒a)またはb)に次いでc)またはd)、あるいは銅触媒c)またはd)に次いでa)またはb)というように、銅触媒a)、b)、c)およびd)を交替して使用する、メチルクロロシランを直接合成するための連続法。
  2. 触媒の交換を、1〜1000時間後に実施する、請求項1記載の方法。
  3. 追加使用される助触媒が、リン、セシウム、バリウム、鉄、錫またはアンチモンあるいはそれらの組み合わせである、請求項1または2記載の方法。
JP2000238961A 1999-08-11 2000-08-07 メチルクロロシランを直接合成するための連続法 Expired - Fee Related JP3553469B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19937908.4 1999-08-11
DE19937908A DE19937908C1 (de) 1999-08-11 1999-08-11 Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001081094A JP2001081094A (ja) 2001-03-27
JP3553469B2 true JP3553469B2 (ja) 2004-08-11

Family

ID=7917962

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000238961A Expired - Fee Related JP3553469B2 (ja) 1999-08-11 2000-08-07 メチルクロロシランを直接合成するための連続法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6211394B1 (ja)
EP (1) EP1081153B1 (ja)
JP (1) JP3553469B2 (ja)
DE (2) DE19937908C1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10017153C1 (de) * 2000-04-06 2001-05-03 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Direktsynthese von Organochlorsilanen unter Einsatz von zurückgewonnenem CuCI Katalysator
US6717004B2 (en) 2002-07-30 2004-04-06 General Electric Company Method for making alkylhalosilanes
FR2848211B1 (fr) * 2002-12-09 2005-01-14 Rhodia Chimie Sa Procede et systeme catalytique comprenant un metal alcalin et du phosphore comme additifs promoteurs pour la synthese directe d'alkylhalogenosilanes
CN103316702B (zh) * 2012-03-22 2016-05-18 中国科学院过程工程研究所 一种铜基催化剂及其制备方法
CN103508458A (zh) * 2013-09-16 2014-01-15 中国科学院过程工程研究所 一种多孔硅材料及其制备方法
CN112500261B (zh) * 2020-11-30 2023-10-17 云南能投硅材科技发展有限公司 一种有机硅粗单体与氯甲烷分离的节能、精制装置及方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4504596A (en) * 1984-01-30 1985-03-12 Scm Corporation Cupreous catalyst and process for making same
EP1027927A3 (de) * 1995-12-01 2000-09-27 GE Bayer Silicones GmbH & Co. KG Katalysatoren auf Kupferbasis, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung und ein Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen
DE19621795A1 (de) * 1996-05-30 1997-12-04 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen
US5876609A (en) * 1997-03-28 1999-03-02 General Electric Company Process for treating methylchlorosilanes by-products
US6057469A (en) * 1997-07-24 2000-05-02 Pechiney Electrometallurgie Process for manufacturing active silicon powder for the preparation of alkyl- or aryl-halosilanes
DE19752261C1 (de) * 1997-11-14 1999-01-28 H & G Hegmanns Ingenieurgesell Verfahren zur Herstellung von Organohologensilanen

Also Published As

Publication number Publication date
EP1081153A1 (de) 2001-03-07
EP1081153B1 (de) 2001-11-14
DE50000040D1 (de) 2001-12-20
US6211394B1 (en) 2001-04-03
JP2001081094A (ja) 2001-03-27
DE19937908C1 (de) 2000-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20170047373A (ko) 유동상 반응기에서의 메틸클로로실란의 직접 합성 방법
JP2003531007A (ja) 触体の製造方法
KR940010291B1 (ko) 비스실릴알칸 및 그들의 제조방법
US6090966A (en) Preparation of contract mass for alkylhalosilane production and process for producing alkylhalosilanes
US7521574B2 (en) Making of contact mass for organohalosilane preparation and preparation of organohalosilanes
JP3553469B2 (ja) メチルクロロシランを直接合成するための連続法
US4645851A (en) Selective production of dimethyldichlorosilane
US4684741A (en) Selective production of dimethyldichlorosilane
US5512662A (en) Process for preparing methylchlorosilanes
US7153992B2 (en) Process for preparing methylchlorosilanes
EP0436233B1 (en) Method for preparing organohalosilanes
US5981784A (en) Process for preparing organochlorosilanes
JP3362619B2 (ja) アルキルハロシランの製造方法
US7202192B2 (en) Composite catalysts for the direct synthesis of alkylhalosilanes
JPH0259590A (ja) 有機クロルシランの製造法
US5625088A (en) Process for preparing dimethyldichlorosilane
US7205426B2 (en) Process for preparing methylchlorosilanes
US20010020108A1 (en) Process for preparing organohalosilanes
JP3760984B2 (ja) オルガノハロシラン合成用助触媒及びオルガノハロシランの製造方法
JP2511244B2 (ja) トリス(シリル)アルカンとその製造方法
JP2000336092A (ja) メチルクロロシランの直接合成法
KR100785674B1 (ko) 알킬할로실란의 직접 합성을 위한 구리, 인 및 알칼리 금속기재 촉매 조성물
JP3707875B2 (ja) 三塩化珪素の製造方法
JPH1171384A (ja) アルキルハロシランの製造方法
KR20010065810A (ko) 알킬할로실란의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040331

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040428

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S633 Written request for registration of reclamation of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313633

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080514

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090514

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090514

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100514

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110514

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120514

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514

Year of fee payment: 9

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees