KR20170047373A - 유동상 반응기에서의 메틸클로로실란의 직접 합성 방법 - Google Patents

유동상 반응기에서의 메틸클로로실란의 직접 합성 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 클로로메탄과 접촉 조성물과의 반응에 의한 메틸클로로실란의 제조 방법으로서, 규소, 구리 촉매 및 조촉매를 포함하는 혼합물(접촉 조성물 1)을 제1 유동상 반응기(유동상 반응기 1) 내에 공급하고, 200~450℃에서 클로로메탄의 존재 하에 활성 접촉 조성물(접촉 조성물 2)을 생성하고, 접촉 조성물 2의 일부를 유동상 반응기 1로부터 꺼내어 제2 유동상 반응기(유동상 반응기 2) 내로 공급하고 200~450℃에서 클로로메탄과 반응시키며, 여기서 단위 시간당 유동상 반응기 1 내로 100 중량부의 접촉 조성물 1당 20 중량부 이상의 접촉 조성물 2를 재순환시키고, 유동상 반응기 2 내로 공급되고 유동상 반응기 1 내로 재순환되는 접촉 조성물 2는, 유동상 반응기 1로부터 꺼내어진 후, 150℃ 미만의 온도로 냉각되지 않는 것인, 메틸클로로실란의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

유동상 반응기에서의 메틸클로로실란의 직접 합성 방법{METHOD FOR THE DIRECT SYNTHESIS OF METHYL CHLOROSILANES IN FLUIDIZED-BED REACTORS}
본 발명은, 클로로메탄의, 규소, 구리 촉매 및 조촉매(promoter)를 포함하는 접촉 조성물과의 반응에 의한 메틸클로로실란의 직접 합성 방법에 관한 것이다.
뮐러-로코우(Mueller-Rochow) 직접 합성에서, 클로로메탄은 구리 촉매 및 적합한 조촉매의 존재 하에 규소와 반응하여 메틸클로로실란을 생성하며, 표적 생성물 디메틸디클로로실란을 기준으로 매우 높은 생산성(단위 시간 및 반응 부피당 생성된 실란의 양) 및 매우 높은 선택성을 가질 뿐만 아니라, 또한 전체 공장의 안전한 동시에 시간 유연적인 가동(operation)이 요구되는 것과 결합된 매우 높은 규소 이용율을 가진다. 디메틸디클로로실란은, 예를 들어 선형 폴리실록산의 제조에 필요하다.
직접 합성은 배치식으로 또는 연속식으로 수행될 수 있다. 연속식 직접 합성은, 클로로메탄이 유동화 매질 및 반응물로서 동시에 사용되는 유동상 반응기에서 수행된다. 필요한 규소는 사전에 분쇄되어 700　㎛ 이하의 입자 크기를 갖는 분말을 제공하며 구리 촉매 및 조촉매와 혼합되어 접촉 조성물을 생성하며; 이는 신규(fresh) 접촉 조성물(=　접촉 조성물 1)로 지칭된다. 접촉 조성물 1은 유동상 반응기 내로 후속 도입되고 260~350℃ 범위의 온도에서 반응한다. 이는 활성 접촉 조성물(=　접촉 조성물 2), 즉 활성 부위를 포함하는 접촉 조성물을 생성한다. (Lewis and Rethwish, Catalyzed direct reaction of silicon, Stud. Org. Chem. 1993, 49, 107). 메틸클로로실란은 이러한 활성 부위에서 발열 반응으로 생성된다.
미반응 클로로메탄, 기체 메틸클로로실란 및 접촉 조성물 성분은 반응기로부터 꺼내어진다. 높은 규소 이용률을 보장하기 위해, 이러한 성분들은 그 전부 또는 일부가 다시 반응기로 재순환될 수 있다. 예를 들어, 연행된(entrained) 접촉 조성물 입자의 보다 조립질인 부분은 1 이상의 사이클론을 이용하여 기체 스트림으로부터 분리되어 임의로 중간 수집 용기를 경유하여 다시 반응기 내로 재순환될 수 있다. 여기서 접촉 조성물의 활성화된 성분이 존재하기 때문에, 이는 접촉 조성물 2의 부분이다.
매우 세립질의 미립자인, 여전히 높은 비율의 구리 및 규소 외의 부차적 원소를 포함하는 연행된 입자(=　접촉 조성물 3)는, 마찬가지로 기체 스트림으로부터 분리되어야 한다. 이는, 예를 들어, 기체 여과 및/또는 1 이상의 후속 사이클론에 의해 수행될 수 있다. 반응한 입자의 방출과 함께 이러한 절차는 연속 공정을 가능하게 하고 높은 규소 이용율을 보장할 수 있다.
대안으로서, 전체 연행된 고형물 스트림을 분리하여 시스템으로부터 연속적으로 또는 단지 특정 휴지기에서만 방출할 수 있다.
US-A-4281149의 도 1은, 예시로서 반응기, 재순환을 갖는 주 사이클론 및 집진 용기를 갖는 후 사이클론으로 이루어진 이러한 시스템을 도시한다. 미정제 실란은 미반응 클로로메탄으로부터 후속 분리되어 증류로 이송된다. 정제된, 미반응 클로로메탄은 반응기 내로 재공급될 수 있다.
수집된 접촉 조성물 3은 방출되어야 하며, 이는 다양한 부차적인 원소들 및 규소와 함께 도입된 슬래그의 비율이 이 생성물 스트림에 축적되었기 때문이고, 그 전체가 반응기 내로 재순환되는 경우, 선택성은 이들 불순물의 촉매 효과에 의해 크게 감소될 것이다. 마찬가지로, 반응기의 스트림 상의 시간을 감소시킬 수 있는 불활성 부차적 원소의 축적이 일어날 수 있다. 접촉 조성물 1 대 접촉 조성물 2의 비는, 특히 상기 기재된 재순환의 결과로서 크게 달라질 수 있다. 접촉 조성물 2는 활성 접촉 조성물이고 이미 충분한 양의 구리 및 조촉매를 포함한다. 접촉 조성물 2는 비교적 저온에서 클로로메탄과 반응하여 높은 생산성 및 디메틸디클로로실란 선택성으로 실란을 생성할 수 있다. 접촉 조성물 1 및 접촉 조성물 2가 반응기에서 혼합되는 경우, 촉매 및 조촉매의 바람직하지 않은 분포가 발생할 수 있으며, 이는 촉매 성분이 또한 활성화된 입자에 결합함에 따라, 예를 들어 촉매의 소모를 불필요하게 증가시키거나 활성 성분의 좋지 않은 분포를 야기하기 때문이다.
이러한 단점에 대응하기 위해, 종래 기술은 신규 접촉 조성물이 열로 전처리되게 한다. US　2003/0220514에서는 규소가 250~350℃의 온도에서 산화구리 및/또는 염화구리와 함께 열 처리되는 방법이 기재되어 있다. SiCl4가 부산물로서 생성된다. 이 예비 활성화된 접촉 조성물이 비활성화된 규소와 혼합되고 뮐러-로코우 합성에서 사용된다. 이 방법은 알킬할로실란 합성 전에 촉매 무함유 규소로 희석된 농축 접촉 조성물을 제조하는 것을 가능하게 한다. US　6528674B1에서는 규소가 500℃ 미만의 온도에서 구리 화합물로 처리되는 2단계 방법이 기재되어 있다. 제2 단계에서, 상기 전처리된 접촉 조성물은 500℃ 초과의 온도에서 불활성 기체 하에 후처리된다. 이러한 방식으로 처리된 상기 접촉 조성물을 디메틸디클로로실란의 제조를 위한 뮐러-로코우 합성에서 사용한다. WO　99/64429에서는 열로 전처리된 접촉 조성물과 알킬 할라이드와의 반응에 의한 알킬할로실란의 제조 방법이 기재되어 있다. 전처리는 촉매 및 조촉매와 함께 규소와 일산화탄소의 270~370℃ 범위의 온도에서의 반응을 포함하며, 이는 반응 속도의 증가를 유도한다.
DE102011006869 A1에서는 규소, 구리 화합물, 구리 금속, 아연, 아연 화합물, 주석, 주석 화합물(여기서 적어도 구리 촉매 또는 조촉매가 염화물을 포함함)이 혼합되어 접촉 조성물을 제공하고 혼합물은 N2, 비활성 기체, CO2, CO 및 H2 중에서 선택되는 캐리어 기체의 스트림 하에서 200℃ 내지 600℃ 범위의 온도에서 가열되며 메틸클로로실란 제조에 사용되는 방법이 기재되어 있다.
클로로메탄과의 반응 전에 HCl을 이용하는 전반응기를 이용한 접촉 조성물의 활성화는 예를 들어, US-A-4864044로부터 공지되어 있다. 여기서, 규소, 구리 촉매 및 임의로 주석 조촉매가 약 325℃에서 HCl를 이용하여 활성화될 수 있지만 아연 조촉매는 활성화될 수 없는 방법이 실시예에 기재되어 있다. 이러한 형태의 활성화의 단점은, 아연이 용이하게 승화 가능한 염화아연을 생성하도록 기재된 반응 조건 하에 HCl과 반응하여 이로써 활성화 중에 접촉 조성물로부터 제거될 수 있기 때문에 아연 또는 아연 화합물이 활성화 후에만 첨가된다는 것, 전용 반응기가 활성화에 필요하고 활성화의 반응 생성물, 특히 트리클로로실란 및 테트라클로로실란이 메틸클로로실란 합성의 바람직하지 않은 부산물을 나타낸다는 것, 적어도 1% 내지 2%의 사용된 규소 원료가 활성화에 의해 소모된다는 것, 그리고 비교적 높은 활성화 온도가 요구된다는 것이다.
DE 19817775A1은 또한, 신규 접촉 조성물이 충분히 활성이지 않다는 것을 명시하고 있다. 이는 예를 들어 HCl을 이용하여 활성화되어야 한다.
여기에는 신규 접촉 조성물의 별도 전처리의 추가 단점이 존재한다. 신규 접촉 조성물은 일정 시간 동안 370℃로 가열되어야 한다. 이는 높은 가동 비용 및 자본 비용을 야기한다. 보통 증기가 산업상 가동에서의 열원이다. 300℃는 오직 증기를 극압 하에 사용하는 것으로만 달성될 수 있으며, 이는 매우 소수의 가동에서 이용 가능하다.
실란, 특히 클로로실란이, 예비 활성화 중에 CuCl 및 규소로부터 생성되고, 이는 방출 및 처리되어야 한다.
US2389931에서는 반응기 유래의 크게 반응한 접촉 조성물이 분리되고, 냉각되어 제2 반응기 내로 도입되는 반응기 캐스케이드(유동상 반응기)가 기재되어 있다. 이는 규소 이용율을 보다 효과적으로 만들지만 훨씬 더 많은 메틸트리클로로실란이 극단적인 반응 조건의 결과로서 형성된다. 접촉 조성물은 또한 냉각으로 인해 반응성 및 선택성을 잃는다.
본 발명은, 클로로메탄과 접촉 조성물과의 반응에 의한 메틸클로로실란의 제조 방법으로서, 규소, 구리 촉매 및 조촉매를 포함하는 혼합물(접촉 조성물 1)을 제1 유동상 반응기(유동상 반응기 1) 내에 공급하고, 200~450℃에서 클로로메탄의 존재 하에 활성 접촉 조성물(접촉 조성물 2)을 생성하고, 바람직하게는, 반응 기체, 바람직하게는 클로로메탄을 이용하여 바람직하게는 유동상 반응기 1의 사이클론을 경유하여 접촉 조성물 2의 일부를 유동상 반응기 1로부터 꺼내고, 제2 유동상 반응기(유동상 반응기 2) 내로 공급하고 200~450℃에서 클로로메탄과 반응시키며, 여기서 단위 시간당 유동상 반응기 1 내로 100 중량부의 접촉 조성물 1당 20 중량부 이상의 접촉 조성물 2를 재순환시키고, 유동상 반응기 2 내로 공급되고 유동상 반응기 1 내로 재순환되는 접촉 조성물 2는, 유동상 반응기 1로부터 꺼내어진 후, 150℃ 미만의 온도로 냉각되지 않는 것인, 메틸클로로실란의 제조 방법을 제공한다.
접촉 조성물 2는 신규 접촉 조성물(접촉 조성물 1)보다 및 예를 들어 약 300℃에서 N2 하에 활성화된 것인 예비 활성화된 접촉 조성물보다 현저히 더 활성이다. 클로로메탄과 활성화된 Si 입자와의 반응은 에너지를 방출한다. 이는 수 100℃까지의 국부 온도 증가를 야기하며, 그 표면은 또한 옥사이드 층 및 추가로 부동태화 층이 없다.
접촉 조성물 2의 제조에 별도의 장치가 제공될 필요는 없다. 기존 유동상 반응기를 이용하는 것이 가능하다.
유동상 반응기 1 및 2는 상이한 파라미터, 예컨대 압력 및 온도를 이용하여 가동될 수 있으며 이로써 상이한 특성들을 갖는 접촉 조성물 1 및 2 사이의 차이점에 적용될 수 있다. 완전 반응한 접촉 조성물은 바람직하게는 유동상 반응기 2의 하류에 배열된 사이클론을 통해 방출된다.
특정 실시양태에서, 기체 스트림과 함께 유동상 반응기 2로부터 또는 유동상 반응기 1 및 2로부터 방출된 접촉 조성물 성분(접촉 조성물 3)은 유동상 반응기 2 내로 전부 또는 일부 재순환된다. 접촉 조성물 3은 바람직하게는 1 이상의 사이클론을 이용하여 기체 스트림으로부터 분리된다.
유동상 반응기 1은 바람직하게는 유동상 반응기 2보다 높은 온도에서 가동된다. 유동상 반응기 1을 300-350℃에서 가동하고 유동상 반응기 2를 250-300℃에서 가동하는 것이 바람직하며, 유동상 반응기 1의 온도가 더 높은 것이 바람직하다. 결과적으로, 유동상 반응기 1은 보다 활성적이 되며 유동상 반응기 2는 보다 선택적이 된다. 이는 디메틸디클로로실란에 대한 더 큰 선택성과 함께 유동상 반응기의 전체적으로 보다 우수한 성능을 유도한다.
특정 실시양태에서, 추가 촉매 및/또는 조촉매가 유동상 반응기 1로부터 꺼내어진 접촉 조성물 2에 첨가된다.
유동상 반응기 1 내로 공급된 1 내지 80 중량%, 특히 바람직하게는 10 내지 50 중량%의 접촉 조성물 1은, 바람직하게는 단위 시간당 유동상 반응기 1로부터 접촉 조성물 2로서 꺼내어져 유동상 반응기 2 내로 공급된다.
특정 실시양태에서, 복수의, 특히, 2 내지 5개의 유동상 반응기 1을 사용한다. 1 중량% 내지 50 중량%, 특히 바람직하게는 5 중량% 내지 20 중량%의 공급된 접촉 조성물 1은 바람직하게는 이러한 유동상 반응기 1 각각으로부터 접촉 조성물 2로서 꺼내어져 유동상 반응기 2 내로 공급된다.
바람직하게는 단위 시간당 유동상 반응기 1 내로 100 중량부의 접촉 조성물 1당 30 중량부 내지 50 중량부의 접촉 조성물 2가 재순환된다.
특정 실시양태에서, 1 이상의 유동상 반응기 1로부터 꺼내어진 접촉 조성물 2를 수집 용기에서 수집하고, 수집 용기로부터 1 이상의 유동상 반응기 2 내로 공급한다.
특정 실시양태에서, 복수의, 특히, 2개 내지 5개의 유동상 반응기 2를 사용한다.
특정 실시양태에서, 접촉 조성물 2를 유동상 반응기 2 내로 공급하기 전에 이를 열 전도성 재료와 혼합하였다. 이는 열 제거 시스템, 예를 들어 냉각 핑거(cooling finger)에서 접촉 조성물 입자(핫 스폿)의 열 전달을 개선한다.
열 전도성 재료는 입자 크기가 바람직하게는 100~800　마이크론, 특히 바람직하게는 200~400　마이크론인 규소, 탄화규소 또는 이산화규소 중에서 선택되는 것이 바람직하다. 100 중량부의 접촉 조성물 2를 40 중량부 이하, 특히 20 중량부 이하의 열 전도성 재료와 혼합하는 것이 바람직하다.
유동상 반응기 2 내로 공급되는 접촉 조성물 2는, 바람직하게는 유동상 반응기 1로부터 꺼내어진 후, 180℃ 미만, 특히 200℃ 미만의 온도로 냉각되지 않는다.
접촉 조성물 2는 바람직하게는 반응 기체, 바람직하게는 클로로메탄을 이용하여 유동상 반응기 1로부터 꺼내어진다. 접촉 조성물 2 및 임의로 또한 접촉 조성물 3은 바람직하게는 클로로메탄을 이용하여 유동화된 형태로 유동상 반응기 2 내로 공급된다.
본 방법에서 사용되는 규소는 바람직하게는 불순물로서 5 중량% 이하, 특히 바람직하게는 2 중량% 이하, 특별히 1 중량% 이하의 다른 원소를 포함한다. 0.01 중량% 이상을 차지하는 불순물은, 바람직하게는 Fe, Ni, Mn, Al, Ca, Cu, Zn, Sn, C, V, Ti, Cr, B, P, O 중에서 선택되는 원소이다.
규소의 입자 크기는 바람직하게는 0.5　마이크론 이상, 특히 바람직하게는 5　마이크론 이상, 특별히 10　마이크론 이상, 및 바람직하게는 650　마이크론 이하, 특히 바람직하게는 580　마이크론 이하, 특별히 500　마이크론 이하이다.
규소의 평균 입자 크기 분포는 d50 값이고, 바람직하게는 180　마이크론 이상, 특히 바람직하게는 200　마이크론 이상, 특별히 230　마이크론 이상, 및 바람직하게는 350　마이크론 이하, 특히 바람직하게는 300　마이크론 이하, 특별히 270　마이크론 이하이다.
촉매용 구리는 금속 구리, 구리 합금 및 구리 화합물 중에서 선택될 수 있다. 구리 화합물은 바람직하게는 산화구리 및 염화구리, 특히 CuO, Cu2O, 및 CuCl, 및 구리-인 화합물(CuP 합금) 중에서 선택된다. 산화구리는, 예를 들어, 산화구리 혼합물의 형태 및 산화구리(II)의 형태인 구리일 수 있다. 염화구리는 CuCl의 형태 또는 CuCl2의 형태로 이용될 수 있으며, 상응하는 혼합물이 또한 가능하다. 한 바람직한 실시양태에서, 구리는 CuCl로서 이용된다.
100 중량부의 규소당, 각 경우 금속 구리를 기준으로, 바람직하게는 0.1 중량부 이상, 특히 바람직하게는 1 중량부 이상의 구리 촉매, 및 바람직하게는 10 중량부 이하, 특히 8 중량부 이하의 구리 촉매를 이용하는 것이 바람직하다.
접촉 조성물 1은 바람직하게는 아연 조촉매를 포함하며 이는 바람직하게는 아연 및 염화아연 중에서 선택된다. 100 중량부의 규소당, 각 경우 금속 아연을 기준으로, 0.01 중량부 이상의 아연 조촉매, 특히 바람직하게는 0.1 중량부 이상의 아연 조촉매, 및 바람직하게는 1 중량부 이하, 특별히 0.5 중량부 이하의 아연 조촉매를 이용하는 것이 바람직하다.
접촉 조성물 1은 바람직하게는 주석 조촉매를 포함하며 이는 바람직하게는 주석 및 염화주석 중에서 선택된다. 100 중량부의 규소당, 각 경우 금속 주석을 기준으로, 0.001 중량부 이상의 주석 조촉매, 특히 바람직하게는 0.05 중량부 이상의 주석 조촉매, 및 바람직하게는 0.2 중량부 이하, 특별히 0.1 중량부 이하의 주석 조촉매를 이용하는 것이 바람직하다.
접촉 조성물 1은 바람직하게는 아연 조촉매 및 주석 조촉매의 조합 및 특히 추가로 인 조촉매를 포함한다.
전체 구리 촉매 및 조촉매의 30 중량% 이상, 특히 50 중량% 이상이 구리, 아연 및 주석의 염화물인 것이 바람직하다.
아연 및/또는 주석 조촉매 외에, 바람직하게는 원소 인, 세슘, 바륨, 망간, 철 및 안티몬 및 이들의 화합물 중에서 선택되는 추가 조촉매를 이용하는 것이 또한 가능하다.
P 조촉매는 바람직하게는 CuP 합금 중에서 선택된다.
반응에서의 압력은 각 경우 절대압으로 기록하여 바람직하게는 1　bar 이상, 특히 1.5　bar 이상, 및 바람직하게는 5　bar 이하, 특히 3　bar 이하이다.
제조된 메틸클로로실란은, 특히, 디메틸디클로로실란, 메틸트리클로로실란, 트리메틸클로로실란 및 H-실란이다.
상기 방법은 배치식으로 또는 바람직하게는 연속식으로 수행될 수 있다. 연속식은, 반응된 규소 및 가능하게는 반응 분진과 함께 방출된 촉매 및 조촉매가 바람직하게는 예비 혼합된 접촉 조성물 1 및 접촉 조성물 2 및 임의로 접촉 조성물 3으로서 지속적으로 대체된다는 것을 의미한다. 클로로메탄이 유동상 반응기 1 및 2 내로 반응물 및 유동화 매질로서 동시에 도입되는 것이 바람직하다.
하기 실시예에서, 특정 경우에 달리 기재되지 않은 한, 모든 양 및 백분율은 중량 기준이고, 모든 압력은 0.10 MPa(abs.)이며 모든 온도는 20℃였다.
실시예 :
I) 접촉 조성물 2의 성능 시험 :
1. 산업용 유동상 반응기 유래의 50 g의 접촉 조성물 2를 약 20 l/h의 클로로메탄과 340℃에서 실험실용 유동상 반응기 중에서 반응시켰다. 7 시간의 반응 시간 후, 71%의 디메틸디클로로실란 선택성(73 g의 디메틸디클로로실란)과 함께 103 g의 미정제 실란을 얻었다.
2. 280 ppm의 P를 산업용 유동상 반응기 유래의 50 g의 접촉 조성물 2에 첨가하고 약 20 l/h의 클로로메탄과 340℃에서 실험실용 유동상 반응기 중에서 반응시켰다. 7 시간의 반응 시간 후, 78%의 디메틸디클로로실란 선택성(73 g의 디메틸디클로로실란)과 함께 93 g의 미정제 실란을 얻었다. P의 접촉 조성물 2로의 첨가는 보다 낮은 활성을 유도하였으나 선택성의 증가를 유도하였으며, 따라서 현저하게 보다 적은 양의 부차적인 실란을 이용하여 궁극적으로 동일한 양의 디메틸디클로로실란을 제조하였다.
3. 산업용 유동상 반응기 유래의 50 g의 접촉 조성물 2를 약 20 l/h의 클로로메탄과 320℃에서 실험실용 유동상 반응기 중에서 반응시켰다. 7 시간의 반응 시간 후, 74%의 디메틸디클로로실란 선택성(64 g의 디메틸디클로로실란)과 함께 86 g의 미정제 실란을 얻었다. 온도 감소는 낮은 활성을 유도하지 않았으나 보다 우수한 선택성을 유도하였다.
II) 50%의 접촉 조성물 2 + 50%의 접촉 조성물 1의 성능 시험 :
25 g의 접촉 조성물 1과 함께 산업용 유동상 반응기 유래의 25 g의 접촉 조성물 2를 약 20 l/h의 클로로메탄과 340℃에서 실험실용 유동상 반응기 중에서 반응시켰다. 7 시간의 반응 시간 후, 76%의 디메틸디클로로실란 선택성(25 g의 디메틸디클로로실란)과 함께 33 g의 미정제 실란을 얻었다.
접촉 조성물 1의 첨가는 현저하게 낮은 활성을 야기하였다.
[발명의 효과]
본 발명은, 디메틸디클로로실란에 대한 더 큰 선택성과 함께 유동상 반응기의 전체적으로 보다 우수한 성능을 갖는, 연속식으로 수행될 수 있는 메틸클로로실란의 직접 합성 방법을 제공한다.

Claims (9)

  1. 클로로메탄과 접촉 조성물과의 반응에 의한 메틸클로로실란의 제조 방법으로서, 규소, 구리 촉매 및 조촉매를 포함하는 혼합물(접촉 조성물 1)을 제1 유동상 반응기(유동상 반응기 1) 내에 공급하고, 200~450℃에서 클로로메탄의 존재 하에 활성 접촉 조성물(접촉 조성물 2)을 생성하고, 접촉 조성물 2의 일부를 유동상 반응기 1로부터 꺼내어 제2 유동상 반응기(유동상 반응기 2) 내로 공급하고 200~450℃에서 클로로메탄과 반응시키며, 여기서 단위 시간당 유동상 반응기 1 내로 100 중량부의 접촉 조성물 1당 20 중량부 이상의 접촉 조성물 2를 재순환시키고, 유동상 반응기 2 내로 공급되고 유동상 반응기 1 내로 재순환되는 접촉 조성물 2는, 유동상 반응기 1로부터 꺼내어진 후, 150℃ 미만의 온도로 냉각되지 않는 것인, 메틸클로로실란의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 기체 스트림과 함께 유동상 반응기 2로부터 또는 유동상 반응기 1 및 2로부터 방출된 접촉 조성물 성분(접촉 조성물 3)을 유동상 반응기 2 내로 전부 또는 일부 재순환시키는 것인 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 유동상 반응기 1을 유동상 반응기 2보다 높은 온도에서 가동하는 것인 제조 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 복수의 유동상 반응기 1을 사용하는 것인 제조 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 있어서, 복수의 유동상 반응기 2를 사용하는 것인 제조 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 제조 방법에서 사용되는 규소는 불순물로서 2 중량% 이하의 다른 원소를 포함하는 것인 제조 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 하나의 항에 있어서, 접촉 조성물은 아연 조촉매를 포함하는 것인 제조 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서, 접촉 조성물은 주석 조촉매를 포함하는 것인 제조 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 하나의 항에 있어서, 구리 촉매는 산화구리 및 염화구리 및 구리-인 화합물 중에서 선택되는 것인 제조 방법.
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