JPH01311431A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JPH01311431A JPH01311431A JP88140823A JP14082388A JPH01311431A JP H01311431 A JPH01311431 A JP H01311431A JP 88140823 A JP88140823 A JP 88140823A JP 14082388 A JP14082388 A JP 14082388A JP H01311431 A JPH01311431 A JP H01311431A
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザービームを用いて凸部を形成することに
より情報を記録する光ディスク、光カード等の光情報記
録媒体に関するものである。
より情報を記録する光ディスク、光カード等の光情報記
録媒体に関するものである。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来、
記録膜へレーザービームを照射することにより凸部を形
成して情報の記録を行う、いわゆるバブルモード記録媒
体が例えば特開昭56−127937号公報等により提
案されている。しかし特開昭56−127937号公報
に記載された媒体は感度が悪いという欠点があった。
記録膜へレーザービームを照射することにより凸部を形
成して情報の記録を行う、いわゆるバブルモード記録媒
体が例えば特開昭56−127937号公報等により提
案されている。しかし特開昭56−127937号公報
に記載された媒体は感度が悪いという欠点があった。
また、Teを記録膜として用いた感度の良い媒体が提案
されているが、Teは酸化されやすく結晶粒径も増大し
やすいため感度が劣化し、C/N比が低下するために寿
命が短いという欠点があった。そのためTeの酸化を防
止し寿命を長くするために有機保護層をコーティングす
るなどの手段がとられてはいるが十分な寿命は得られて
はいない。
されているが、Teは酸化されやすく結晶粒径も増大し
やすいため感度が劣化し、C/N比が低下するために寿
命が短いという欠点があった。そのためTeの酸化を防
止し寿命を長くするために有機保護層をコーティングす
るなどの手段がとられてはいるが十分な寿命は得られて
はいない。
本発明者らは記録用ビームを受けて凸部を形成する事に
より情報を記録する光情報記録媒体において、基板上に
直接形成された記録膜として、TeとSeを主成分とし
A I 、S i 、T i + Cr + Cu +
Z n + G a +Ge、 Y、 Zr、 Ag
、 Cd、 In、 Sn、 Sb+ Ta、 Au、
Pb及びBiからなる群より選ばれた元素のうち少な
くとも一種を含む記録膜を用い、更にこの記録膜の上に
記録膜を保護するための無機物からなる保護層を設ける
ことにより、高感度、高C/N比及び対酸化性に優れた
長寿命の光情報記録媒体が得られることを見出し、本発
明を完成するに到った。
より情報を記録する光情報記録媒体において、基板上に
直接形成された記録膜として、TeとSeを主成分とし
A I 、S i 、T i + Cr + Cu +
Z n + G a +Ge、 Y、 Zr、 Ag
、 Cd、 In、 Sn、 Sb+ Ta、 Au、
Pb及びBiからなる群より選ばれた元素のうち少な
くとも一種を含む記録膜を用い、更にこの記録膜の上に
記録膜を保護するための無機物からなる保護層を設ける
ことにより、高感度、高C/N比及び対酸化性に優れた
長寿命の光情報記録媒体が得られることを見出し、本発
明を完成するに到った。
即ち、本発明は、記録用ビームを受けて凸部を形成する
ことにより情報を記録する光情報記録媒体において、基
板と、基板に直接形成されたTe及びSeを主成分とし
^l、Si、Ti、Cr、Cu、Zn、Ga。
ことにより情報を記録する光情報記録媒体において、基
板と、基板に直接形成されたTe及びSeを主成分とし
^l、Si、Ti、Cr、Cu、Zn、Ga。
G e 、Y 、Z r + A g + Cd +
I n + S n + S b + T a + A
u + P b及び旧からなる群より選ばれた元素の
うち少なくとも一種を含む記録膜と、この記録膜の保護
のための無機物からなる保護層を有することを特徴とす
る光情報記録媒体に係わるものである。
I n + S n + S b + T a + A
u + P b及び旧からなる群より選ばれた元素の
うち少なくとも一種を含む記録膜と、この記録膜の保護
のための無機物からなる保護層を有することを特徴とす
る光情報記録媒体に係わるものである。
本発明においては、上記無機物からなる保護層の上層に
更に有機樹脂からなる保護層を設けることもできる。
更に有機樹脂からなる保護層を設けることもできる。
以下、本発明を図面に基づいて詳細に説明する。
第1図は本発明の光情報記録媒体の一実施例を示す断面
図、第2図は本発明の光情報記録媒体の別の実施例を示
す断面図であり、1は基板、2記録膜、3は無機保護層
、4は有機保護層である。
図、第2図は本発明の光情報記録媒体の別の実施例を示
す断面図であり、1は基板、2記録膜、3は無機保護層
、4は有機保護層である。
本発明で用いられる基板1は、一般にディスク形状であ
るが、カードやドラム状であってもよい。基板材料とし
てはポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート
樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィンのよ
うな透明プラスチック材、又はガラスなどが用いられる
。
るが、カードやドラム状であってもよい。基板材料とし
てはポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート
樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィンのよ
うな透明プラスチック材、又はガラスなどが用いられる
。
本発明で用いられる記録膜2は、Te及びSeを主成分
としA I + S i+ T i + Cr + C
u + Z n + G a + G e + Y +
Z r +へg+Cd、 In、Sn、Sb、Ta、
Au、Pb及びBiからなる群より選ばれた元素のうち
少なくとも一種を含むが、これら各元素の組成は、Te
、SeV?1.として、10≦X≦99.5≦Y≦99
.α≦20が好ましい。但し、X、 Y、 αは原子
%であり、hはTe、 Se以外の元素の群より選ばれ
る少なくども1種の元素を表わす。この記録膜の膜厚は
用途によって異なるが、−船釣に良好なC/N比を得る
膜厚は10nm以上200nm以下が好ましく、更に好
ましくは10nm以上1100n以下である。
としA I + S i+ T i + Cr + C
u + Z n + G a + G e + Y +
Z r +へg+Cd、 In、Sn、Sb、Ta、
Au、Pb及びBiからなる群より選ばれた元素のうち
少なくとも一種を含むが、これら各元素の組成は、Te
、SeV?1.として、10≦X≦99.5≦Y≦99
.α≦20が好ましい。但し、X、 Y、 αは原子
%であり、hはTe、 Se以外の元素の群より選ばれ
る少なくども1種の元素を表わす。この記録膜の膜厚は
用途によって異なるが、−船釣に良好なC/N比を得る
膜厚は10nm以上200nm以下が好ましく、更に好
ましくは10nm以上1100n以下である。
本発明に用いられる無機物からなる保護層3としては、
ガラス、 SiO□、 Sin、 TiO□+ Y2O
:l+八へzO:1. ZnO,BzOt+ Zr
0z+ Ge0z+ ZnS、 BN、 Si
+Naなどの薄膜、あるいはそれらの複合物が挙げられ
、それらの膜厚は記録感度の面から5nm以上200n
m以下が好ましく、更に好ましくはSnm以上1100
n以下である。
ガラス、 SiO□、 Sin、 TiO□+ Y2O
:l+八へzO:1. ZnO,BzOt+ Zr
0z+ Ge0z+ ZnS、 BN、 Si
+Naなどの薄膜、あるいはそれらの複合物が挙げられ
、それらの膜厚は記録感度の面から5nm以上200n
m以下が好ましく、更に好ましくはSnm以上1100
n以下である。
本発明に用いられる記録膜2及び無機物からなる保護層
3は真空蒸着法、スパッタ法、イオンブレーティング法
等の物理的薄膜形成法により成膜する事ができる。
3は真空蒸着法、スパッタ法、イオンブレーティング法
等の物理的薄膜形成法により成膜する事ができる。
本発明に用いられる有機樹脂の保護層4には紫外線硬化
型樹脂等が用いられ、その膜厚は記録感度の面から1μ
m以上50μm以下である事が好ましい。また、有機樹
脂の保護層の成膜にはスピンコード法等が用いられる。
型樹脂等が用いられ、その膜厚は記録感度の面から1μ
m以上50μm以下である事が好ましい。また、有機樹
脂の保護層の成膜にはスピンコード法等が用いられる。
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものでない。
本発明はこれらの実施例に限定されるものでない。
実施例1
φ130mmのポリカーボネート樹脂製スパイラル溝付
きディスク基板にDCスパッタ法によりTe。
きディスク基板にDCスパッタ法によりTe。
Se、Ti、Agよりなる4元合金(組成 Te :
Se : Tt sAg−90: 9 : 1 : 0
.1(原子比))を40nmの厚さで成膜し、ついでR
Fスパッタ法により無アルカリガラスを50nmの厚さ
で成膜した。
Se : Tt sAg−90: 9 : 1 : 0
.1(原子比))を40nmの厚さで成膜し、ついでR
Fスパッタ法により無アルカリガラスを50nmの厚さ
で成膜した。
このディスクのφ84mmの位置に、波長830nmの
半導体レーザを用いて周波数I MHz、duty50
%の反復信号を、900rpmの条件でレーザー出力を
変化させて書込み、記録感度とC/N比を測定した。ま
た60℃、90%RHの条件下に200時間、500時
間放置した後の記録感度とC/N比を同様に測定し初期
状態との変化を調べた。その結果を表1に示す。
半導体レーザを用いて周波数I MHz、duty50
%の反復信号を、900rpmの条件でレーザー出力を
変化させて書込み、記録感度とC/N比を測定した。ま
た60℃、90%RHの条件下に200時間、500時
間放置した後の記録感度とC/N比を同様に測定し初期
状態との変化を調べた。その結果を表1に示す。
比較例1
φ130mmのポリカーボネート樹脂製スパイラル溝付
きディスク基板にDCスパッタ法によりTeを40nm
の厚さで成膜し、ついでRFスパッタ法により無アルカ
リガラスを50nmの厚さで成膜した。
きディスク基板にDCスパッタ法によりTeを40nm
の厚さで成膜し、ついでRFスパッタ法により無アルカ
リガラスを50nmの厚さで成膜した。
このディスクのφ841IIII+の位置に、波長83
0nmの半導体レーザを用いて周波数I MHz、du
ty50%の反復信号を、900rpmの条件でレーザ
ー出力を変化させて書込み、記録感度とC/N比を測定
した。また60’C,90%11111の条件下に20
0時間、500時間放置した後の記録感度とC/N比を
同様に測定し初期状態との変化を調べた。その結果を表
1に示す。
0nmの半導体レーザを用いて周波数I MHz、du
ty50%の反復信号を、900rpmの条件でレーザ
ー出力を変化させて書込み、記録感度とC/N比を測定
した。また60’C,90%11111の条件下に20
0時間、500時間放置した後の記録感度とC/N比を
同様に測定し初期状態との変化を調べた。その結果を表
1に示す。
実施例2
φ13Qmmのポリカーボネート樹脂製スパイラル溝付
きディスク基板にDCスパッタ法によりTe。
きディスク基板にDCスパッタ法によりTe。
Se、Ti、Agよりなる4元合金(組成は実施例1と
同じ)を40nmの厚さで成膜し、ついでRFスパッタ
法により無アルカリガラスを5Qnmの厚さで成膜し、
最後に紫外線硬化型樹脂をスピンコード法で5μmの厚
さで成膜し紫外線を照射し樹脂を硬化させた。
同じ)を40nmの厚さで成膜し、ついでRFスパッタ
法により無アルカリガラスを5Qnmの厚さで成膜し、
最後に紫外線硬化型樹脂をスピンコード法で5μmの厚
さで成膜し紫外線を照射し樹脂を硬化させた。
このディスクのφ84IIIII+の位置に、波長83
0nt。
0nt。
の半導体レーザを用いて周波数I MHz、duty5
0%の反復信号を、900rpmの条件でレーザー出力
を変化させて書込み、記録感度とC/N比を測定した。
0%の反復信号を、900rpmの条件でレーザー出力
を変化させて書込み、記録感度とC/N比を測定した。
また60°C190%RHの条件下に200時間、50
0時間放置した後の記録感度とC/N比を同様に測定し
初期状態との変化を調べた。その結果を表1に示す。
0時間放置した後の記録感度とC/N比を同様に測定し
初期状態との変化を調べた。その結果を表1に示す。
比較例2
φ130mmのポリカーボネート樹脂製スパイラル溝付
きディスク基板にDCスパッタ法によりTeを40nm
の厚さで成膜し、ついでRFスパッタ法により無アルカ
リガラスを5Qnmの厚さで成膜し、最後に紫外線硬化
型樹脂をスピンコード法で5μmの厚さで成膜し紫外線
を照射し樹脂を硬化させた。
きディスク基板にDCスパッタ法によりTeを40nm
の厚さで成膜し、ついでRFスパッタ法により無アルカ
リガラスを5Qnmの厚さで成膜し、最後に紫外線硬化
型樹脂をスピンコード法で5μmの厚さで成膜し紫外線
を照射し樹脂を硬化させた。
このディスクのφ84mmの位置に、波長88−30n
の半導体レーザを用いて周波数I Mllz、duty
50%の反復信号を、900rpmの条件でレーザー出
力を変化させて書込み、記録感度とC/N比を測定した
。また60℃、90%RHの条件下に200時間、50
0時間放置した後の記録感度とC/N比を同様に測定し
初期状態との変化を調べた。その結果を表1に示す。
の半導体レーザを用いて周波数I Mllz、duty
50%の反復信号を、900rpmの条件でレーザー出
力を変化させて書込み、記録感度とC/N比を測定した
。また60℃、90%RHの条件下に200時間、50
0時間放置した後の記録感度とC/N比を同様に測定し
初期状態との変化を調べた。その結果を表1に示す。
表 1
注)
寧1:再生RF出力がその最大値の90%に達する時の
記録レーザー出力 〔発明の効果〕 以上の結果から明らかなように、基板に直接形成された
Te及びSeを主成分としA I + S i+ T
i + Cr +Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Zr+
Ag、Cd、 In、Sn、Sb、Ta、Au、Pb及
び旧からなる群より選ばれた元素のうち少なくとも一種
を含む記録膜と、この記録膜の保護のための無機物から
なる保護層を有し、記録用ビームを受けて凸部を形成す
ることにより情報を記録する本発明の光情報記録媒体は
対酸化性及び寿命が大幅に向上することが確認された。
記録レーザー出力 〔発明の効果〕 以上の結果から明らかなように、基板に直接形成された
Te及びSeを主成分としA I + S i+ T
i + Cr +Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Zr+
Ag、Cd、 In、Sn、Sb、Ta、Au、Pb及
び旧からなる群より選ばれた元素のうち少なくとも一種
を含む記録膜と、この記録膜の保護のための無機物から
なる保護層を有し、記録用ビームを受けて凸部を形成す
ることにより情報を記録する本発明の光情報記録媒体は
対酸化性及び寿命が大幅に向上することが確認された。
第1図は本発明の光情報記録媒体の一実施例を示す断面
図、第2図は本発明の光情報記録媒体の別の実施例を示
す断面図である。 に基板 2:記録膜 3:無機保護層 4:存機保護層
図、第2図は本発明の光情報記録媒体の別の実施例を示
す断面図である。 に基板 2:記録膜 3:無機保護層 4:存機保護層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、記録用ビームを受けて凸部を形成することにより情
報を記録する光情報記録媒体において、基板と、基板に
直接形成されたTe及びSeを主成分としAl、Si、
Ti、Cr、Cu、Zn、Ga、Ge、Y、Zr、Ag
、Cd、In、Sn、Sb、Ta、Au、Pb及びBi
からなる群より選ばれた元素のうち少なくとも一種を含
む記録膜と、この記録膜の保護のための無機物からなる
保護層を有することを特徴とする光情報記録媒体。 2、上記無機物からなる保護層の上層に更に有機樹脂か
らなる保護層を有する請求項1記載の光情報記録媒体。 3、上記記録膜の厚さが10nm以上200nm以下で
ある請求項1又は2記載の光情報記録媒体。 4、上記基板材料が、ポリカーボネート樹脂、ポリメチ
ルメタクリレート樹脂、エポキシ樹脂及びアモルファス
ポリオレフィンからなる群から選ばれた透明プラスチッ
ク材、又はガラスである請求項1〜3のいずれかに記載
の光情報記録媒体。 5、上記無機物からなる保護層が、ガラス、SiO_2
、SiO、TiO_2、Y_2O_3、Al_2O_3
、ZnO、B_2O_3、ZrO_2、GeO_2、Z
nS、BN、及びSi_3N_4からなる群から選ばれ
た薄膜あるいはそれらの複合物である請求項1〜4のい
ずれかに記載の光情報記録媒体。 6、上記無機物からなる保護層の厚さが5nm以上20
0nm以下である請求項1〜5のいずれかに記載の光情
報記録媒体。 7、上記有機樹脂の保護層の厚さが1μm以上50μm
以下である請求項2〜6のいずれかに記載の光情報記録
媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP88140823A JPH01311431A (ja) | 1988-06-08 | 1988-06-08 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP88140823A JPH01311431A (ja) | 1988-06-08 | 1988-06-08 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01311431A true JPH01311431A (ja) | 1989-12-15 |
Family
ID=15277550
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP88140823A Pending JPH01311431A (ja) | 1988-06-08 | 1988-06-08 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01311431A (ja) |
-
1988
- 1988-06-08 JP JP88140823A patent/JPH01311431A/ja active Pending
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