JP2687900B2 - 情報記録媒体 - Google Patents
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Description
どの記録用のエネルギービームによって、例えば、電子
計算機のデータやデジタルオーデオ信号などのデジタル
情報をリアルタイムで記録することが可能な情報記録媒
体に関する。
的に行われる記録媒体(記録用薄膜)は、その非晶質相
と結晶相とでレーザ光の反射率が異なることを利用して
情報の記録を行う。すなわち、初期化状態が結晶状体に
なっている記録用薄膜にレーザ光を照射すると、その照
射部は急熱急冷されることにより非晶質状態に変化し、
非照射部とは反射率の異なるマークが形成される。
クに、記録時よりも弱いレーザ光を照射すると、その照
射部は穏やかに加熱と冷却とがなされ、非晶質状態であ
るマーク形成部は初期状態である結晶状体に戻る。これ
らの、非晶質相と結晶相との間の相転移が可逆的に行え
る記録用薄膜、言い換えれば、記録と消去が可逆的に行
える書き換え可能な記録用薄膜の材料としては、Sbと
Teとからなる合金やこの特性を改善したGeとSbと
Teとからなる合金が知られている。
たSbとTeとからなる合金は結晶化時間は短いが非晶
質の安定性に問題があり、GeとSbとTeとからなる
合金においては十分な非晶質安定性を得るためにGeの
構成比率を10%以上にする必要があるが、これでは結
晶化時間が長くなるという問題があった。情報化社会の
進展にともない、これまで以上に情報伝達の高速化とと
もに記録情報の保持耐久性が要求される。前述したよう
な記録用薄膜は、その非晶質状態相の結晶化温度が高い
ほど保持耐久性がよいものとなるが、SbとTeとから
なる合金やGeとSbとTeとからなる合金では上述し
た問題があり、その要求を完全に満たすことができてい
ない。
るためになされたものであり、情報記録媒体に用いる記
録用薄膜の結晶化時間を長くせず、非晶質相の安定性を
向上させることを目的とする。
は、記録用薄膜が(Sb2Te3)1−a(Co2Te
3)a(0<a<1)であることを特徴とする。また、
その記録用薄膜が、(Sb2Te3)1−bCob(0
<b<1)であることを特徴とする。また、記録薄膜上
にこの記録薄膜を保護する誘電体膜が配置されていても
よく、その誘電体膜は、有機材料によって構成されてい
てもよく、無機材料によって構成されていてもよく、さ
らに、基板と記録用薄膜との間に配置された誘電体膜を
有するようにしてもよく、また、誘電体膜の上面に反射
膜を設けるようにしてもよく、そして、反射膜上に保護
膜を配置するようにしてもよい。
成がCoxSbyTezApBqCrで示され、その
x,y,z,p,q,rはそれぞれ原子パーセントで、
0<x≦50,0<y≦65,10≦z≦70,0≦p
≦30,0≦q≦30,0≦r≦30であり、AはB
e,Mg,Ca,Sc,Y,Ti,V,Cr,Mn,F
e,Ni,Cu,Zn,Sr,Zr,Nb,Mo,T
c,Ru,Rh,Pd,Ag,Cd,La,Ce,P
r,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,E
r,Tm,Yb,Lu,Hf,Ta,W,Re,Os,
Ir,Pt,Au,Al,S,Se、BはNa,K,R
b,Cs,Ba,Hg,Ga,In,Tl,As,S
n,Pb,Bi,F,Cl,Br,I、CはB,C,
N,Oのうちそれぞれ少なくとも1元素以上であっても
よい。
また、結晶中に歪みが生じる。
この発明の概要について説明する。この発明による記録
用薄膜におけるTeの量が十分に存在する範囲「(Sb
2Te3 )1-a (Co2 Te3 )a :0<a<1」で
は、Se−Te合金は結晶化するとSb2 Te3 の結晶
構造を取り、Co−Te合金は標準生成エネルギーが大
きなCo2 Te3 近傍の結晶構造をとる。この組成範囲
内において、Sb−Te合金にCoが加わっても結晶構
造はほとんど変化しない。
範囲では、Co原子とSb原子の原子サイズの違いによ
って歪みが生じるが、この歪みは結晶の核として作用
し、結晶化温度を高くし、また、結晶化が始まったとき
は結晶化速度を速くする。また、上述した標準生成エネ
ルギーが大きなことにより、活性化エネルギーも大きな
ものとなる。このように、Co原子を加えることで、生
じた歪みの核としての作用による結晶化の高速化と、大
きな標準生成エネルギーとなることとの両者の作用によ
り、結晶化は起こりにくいが、結晶化が始まれば素早く
結晶化するようになる。
向上し、一方で結晶化を起こさせるときは、一旦結晶化
が始まればそれが速く行われる(終了する)ようにな
る。これは、言い換えると、記録媒体として考えると、
データが記録されている状態である非晶質状態は非常に
安定しており、一方でデータを書き換えるときなど、デ
ータが無い状態である結晶化状態に速くできるので、デ
ータの書き換えなどが迅速に行える。したがって、Te
の量が十分存在する範囲では、結晶化速度の速い記録媒
体として適している。
e3 )1-bCob):0<b<1」では、CoがSb2
Te3 のTeを奪うため、過剰なSbが生じて結晶化速
度が遅くなる。一方で、Coは、過剰なSbと結びつ
き、SbCo3 などの結晶構造を取り、構造因子を大き
くするとともに結晶化温度を上昇させ、非晶質状態の安
定性を向上させる。したがって、Teの量が少ない範囲
では、上述の場合と同様に非晶質での安定性は非常に向
上するが、結晶化速度の遅い記録媒体として適してい
る。
録メディアに用いられ、そのディスクを回転させなが
ら、レーザ光を照射するなどのことにより、記録・消去
を行う。この回転の速度が速い場合、データを書き込む
とき、すなわち、強いレーザを照射して行くとき、記録
面の移動が速いのでレーザが照射されたところは直ちに
レーザの照射領域から離れていき、急速に冷却される状
態となる。このため、このような場合には、上述したT
eの量が十分に存在する範囲の結晶化速度の速い記録媒
体が適している。
き込むときに、そのデータが書き込まれる領域が上述の
場合より長くレーザに照射されることになり、そして、
レーザの照射状態が徐々に減衰していくことになる。こ
れでは、あまり急冷されたことにはならないので、Te
の量が十分に存在する範囲の結晶化速度の速い記録媒体
をもちいると、非晶質状態にならない場合がある。この
ため、このような場合には、Teの量が少ない範囲の結
晶化が遅い記録媒体を用いるようにすれば良い。なお、
Co元素は、半導体レーザ光などの長波長光の吸収を容
易にして、記録感度を高める。
oxSbyTezApBqCrで示されていてもよい。
ここで、その記録用薄膜は、膜方向の平均組成が前述し
た所定の範囲内にあれば、変化しても良いが、組成の変
化は不連続的でない方がより好ましい。
しては、Si,Mnが特に好ましく、次いで、Pd,C
u,Ag,Pt,Au,Al,が好ましい。次いで、好
ましいものとして、Ti,V,Cr,Fe,Ni,Zn
があり、これに次いで好ましいものとして、S,Seが
ある。また、Bで示される元素として、特に好ましいも
のは、Bi,Tlであり、これに次いで好ましいものは
Ba,Ga,In,Pb,Iであり、これに次いで好ま
しいものはAsである。そして、Cで示される元素とし
て、特に好ましいのは窒素である。
とも他の物質で密着保護されていることが好ましい。ま
た、基板面表面の両面とも保護されていればさらに好ま
しい。これらの保護膜は、基板あるいは基材(テープな
ど)と同一の材料でもよく、また、アクリル樹脂,ポリ
カーボネイトなどの有機物でも良い。また、酸化物,窒
化物,硫化物,セレン化物,弗化物,あるいは,金属な
どを主成分とする無機物でも良い。一方、ガラス,石
英,サファイア,鉄,あるいは,アルミニウムを主成分
とする基板も、記録用薄膜の基板面側の無機物保護膜と
して働きうる。
無機物と密着している方が耐熱性の面で好ましい。しか
し、記録用薄膜の表面の保護膜として無機物層を厚くす
ると、クラックの発生,透過率の低下,感度の低下など
を起こしやすい。このため、記録用薄膜の表面の保護膜
としては、厚い有機物層を用いる方がよく、機械的強度
を増すこともできる。また、基板が有機物から構成され
ていても良い。基板と、この上に形成される記録用薄膜
の表面を保護する保護膜とが、どちらも有機物であれ
ば、変形も起こりにくくなる。この有機物としては、例
えば、アクリル樹脂やポリカーボネイトなどがあり、ま
た、紫外線硬化樹脂などでも良い。
れらの膜は電子ビーム蒸着,スパッタリング,反応性ス
パッタリングなどで形成される。これらによる無機物保
護膜の例を挙げると、Ce,La,Si,In,Al,
Ge,Pb,Sn,Bi,Te,Ta,Sc,Y,T
i,Zr,V,Nb,Cr,Wの中の少なくとも1元素
の酸化物、Cd,Zn,Ga,In,Sb,Ge,S
n,Pbの中の少なくとも1元素の硫化物であればよ
い。
のフッ化物、Tiなどのホウ化物、ホウ素などの炭化
物、また、ホウ素,炭素よりなるものであって、例え
ば、主成分がCeO2 ,La2O3,SiO,SiO2 ,
In2O3,Al2O3,GeO,GeO2 ,PbO,Sn
O,SnO2 ,Bi2O3,TeO2 ,WO2 ,WO3 ,
Ta2O5,Sc203、Y2O3,TiO2 ,ZrO2 ,C
dS,ZnS,CdSe,ZnSe,In2S3,In2
Se3,Sb2S3,Sb2Se3,Ga2S3, Ga2Se3
,MgF,CeF2 ,CeF3 ,CaF2 ,GeS,
GeSe,GeSe2,SnS,SnSe,PbS,P
bSe,Bi2S3,Bi2Se3,TaN,Si3N4,A
lN,Si,TiB2 ,B4 C,B,Cのうち一者に近
い組成をもったものか、あるいは、ZnS−SiO2 の
ように複合させたものがある。これらのうち特に好まし
いものはZnS−SiO2 である。
は、薄膜表面からの反射光と薄膜裏面からの反射光の重
ね合わせになるため干渉を起こす。反射率の変化で信号
を読み取る場合には、記録用薄膜に近接して光り反射
(吸収)層を設けることにより、干渉の効果を大きく
し、読み出し信号を大きくできる。干渉の効果をより大
きくするためには、記録用薄膜と反射(吸収)層の間に
中間層を設けるのが好ましい。中間層は、記録・書き換
えのときに記録用薄膜と反射層との相互拡散が起こるの
を防止する効果も有する。
着や共スパッタリングなどによって、上述した保護膜と
して使用可能な酸化物,フッ化物,窒化物,有機物など
の中に拡散された形態としてもよい。そのようにするこ
とによって、光吸収係数を調節し、再生信号強度を大き
くすることができる場合がある。
しも非晶質状態と結晶質状態の間の変化を記録に利用す
る必要はなく、例えば、結晶化度の変化,結晶系あるい
は結晶粒径の変化など、何らかの原子配列変化によって
光学的性質の変化を起こさしめるか、あるいは、電子の
エネルギー準位を変化させてフォトンモードの変化を起
こさせ、これを記録に利用するようにしても良い。ま
た、この記録用薄膜は、ディスク状に形成するだけでな
く、テープ状,カード状などの形態に形成するようにし
ても良い。
情報記録媒体においては、その記録用薄膜の結晶化の速
度が自由に調節でき、非晶質状態の安定性が高く、半導
体レーザ光の吸収量が多く、生成信号強度が大きく、か
つ、耐環境性が高いという利点を有する。言い換えれ
ば、この記録用薄膜による情報記録媒体は、記録・消去
特性が良好で、感度が高く、記録状態の安定性がよい。
ように、記録用薄膜の膜方向の平均組成がCox Sby
Tez Ap Bq Cr で示されていることを特徴としてい
る。この添加されたA群元素は、Teを含む材料中で、
Teの鎖状原子配列の中で動くより分子形態で移動する
ため結晶化速度が速くなり、非晶質としての安定性がよ
い。また、A群元素を添加することで粘性計数が増加し
て記録用薄膜の流動性が小さくなり、記録・再生・消去
の繰り返し特性が向上する。
示される平均組成のB群元素の中で、Cl,Iなどのハ
ロゲン元素、およびNa,Kなどのアルカリ金属元素
は、Teを含む材料中でTeの鎖状原子配列を切断す
る。このため、このB群元素の添加により結晶化速度が
速くなる。また、Teと結合したこれらの元素(B群元
素)は融点が比較的低く、結晶化温度が低くなる。上述
したハロゲン元素やアルカリ金属元素以外のB群元素
も、Teと結合すると融点が低下し、かつ溶解熱が小さ
いので、結晶化温度が低下すると共に、急熱急冷が行い
やすく、この添加により記録・再生・消去の繰り返し特
性を向上させる。
で示される平均組成のC群元素の中で、ホウ素(B),
炭素(C)はレーザ照射時に溶融しないので、記録用薄
膜の粘度を上げ、他の記録用薄膜構成元素の拡散移動を
下げる働きをし、記録・再生の繰り返し特性を向上させ
る。また、C群元素の中で、Co,Sb,Teおよびそ
れらのなかの少なくとも1の元素の窒化物又は酸化物と
のマトリックス構成とすることで、記録用薄膜の流動を
防ぐことができる。そして、このことにより、記録・再
生・消去の繰り返しにともなう加熱,冷却の繰り返しに
より、記録用薄膜の材料が脈動して案内溝に沿って移動
する現象を抑制し、記録・消去の繰り返し特性を向上さ
せる。
明する。図1は、この発明の1実施例である情報記録媒
体の構成を示す断面図である。同図において、1はポリ
カーボネイトからなる厚さ1.2mmの透明基板、2は
ZnS−SiO2 からなる厚さ140nmの透明誘電体
膜、3はCo0.4 Sb33.2Te58.1Ge8.3 からなる厚
さ20nmの記録用薄膜、4はZnS−SiO2 からな
る厚さ20nmの透明誘電体膜、5はAlからなる厚さ
60nmの反射膜、6は紫外線硬化型の樹脂からなる厚
さ10μmの保護膜であり、光ビームは透明基板1から
入射する。なお、断面図中の凸部は、透明基板1から入
射する光ビームの位置決め用の溝(案内溝)である。
をガラス基板上に20nmの膜厚で形成したサンプル
を、等速昇温による加熱で結晶化の全過程を測定した結
果を示す特性図である。図2(a)は、記録用薄膜とし
てSb2Te3の等速昇温結晶化過程を示し、図2(b)
は、記録用薄膜としてGeSb4Te7の等速昇温結晶化
過程を示している。同図より、Sb2Te3の結晶化温度
Tmは413Kであり、GeSb4Te7の結晶化温度T
mは386Kである。
による記録用薄膜を20nmの膜厚で形成したサンプル
を、等速昇温による加熱で結晶化の全過程を測定した結
果を示す特性図である。図3〜5は、Sb2Te3にCo
を4.5at%から15at%含有させた記録用薄膜
を、50K/minで等速昇温したときの透過光量の温
度依存性を示した特性図である。図3〜5から明らかな
ように、温度変化による透過光量の大きな変化はこの記
録用薄膜が情報の記録用媒体として使用可能であること
を示している。結晶化温度TmはCoの含有量が増加す
るに従って増加し、本発明による記録用薄膜が、図2に
示した従来の記録用薄膜に比較して熱に対する安定性の
高いことを示している。
e3を10at%から30at%含有させた記録用薄膜
を、50K/minで等速昇温したときの透過光量の温
度依存性を示した特性図である。図6〜8から明らかな
ように、温度変化による透過光量の大きな変化はこの記
録用薄膜が情報の記録用媒体として使用可能であること
を示している。そして、この場合においても、結晶化温
度TmはCo2Te3の含有量が増加するに従って増加
し、この記録用薄膜が熱に対する安定性の高いことを示
している。
録用薄膜の、Coの含有量の違いによる昇温温度と結晶
化温度の関係を示す相関図である。結晶化温度はCoの
含有量が増加するに従って大幅に増加しており、Coを
添加したこの発明による記録用薄膜が熱に対する安定性
の高いことを示している。図10は、図2(a)および
図6〜8に示した記録用薄膜の、Co2Te3の含有量の
違いによる昇温温度と結晶化温度の関係を示す特性図で
ある。結晶化温度は、Co2Te3の含有量が増加するに
従って大幅に増加しており、これらの記録用薄膜が熱に
対して安定性の高いことを示している。
キッシンジャープロット(Kissinger plot)して、Co
の含有量が増加したときの各記録用薄膜の活性化エネル
ギーを示した相関図である。図中xで示すCo含有量の
増加に従って活性化エネルギーは増加している。例え
ば、Coの含有量が0のときのSb2Te3の活性化エネ
ルギーは1.67eVであるのに対し、Coの含有量を
15at%とした(Sb2Te3)0.85Co0.15 の活性化
エネルギーは3.3eVとなっている。活性化エネルギ
ーの増加は、その記録用薄膜の非晶質状態での安定性が
よいことを意味している。すなわち、この発明による記
録用薄膜は、従来の記録用薄膜に比較して耐環境性に優
れていることを示している。
度の昇温速度依存性をキッシンジャープロット(Kissin
ger plot)して、Co2Te3の含有量が増加したときの
(Sb2Te3)1-x(Co2Te3)xの活性化エネルギー
を示した相関図である。上述の場合と同様に、Co2T
e3含有量の増加に従って活性化エネルギーは増加す
る。活性化エネルギーの増加は、上述したように、非晶
質状態での安定性がよいことを意味しており、本発明に
よる記録用薄膜が環境耐性に優れていることを示してい
る。
ば、情報記録媒体の記録用薄膜として、(Sb 2 T
e 3 ) 1−a (Co 2 Te 3 ) a (0<a<1)を用い
るようにした。また、その記録用薄膜として、(Sb 2
Te 3 ) 1−b Co b (0<b<1)を用いるようにし
た。 このため、この発明によれば、この記録用薄膜の結
晶化時間を短くすることができ、かつ、非晶質状態の安
定性を向上させることが可能となり、そして、添加する
Coの量を変えることにより、結晶化の速度を自由に調
節できるという効果がある。従って、この発明の情報記
録媒体は、記録・消去特性が良好で、感度が高く記録状
態の安定性がよいという特長を有する。
成を示す断面図である。
板上に20nmの膜厚で形成したサンプルを、等速昇温
による加熱で結晶化の全過程を測定した結果を示す特性
図である。
記録用薄膜を、50K/minで等速昇温したときの透
過光量の温度依存性を示した特性図である。
記録用薄膜を、50K/minで等速昇温したときの透
過光量の温度依存性を示した特性図である。
録用薄膜を、50K/minで等速昇温したときの透過
光量の温度依存性を示した特性図である。
せた記録用薄膜を、50K/minで等速昇温したとき
の透過光量の温度依存性を示した特性図である。
せた記録用薄膜を、50K/minで等速昇温したとき
の透過光量の温度依存性を示した特性図である。
せた記録用薄膜を、50K/minで等速昇温したとき
の透過光量の温度依存性を示した特性図である。
の、Coの含有量の違いによる昇温温度と結晶化温度の
関係を示す相関図である。
薄膜の、Co2Te3の含有量の違いによる昇温温度と結
晶化温度の関係を示す特性図である。
ャープロット(Kissinger plot)して、Coの含有量が
増加したときの各記録用薄膜の活性化エネルギーを示し
た相関図である。
ャープロット(Kissinger plot)して、Co2Te3の含
有量が増加したときの(Sb2Te3)1-x(Co2T
e3)xの活性化エネルギーを示した相関図である。
…透明誘電体膜、5…反射膜、6…保護膜。
Claims (2)
- 【請求項1】 基板上に配置された記録用薄膜を備え、
その記録薄膜上へのエネルギービームの照射により、前
記記録用薄膜の光学的特性を変化させて情報を記録する
情報記録媒体であって、 前記記録用薄膜が、(Sb 2 Te 3 ) 1−a (Co 2 T
e 3 ) a (0<a<1)であることを特徴とする情報記
録媒体。 - 【請求項2】 基板上に配置された記録用薄膜を備え、
その記録薄膜上へのエネルギービームの照射により、前
記記録用薄膜の光学的特性を変化させて情報を記録する
情報記録媒体であって、 前記記録用薄膜が、(Sb 2 Te 3 ) 1−b Co b (0
<b<1)であることを特徴とする情報記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (3)
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JP5-331413 | 1993-12-27 | ||
JP6278911A JP2687900B2 (ja) | 1993-12-27 | 1994-11-14 | 情報記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH07232478A JPH07232478A (ja) | 1995-09-05 |
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ID=26553097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6278911A Expired - Fee Related JP2687900B2 (ja) | 1993-12-27 | 1994-11-14 | 情報記録媒体 |
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-
1994
- 1994-11-14 JP JP6278911A patent/JP2687900B2/ja not_active Expired - Fee Related
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