JPH01309385A - 太陽電池 - Google Patents
太陽電池Info
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- JPH01309385A JPH01309385A JP63139526A JP13952688A JPH01309385A JP H01309385 A JPH01309385 A JP H01309385A JP 63139526 A JP63139526 A JP 63139526A JP 13952688 A JP13952688 A JP 13952688A JP H01309385 A JPH01309385 A JP H01309385A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/548—Amorphous silicon PV cells
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、可撓性の有機高分子フィルムを基板とする非
晶質シリコンを光起電力要素として用いた薄膜太陽電池
に関する。
晶質シリコンを光起電力要素として用いた薄膜太陽電池
に関する。
(従来技術とその問題点)
非晶質シリコン薄膜太陽電池は、低コスト化が可能な太
陽電池としてすでに一部では実用化の段階に入っている
。また、非晶質シリコン薄膜太陽電池の特徴をより生か
す方法として、可撓性高分子フィルム基板上に連続的に
非晶質シリコン薄膜を形成し、ロールアップするという
考えが特開昭54−149489号、同55−4994
号および55−29154号で提示されている。その太
陽電池の特徴は、連続生産が可能であるとともに、従来
の金属あるいはガラスを基板とする太陽電池に比較して
、フィルム状の形態により任意の曲率を持たせることが
可能であり、その軽量性とともに応用範囲を広げること
ができる点にある。
陽電池としてすでに一部では実用化の段階に入っている
。また、非晶質シリコン薄膜太陽電池の特徴をより生か
す方法として、可撓性高分子フィルム基板上に連続的に
非晶質シリコン薄膜を形成し、ロールアップするという
考えが特開昭54−149489号、同55−4994
号および55−29154号で提示されている。その太
陽電池の特徴は、連続生産が可能であるとともに、従来
の金属あるいはガラスを基板とする太陽電池に比較して
、フィルム状の形態により任意の曲率を持たせることが
可能であり、その軽量性とともに応用範囲を広げること
ができる点にある。
しかし、このような薄膜太陽電池において、非晶質シリ
コン層、電極(金属層)及び有機高分子フィルム相互の
熱膨張係数が異なるため、太陽電池として期待される性
能が得られないことがあった。この問題の解決策の1つ
として、特公昭63−10590号公報には、有機高分
子フィルムの両側に金属層を設けることが提案されてい
るが、各構成層の熱膨張係数の差は変わっていないため
に、根本的な解決にはなっていない。
コン層、電極(金属層)及び有機高分子フィルム相互の
熱膨張係数が異なるため、太陽電池として期待される性
能が得られないことがあった。この問題の解決策の1つ
として、特公昭63−10590号公報には、有機高分
子フィルムの両側に金属層を設けることが提案されてい
るが、各構成層の熱膨張係数の差は変わっていないため
に、根本的な解決にはなっていない。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、かかる従来の薄膜太陽電池の欠点を解消せん
と鋭意検討の結果到達したものであり、その要旨とする
ところは、熱膨張係数が(−5〜+ 10) X 10
−6mm 717℃の有機高分子フィルムの基板上に、
非晶質シリコンを主成分とした光起電力要素を形成した
ことを特徴とする太陽電池、である。
と鋭意検討の結果到達したものであり、その要旨とする
ところは、熱膨張係数が(−5〜+ 10) X 10
−6mm 717℃の有機高分子フィルムの基板上に、
非晶質シリコンを主成分とした光起電力要素を形成した
ことを特徴とする太陽電池、である。
そして、本発明の太陽電池は、光起電力要素である非晶
質シリコンと有機高分子フィルムとの熱膨張率の差が小
さく、従って、光起電力要素の割れ、変形や太陽電池の
反りなどの問題が起らず、太陽電池としての性能が向上
安定したのである。
質シリコンと有機高分子フィルムとの熱膨張率の差が小
さく、従って、光起電力要素の割れ、変形や太陽電池の
反りなどの問題が起らず、太陽電池としての性能が向上
安定したのである。
本発明における基板としては、熱膨張係数が(−5〜+
10) ×10−b寵/IIII/℃の範囲の有機高分
子フィルムを用いるべきである。一般に、有機高分子フ
ィルムの熱膨張係数は15〜60xlO−’n/lII
/℃の範囲にあり、この点、本発明の基板に用いるフィ
ルムは特別に限定されたものである。このような、非常
に小さい熱膨張係数のフィルムとしては、バラ配向型の
芳香族ポリアミドやバラ配向型の芳香族ポリエステル等
を挙げることができ、好ましくは、主にポリ (p−フ
ェニレンテレフタルアミド)からなるフィルムである。
10) ×10−b寵/IIII/℃の範囲の有機高分
子フィルムを用いるべきである。一般に、有機高分子フ
ィルムの熱膨張係数は15〜60xlO−’n/lII
/℃の範囲にあり、この点、本発明の基板に用いるフィ
ルムは特別に限定されたものである。このような、非常
に小さい熱膨張係数のフィルムとしては、バラ配向型の
芳香族ポリアミドやバラ配向型の芳香族ポリエステル等
を挙げることができ、好ましくは、主にポリ (p−フ
ェニレンテレフタルアミド)からなるフィルムである。
本発明におけるフィルム基板としては、表面抵抗が50
MΩ/口以上であり、200℃以上の耐熱性をもってい
る可撓性の有機高分子フィルムであることが好ましい。
MΩ/口以上であり、200℃以上の耐熱性をもってい
る可撓性の有機高分子フィルムであることが好ましい。
また、フィルムの厚みとしては通常10〜150μmの
範囲のものが用いられる。
範囲のものが用いられる。
上記有機高分子フィルムを太陽電池の基板として使用す
る場合、非晶質シリコン層との間に電極となる低電気抵
抗の電極金属層を積層しなければならない。この電極金
属層の材料としては、電気伝導率の高いMo、Cr、W
、Fe、Ti、Ta。
る場合、非晶質シリコン層との間に電極となる低電気抵
抗の電極金属層を積層しなければならない。この電極金
属層の材料としては、電気伝導率の高いMo、Cr、W
、Fe、Ti、Ta。
A1の中より選んだ単一金属あるいはその合金や、ステ
ンレス合金あるいはニクロム合金が適当である。この電
極金属層は真空1着法、スパッタリング法などの物理的
手段や、メツキ法などの化学的手段によって堆積され、
その厚さは十分な導電性を有し、フィルム基板の可撓性
を損わない程度の500〜5000人の範囲である。
ンレス合金あるいはニクロム合金が適当である。この電
極金属層は真空1着法、スパッタリング法などの物理的
手段や、メツキ法などの化学的手段によって堆積され、
その厚さは十分な導電性を有し、フィルム基板の可撓性
を損わない程度の500〜5000人の範囲である。
下部電極金属層を形成した基板上に光起電力要素である
非晶質シリコン薄膜を堆積するにはグロー放電法、スパ
ッタリング法、イオンブレーティング法等の公知の方法
を用いる。例えば、グロー放電法の場合、10〜0.1
torrに維持された真空容器内で基板を100〜40
0℃に加熱した基板ホルダーに密着させる。この基板ホ
ルダーを一方の電極とし、それと対向する電極との間に
13.56MHzの高周波電力を印刷する。真空容器内
にはシラン(S i It t)、ジボラン(B211
.)、ホスフィン(pH,)ガスを導入してグロー放電
をおこし、所定の構造に上記ガスの分解生成物を堆積さ
せて、光起電力要素である非晶質シリコン薄膜を約0.
5〜5μmの厚さで設ける。
非晶質シリコン薄膜を堆積するにはグロー放電法、スパ
ッタリング法、イオンブレーティング法等の公知の方法
を用いる。例えば、グロー放電法の場合、10〜0.1
torrに維持された真空容器内で基板を100〜40
0℃に加熱した基板ホルダーに密着させる。この基板ホ
ルダーを一方の電極とし、それと対向する電極との間に
13.56MHzの高周波電力を印刷する。真空容器内
にはシラン(S i It t)、ジボラン(B211
.)、ホスフィン(pH,)ガスを導入してグロー放電
をおこし、所定の構造に上記ガスの分解生成物を堆積さ
せて、光起電力要素である非晶質シリコン薄膜を約0.
5〜5μmの厚さで設ける。
この上、非晶質シリコンと電位障壁をつくり光は大部分
が透過する白金や金、酸化インジウム、酸化スズなどの
薄膜を50〜1000人程度の膜厚になるように真空蒸
着法やスパッタ法で堆積し、表面透明電極を形成する。
が透過する白金や金、酸化インジウム、酸化スズなどの
薄膜を50〜1000人程度の膜厚になるように真空蒸
着法やスパッタ法で堆積し、表面透明電極を形成する。
次に、表面透明電極の上に、A/、Pd、Agなどの櫛
型収集電極を設ける。そして、もし必要ならば、反射防
止膜として酸化ジルコニウム等の膜を設けてもよい。
型収集電極を設ける。そして、もし必要ならば、反射防
止膜として酸化ジルコニウム等の膜を設けてもよい。
以下、実施例で本発明を説明する。
(実施例)
特願昭61−210670号公報に開示された方法に従
って、25μmの厚さをもち、7 X 10−’m /
1m / ”Cの熱膨張係数を有するポリ (p−フ
ェニレンテレフタルアミド)フィルムを基板に用いて、
太陽電池を試作した。
って、25μmの厚さをもち、7 X 10−’m /
1m / ”Cの熱膨張係数を有するポリ (p−フ
ェニレンテレフタルアミド)フィルムを基板に用いて、
太陽電池を試作した。
フィルムの片面に厚さ約700人のAβを真空蒸着した
。このフィルム基板の/l蒸着層上にシラン(Silt
)、ジボラン(BzHb)、ホスフィン(PH:l)の
ガスを用いて基板温度200℃でRFグロー放電法によ
り同一条件でp−i”n型非晶質シリコン薄膜を堆積し
た。この時各層の厚さは、2層約600人、iJi約7
00人、1層約150人である。さらに非晶質シリコン
層の上に厚さ約700人でInとSnの酸化物の透明電
極とAgの櫛型収集電極を蒸着して基板/p−1−n(
非晶質シリコン)/透明電極構成の太陽電池を作成し、
電池特性を測定した。
。このフィルム基板の/l蒸着層上にシラン(Silt
)、ジボラン(BzHb)、ホスフィン(PH:l)の
ガスを用いて基板温度200℃でRFグロー放電法によ
り同一条件でp−i”n型非晶質シリコン薄膜を堆積し
た。この時各層の厚さは、2層約600人、iJi約7
00人、1層約150人である。さらに非晶質シリコン
層の上に厚さ約700人でInとSnの酸化物の透明電
極とAgの櫛型収集電極を蒸着して基板/p−1−n(
非晶質シリコン)/透明電極構成の太陽電池を作成し、
電池特性を測定した。
その結果を表1に示す。
(比較例)
比較として、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルム(熱膨張係数21XIQ−’m/龍/ ”C
)及び厚さ25μmのポリイミドフィルム(熱膨張係数
17 X 10−6w / w / ’C)を用いて、
実施例と同様に太陽電池を試作した。それらの結果を表
1に示す。
トフィルム(熱膨張係数21XIQ−’m/龍/ ”C
)及び厚さ25μmのポリイミドフィルム(熱膨張係数
17 X 10−6w / w / ’C)を用いて、
実施例と同様に太陽電池を試作した。それらの結果を表
1に示す。
(以下余白)
(作用効果)
f本発明の太陽電池は、薄膜型であるため、軽量性、薄
型性、形状の自由慶大、加工性などの特徴をもっており
、その反用が広がることが約束されるものである。すな
わちラジオ、テープレコーダ用の小型電源やフレキシブ
ル電卓用の電源には勿論のこと、住宅の屋根瓦や自動車
等の乗物の窓や車体の曲面にも容易に設備ができ、かつ
フィルム状であるために軽量であることやフィルムを巻
取る方式によりコンパクトに収納できること、よって持
運びが簡単であること等の特徴がある。
f本発明の太陽電池は、薄膜型であるため、軽量性、薄
型性、形状の自由慶大、加工性などの特徴をもっており
、その反用が広がることが約束されるものである。すな
わちラジオ、テープレコーダ用の小型電源やフレキシブ
ル電卓用の電源には勿論のこと、住宅の屋根瓦や自動車
等の乗物の窓や車体の曲面にも容易に設備ができ、かつ
フィルム状であるために軽量であることやフィルムを巻
取る方式によりコンパクトに収納できること、よって持
運びが簡単であること等の特徴がある。
このような、薄膜型太陽電池本来の特徴に加えて、本発
明の太陽電池は、高分子フィルムが独特の低膨張係数を
備えているため、太陽電池作成時に基板の変形や非晶質
シリコン層の割れ、歪応力による微視的な格子欠陥の発
生などが殆ど又は全く起らず、従って、光−電力変換効
率をはじめとする太陽電池特性にすぐれている。また、
使用時においても、高温のところ、低温のところ、温度
差の大きいところ等の厳しい環境下でも安定した生能を
特徴する 特許出願人 旭化成工業株式会社
明の太陽電池は、高分子フィルムが独特の低膨張係数を
備えているため、太陽電池作成時に基板の変形や非晶質
シリコン層の割れ、歪応力による微視的な格子欠陥の発
生などが殆ど又は全く起らず、従って、光−電力変換効
率をはじめとする太陽電池特性にすぐれている。また、
使用時においても、高温のところ、低温のところ、温度
差の大きいところ等の厳しい環境下でも安定した生能を
特徴する 特許出願人 旭化成工業株式会社
Claims (1)
- 熱膨張係数が(−5〜+10)×10^−^6mm/
mm/℃の有機高分子フィルムの基板上に、非晶質シリ
コンを主成分とした光起電力要素を形成したことを特徴
とする太陽電池
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63139526A JP2838141B2 (ja) | 1988-06-08 | 1988-06-08 | 太陽電池 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63139526A JP2838141B2 (ja) | 1988-06-08 | 1988-06-08 | 太陽電池 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01309385A true JPH01309385A (ja) | 1989-12-13 |
JP2838141B2 JP2838141B2 (ja) | 1998-12-16 |
Family
ID=15247338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63139526A Expired - Lifetime JP2838141B2 (ja) | 1988-06-08 | 1988-06-08 | 太陽電池 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2838141B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09148606A (ja) * | 1995-11-29 | 1997-06-06 | Sanyo Electric Co Ltd | 折曲できるフィルム状の太陽電池素子 |
US6274805B1 (en) | 1997-05-07 | 2001-08-14 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Solar cell and manufacturing method thereof |
JP2002368224A (ja) * | 2001-06-04 | 2002-12-20 | Sony Corp | 機能性デバイスおよびその製造方法 |
JP2003031823A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-31 | Toppan Printing Co Ltd | 薄膜太陽電池 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56169372A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-26 | Teijin Ltd | Flexible film substrate amorphous silicon solar battery |
-
1988
- 1988-06-08 JP JP63139526A patent/JP2838141B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56169372A (en) * | 1980-05-30 | 1981-12-26 | Teijin Ltd | Flexible film substrate amorphous silicon solar battery |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09148606A (ja) * | 1995-11-29 | 1997-06-06 | Sanyo Electric Co Ltd | 折曲できるフィルム状の太陽電池素子 |
US6274805B1 (en) | 1997-05-07 | 2001-08-14 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Solar cell and manufacturing method thereof |
JP2002368224A (ja) * | 2001-06-04 | 2002-12-20 | Sony Corp | 機能性デバイスおよびその製造方法 |
JP2003031823A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-31 | Toppan Printing Co Ltd | 薄膜太陽電池 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2838141B2 (ja) | 1998-12-16 |
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