JPH01304124A - 可溶性ポリイミドの製造法 - Google Patents

可溶性ポリイミドの製造法

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JPH01304124A
JPH01304124A JP13460088A JP13460088A JPH01304124A JP H01304124 A JPH01304124 A JP H01304124A JP 13460088 A JP13460088 A JP 13460088A JP 13460088 A JP13460088 A JP 13460088A JP H01304124 A JPH01304124 A JP H01304124A
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JP
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polyimide
solvent
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sulfone
bis
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JP13460088A
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English (en)
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Ikuo Yoshiga
吉賀 郁夫
Tomizo Kondo
近藤 富造
Keigo Morishita
森下 佳悟
Makoto Nakahara
誠 中原
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Sanken Kako KK
Original Assignee
Sanken Kako KK
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は有機溶媒に可溶なポリイミドの製造法に関し、
詳しくはガラス転移温度と熱分解温度が高く、耐熱性に
優れた有機溶媒に可溶なポリイミドの製造法に関する。
一般にポリイミドは有機溶媒に不溶でしかも溶融しない
ために、その前駆物質であるポリアミド酸の段階で有機
溶媒に溶解しておき、成膜または塗布した後、イミド化
する方法がとられている。しかし、上記方法ではイミド
化に伴ない縮合生成物が発生することiこより、得られ
る塗膜はボイド等が生じ易く、平滑なものが得られない
ことが多いこと、ならひに寸法変化あるいは重量変化等
が生じる等の加工上の問題がある。さらに、基材に塗布
したポリアミド酸をイミド化するには通常300℃以上
の高温で長時間加熱する必要があり、エネルギー的およ
び作業性的見地からみて不利である。また、ポリアミド
酸溶液は貯蔵安定性が悪く、室温で長時間放置しておく
と、増粘したり、ゲル化する場合か多いために保管や取
扱いに注意が必要等の欠点かある。
一方、ポリアミド酸生成後、ポリアミド酸の溶液を加熱
して、ポリイミド化させて沈澱物を固液分離した後、乾
燥、粉砕によりポリイミド化物を得る方法も行なわれて
いるが、この方法であると、工程が複雑であること、な
らひにポリイミド化物の粉砕も特殊な粉砕機が必要であ
る等の問題がある。
本発明はか\る諸問題点を解決すべく鋭意検討した結果
、(3)4.4′−ジアミノジフェニルスルフォンとビ
ス〔4(4アミノフェノキシ)フェニル〕スルフォンの
量比がモル比で2:8乃至7°3であり、その混合物を
主成分とするジアミン成分と、(B) 3.3’、 4
.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水ら成分
とするテトラカルボン酸二無水物とを極性溶媒中で反応
させること1こより、有機溶媒に可溶なポリイミドか得
られることを見出した。
本発明によれば従来の溶媒不溶性ポリイミド化合物に匹
敵する高い耐熱性を有し、溶媒に可溶なポリイミドが製
造される。
すなわち、従来のポリアミド酸に比べて貯蔵安定性に優
れ、フィルム化や塗装化は溶媒を除去するだけてよく、
高温処理か施こせない基材への加工も容易に行なえる等
の優れた効果がある。
本発明における特徴はジアミン成分として、4.4′−
ジアミノジフェニルスルフォンとビス〔4(4アミノフ
ェノキシ)フェニル〕スルフォンの2種類を必須成分と
して用いることにある。
4.4′−ジアミノジフェニルスルフォンとビス〔4(
4アミノフェノキシ)フェニル〕スルフォンの量比はモ
ル比で2=8乃至7:3であり、2:8に満たない場合
は本発明1こおけるテトラカルボン酸二無水物との反応
においてゲル状となり、溶媒可溶なポリイミドを得るこ
とができず、7:3を越えるとポリイミドか沈澱析出し
、本発明の目的とするものか得られない。本発明におい
ては、ジアミン成分として4.4′−ジアミノジフェニ
ルスルフォンとビス(4(4アミノフェノキシ)フェニ
ル〕スルフォンを主成分として使用するか、該ジアミン
以外のジアミン化合物を併用することもできる。
併用アミンの使用酸としては通常全ジアミンの20モル
%以下か好ましい。併用アミンの例としては4.4′−
ジアミノジフェニルエーテル、1゜4−ビス(4アミノ
フェノキシ)ベンゼン、ビス(4(3アミノフェノキシ
)フェニル〕スルフォン、3.4’−ジアミノジフェニ
ルエーテル等があげられる。
本発明のポリイミド製造におけるテトラカルボン酸二無
水物成分として、3.3’、 4.4’−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物を主成分として使用するが
、他のテトラカルボン酸二無水物を併用することもてき
る。
併用するテトラカルボン酸二無水物の使用量としては通
常全二無水物の20モル%以下が好ましい。併用するテ
トラカルボン酸二無水物の例4′−ンフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、2゜3、6.7−ナフタリンチトラ
カルホン酸二無水物等があけられる。
また、本発明に用いられる有機溶媒の例とし斗 ミド、ヘキサメチルホスホルアミド、クレゾール、0−
クロルフェノール、ニトロベンゼン。
フェノール、スルフオラン等があり、これらの1種ある
いは2種以上が用いられる。
本発明においては前記のジアミン化合物とテトラカルボ
ン酸二無水物を等化学当量で用いることが好ましい。反
応は前記の反応成分を溶剤と共に反応容器に収容し、攪
拌下、加熱して行なわれる。
イミド化を促進するために、反応温度はできるだけ高温
にする必要かあり、通常100’C!を越える温度で行
なわれ、120℃乃至300 ’O程度にすることか好
ましい。
本発明における用途として、例えば、プリント基板材料
、電子部品、LSI封止剤、耐熱絶縁コーティング剤と
いった電子関連、高耐熱塗料、高耐熱コーティング剤、
結合剤あるいは先端複合材料用のマ) IJノクスとし
て宇宙・航空機、自動車部品、構造材料等がある。
本発明を実施例により説明する。本発明はこれらの実施
例によって制限されるものではない。
なお、本発明においてイミド化の確認は赤外線吸収スペ
クトルによりイミド環に基つ<1770crn−1およ
び725cm’の吸収を観察することにより行なった。
実施例1 攪拌装置、冷却管、温度計、窒素置換装置を付した20
0町四ツロフラスコに3.3’、 4.4’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物19.39 (0,0
6モル)とN−メチル−2−ピロリドン709を仕込み
、40℃迄加熱し、4.4′−ジアミノジフェニルスル
フォン7.459 (0,03モル)およびビス〔4(
4アミノフェノキシ)フェニル〕スルフォン13、Q9
(0,03モル)をN−メチル−2−ピロリドン702
に溶解した溶液を5分間で滴下した。約10分間で3.
3−4.4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物は完全に溶解した。50℃で3時間反応させた後、さ
らに170℃に昇温して8時間反応さ溶媒N−メチル−
2−ピロリドン、濃r10.5y/100cc、温度3
0℃)であった。得らnたポリアミド化合物の赤外線吸
収スペクトルには1770(m  、725℃m  に
イミド環に基つく吸収か認められ、このポリイミド化合
物は95%以上のイミド化が進行していることかわかっ
た。また、本反応液をカラス板に塗布し、200°Cに
加熱して引張強度20.5に9/−のフィルムを得た。
得られたポリイミド化合物のガラス転移温度および10
%熱分解温度を表1に示す。なおガラス転移温度は走査
示差熱量測定機により測定し、10%熱分解温度は熱重
量分析により10℃/分の昇温速度で10%が熱分解し
たときの温度とした。
実施例2〜3 実施例11こおいて、ジアミン成分として使用した4、
4′−ジアミノジフェニルスルフォン0,03モルおよ
びビス(4(4アミノフエノキン)フエニルジスルフオ
フ0.03モルの割合ヲ表1 +コ示すように変えた以
外は実施例1と同様にしてポリイミド化合物を製造した
。結果は表1に示す。
実施例4 実施例1において、テトラカルボン酸二無水物として使
用した3、 3’、 4.4’−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物0.06モルを3.3’、 4.4
’−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物0゜05
4モルおよびピロメリット酸二無水物0.006モルに
変えた以外は実施例1と同様にしてポリイミド化合物を
製造した。結果は表1に示す。
実施例5 実施例4においてジアミン成分として使用した4、4′
−ジアミノジフェニルスルフォン0.03モルおよびビ
ス(4(4アミノフェノキシ)フエニルジスルフオフ0
.03モルの割合を表1に示すように変えた以外は実施
例1と同様にしてポリイミド化合物を製造した。結果は
表11こ示す。
実施例6〜7 実施例1において、ジアミン成分として使用した4、4
′−ジアミノジフェニルスルフォンおよびビス(4(4
アミノフェノキシ)フェニル〕スルフォンの他に、4.
4’−シアミ/ンフェニルエーテルをそれぞれ表2に示
す割合で用いた以外は実施例1と同様にしてポリイミド
化合物を製造した。結果は表2に示す。
実施例8 実施例1において反応溶媒として使用したN−メチル−
2−ピロリドンに変えて、N−メチル−2−ピロリドン
とN、N−ジメチルホルムアミドの重量比で4°1の混
合溶媒を用いた以外は実施例1と同様にしてポリイミド
を製造し總結果は表2に示す。
実施例9 実施例1において反応溶媒として使用したN−メチル−
2−ピロリドンに変えて、N−メチル−2−ピロリドン
とトルエンの重量比で9:1の混合溶媒を用いた以外は
実施例1と同様にしてポリイミドを製造した。結果は表
2に示す。
上記の実施例2〜9で得られた反応液はいず%以上のイ
ミド化が進行していることがわかった。上記ポリイミド
化合物のガラス転移温度および10%熱分解温度を表1
〜2に示す。
なお、実施例1〜9で得られたポリイミド化合物を室温
で90日間保存しても溶液粘度は変化せず、濁りや析出
物も認められず保存安定性が優れているものであった。
比較例1 実施例1において、ジアミン成分として、4゜4′−ジ
アミノジフェニルスルフォン0.03モルおよびビスC
4(4アミノフェノキシ)フェニル〕スルフォン0.0
3モルに変えて、ビス〔4(4アミノフェノキシ)フェ
ニル〕スルフォン0.06モルを用いる以外は実施例1
と同様にしてポリイミド化合物の製造を行なったところ
、反応液はゲル状となり、溶剤可溶性ポリイミド比較例
2 実施例1において、ジアミン成分として、4゜4′−ジ
アミノジフェニルスルフォン0.03モルおよびビス〔
4(4アミノフェノキシ)フェニル〕スルフォン0.0
3モルに変えて、4.4′−ジアミノジフェニルスルフ
ォン0.06モルヲ用いる以外は実施例1と同様にして
ポリイミド化合物の製造を行なったところ、反応液に析
出物が生じ、溶剤可溶性ポリイミドは得られなかつζ比
較例3 実施例1において、テトラカルボン酸二無水物として使
用した3、 3’、 4.4’−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物0.06モルをピロメリット酸二無
水物0.06モルIこ変えた以外は実施例1と同様Gこ
してポリイミド化合物を製造したところ、反応液に析出
物が生じ、溶剤可溶性ポリイミドは得られなかった。
比較例4〜5 実施例1において、ジアミン成分として、4゜41−ジ
アミノジフェニルスルフォン0.03 モルおよびビス
(4(4アミノフェノキシ)フェニル〕スルフォン0゜
03モルに交えて、表3に示すように、比較例4では4
.4′−ジアミノジフェニルスルフォン0.03モルお
よヒ4.41−ジアミノジフェニルエーテル0.03モ
ルを、ならびに比較例5てはビス〔4(4アミノフェノ
キシ)フェニル〕スルフォン003モルおよび4.4’
 −ジアミノジフェニルエーテル003モルを用いる以
外は実施例1と同様にポリイミド化合物の製造を行なっ
たところ、いずれも反応液に析出物か生じ、溶剤可溶性
ポリイミドは得られなかった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (A)4,4′−ジアミノジフェニルスルフォンとビス
    〔4(4アミノフェノキシ)フェニル〕スルフォンの量
    比がモル比で2:8乃至7:3であり、その混合物を主
    成分とするジアミン成分と、(B)3,3′,4,4′
    −ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を主成分と
    するテトラカルボン酸二無水物とを極性有機溶媒中で反
    応させることを特徴とする有機溶媒可溶性ポリイミドの
    製造法。
JP13460088A 1988-05-31 1988-05-31 可溶性ポリイミドの製造法 Pending JPH01304124A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05138809A (ja) * 1991-11-16 1993-06-08 Toshiba Chem Corp 銅張積層板
CN114096589A (zh) * 2019-07-10 2022-02-25 三菱瓦斯化学株式会社 聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜

Cited By (3)

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CN114096589A (zh) * 2019-07-10 2022-02-25 三菱瓦斯化学株式会社 聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜
CN114096589B (zh) * 2019-07-10 2024-03-08 三菱瓦斯化学株式会社 聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜

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