JPH01287449A - パターン欠陥検査装置 - Google Patents
パターン欠陥検査装置Info
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- JPH01287449A JPH01287449A JP11873088A JP11873088A JPH01287449A JP H01287449 A JPH01287449 A JP H01287449A JP 11873088 A JP11873088 A JP 11873088A JP 11873088 A JP11873088 A JP 11873088A JP H01287449 A JPH01287449 A JP H01287449A
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Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔産業上の利用分野１
本発明は半導体装置製造工程におけるフォトリングラフ
イー技術の如く、同一形状のパターンを多数転写形成す
る際に形成されたパターンが正常か否かを検査する為の
パターン欠陥検査装置に関するものである。 〔従来の技術］ 従来行なわれてきたパターン欠陥検査装置には隣接グイ
比較方式と、ＣＡＤデーター比較方式がある。ｖＡ接タ
イ比較方式においては隣接したグイ双方の画像情報を取
り込み、同一個所の画像情報を比較判定し、差異個所を
欠陥個所として認識するものである。一方、ＣＡＤデー
タ比較方式ではＣＡＤデータによって生成されたパター
ン情報とグイの画像情報を比較判定するものである。
イー技術の如く、同一形状のパターンを多数転写形成す
る際に形成されたパターンが正常か否かを検査する為の
パターン欠陥検査装置に関するものである。 〔従来の技術］ 従来行なわれてきたパターン欠陥検査装置には隣接グイ
比較方式と、ＣＡＤデーター比較方式がある。ｖＡ接タ
イ比較方式においては隣接したグイ双方の画像情報を取
り込み、同一個所の画像情報を比較判定し、差異個所を
欠陥個所として認識するものである。一方、ＣＡＤデー
タ比較方式ではＣＡＤデータによって生成されたパター
ン情報とグイの画像情報を比較判定するものである。
従来一般的に用いられてきた隣接タイ比較方式によるパ
ターン欠陥検査装置においては同一ウェハー上の隣接タ
イ同志の比較検査を行なう為、各ダイ同志に共通な欠陥
が発生した場合、欠陥として検出する事は不可能である
。さらに、他のウェハー、マスク同志での比較検査、拡
大、縮少されたパターン同志を比較検査することも不可
能であった。
ターン欠陥検査装置においては同一ウェハー上の隣接タ
イ同志の比較検査を行なう為、各ダイ同志に共通な欠陥
が発生した場合、欠陥として検出する事は不可能である
。さらに、他のウェハー、マスク同志での比較検査、拡
大、縮少されたパターン同志を比較検査することも不可
能であった。
本発明は以上に述べた様な問題点を解決する為のもので
あり、検査基準となる画像情報の取り込みと修正を行な
う機能を検査機能と分離して持たせ、被検査パターンと
修正された画像情報との比較検査を行なう事によって、
欠陥検査を行なわしめるものである。 【実 施 例］ 第１図に本発明の実施例によるウェハーパターン欠陥検
査装置の機能ブロック図を示す。 本実施例では縮少投影露光装置を用いて作成されたウェ
ハー上のレジストパターンを、あらかしめ良品であると
判定されているウェハーパターンを比較検査用画像情報
としてメモリーに取り込みその後、被検ウェハーの比較
検査を行っている。 図中（１）で示されたＸ、Ｙテーブルにのせられた基準
ウェハー上のレジストパターンを光学系（３）を介しＣ
ＯＤ （４）にて、パターンデータに変換し、ステージ
コントローラー（６）よりの位置情報とあわせ画像情報
として、メモリー（６）に取り込む、さらに取り込まれ
た画像情報を、パターンとしてＣＲＴ （９）上に表示
し、必要に応じて修正を行なう。 その後、基準ウェハーを被検ウェハーに置きかえ検査を
行なう、検査時は、ＣＣＤのパターンデータを比較判定
回路（７）に転送し、あらかじめ画像情報メモリー（６
）に取り込まれているパターンデータと比較判定し、欠
陥と判定された個所のみをＣＲＴ（１０）上に表示する
。 ［発明の効果］ 前記した実施例によれば、従来困難であったチップ面積
の大きな素子（縮少投影露光装置の露光エリアに１チツ
プのみ収容できる様な素子）のパターン欠陥検査が、良
品パターンと比較検査する事により容易に実施できた。 さらに、パターンの修正機能を持たせる事により、ゲー
トアレイ等の多品種少量生産品の欠陥検査においても、
基準パターンの部分的な修正を行なう事により、各機種
の欠陥検査に対応可能である。 また別の効果として、画像情報として線中等にある許容
中をもたせたデータを入力させる事により、精度管理を
伴った欠陥検査を行わせる事が可能である。
あり、検査基準となる画像情報の取り込みと修正を行な
う機能を検査機能と分離して持たせ、被検査パターンと
修正された画像情報との比較検査を行なう事によって、
欠陥検査を行なわしめるものである。 【実 施 例］ 第１図に本発明の実施例によるウェハーパターン欠陥検
査装置の機能ブロック図を示す。 本実施例では縮少投影露光装置を用いて作成されたウェ
ハー上のレジストパターンを、あらかしめ良品であると
判定されているウェハーパターンを比較検査用画像情報
としてメモリーに取り込みその後、被検ウェハーの比較
検査を行っている。 図中（１）で示されたＸ、Ｙテーブルにのせられた基準
ウェハー上のレジストパターンを光学系（３）を介しＣ
ＯＤ （４）にて、パターンデータに変換し、ステージ
コントローラー（６）よりの位置情報とあわせ画像情報
として、メモリー（６）に取り込む、さらに取り込まれ
た画像情報を、パターンとしてＣＲＴ （９）上に表示
し、必要に応じて修正を行なう。 その後、基準ウェハーを被検ウェハーに置きかえ検査を
行なう、検査時は、ＣＣＤのパターンデータを比較判定
回路（７）に転送し、あらかじめ画像情報メモリー（６
）に取り込まれているパターンデータと比較判定し、欠
陥と判定された個所のみをＣＲＴ（１０）上に表示する
。 ［発明の効果］ 前記した実施例によれば、従来困難であったチップ面積
の大きな素子（縮少投影露光装置の露光エリアに１チツ
プのみ収容できる様な素子）のパターン欠陥検査が、良
品パターンと比較検査する事により容易に実施できた。 さらに、パターンの修正機能を持たせる事により、ゲー
トアレイ等の多品種少量生産品の欠陥検査においても、
基準パターンの部分的な修正を行なう事により、各機種
の欠陥検査に対応可能である。 また別の効果として、画像情報として線中等にある許容
中をもたせたデータを入力させる事により、精度管理を
伴った欠陥検査を行わせる事が可能である。
第１図は、本発明の実施例によるウェハーパターン欠陥
検査装置の機能ブロック図。 ｌ・・・Ｘ％Ｙステージ ２・・・ステージコントローラー ３・・・光学系 ４・・・Ｃ０Ｄ ５・・・ランプ ６・・・画像情報メモリー ７・・・比較判定回路 ８・・・画像データプロセッサー ９・・・ＣＲＴ １０・・・ＣＲＴ 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社
検査装置の機能ブロック図。 ｌ・・・Ｘ％Ｙステージ ２・・・ステージコントローラー ３・・・光学系 ４・・・Ｃ０Ｄ ５・・・ランプ ６・・・画像情報メモリー ７・・・比較判定回路 ８・・・画像データプロセッサー ９・・・ＣＲＴ １０・・・ＣＲＴ 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 写真露光技術等を用いて同一形状のパターンを多数形
成する工程における、形成後のパターンの合否を検査す
るパターン欠陥検査装置において、以下の各構成を有す
る事を特徴とするパターン欠陥検査装置。 （ａ）標準となるサンプル、又はマスク等のパターンを
光学的に画像情報として内部メモリーに取り込み、格納
する手段、 （ｂ）前記画像情報をＣＲＴ等の表示装置上にパターン
として表示せしめたのち、パターンの修正、追加、削除
等を行ない画像情報を修正する手段、 （ｃ）被検パターンを光学的に画像情報として取り込み
、さらに前記修正された画像情報と比較検査を行ない差
異部分を欠陥として検出、表示を行なう手段。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11873088A JPH01287449A (ja) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | パターン欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11873088A JPH01287449A (ja) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | パターン欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01287449A true JPH01287449A (ja) | 1989-11-20 |
Family
ID=14743654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11873088A Pending JPH01287449A (ja) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | パターン欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01287449A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006234554A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
| KR20210023977A (ko) | 2018-06-21 | 2021-03-04 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판의 결함 검사 방법, 기억 매체 및 기판의 결함 검사 장치 |
-
1988
- 1988-05-16 JP JP11873088A patent/JPH01287449A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006234554A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
| KR20210023977A (ko) | 2018-06-21 | 2021-03-04 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판의 결함 검사 방법, 기억 매체 및 기판의 결함 검사 장치 |
| US11669955B2 (en) | 2018-06-21 | 2023-06-06 | Tokyo Electron Limited | Substrate defect inspection method, storage medium, and substrate defect inspection apparatus |
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