JPH01283754A - 蛍光表示パネル - Google Patents
蛍光表示パネルInfo
- Publication number
- JPH01283754A JPH01283754A JP11163388A JP11163388A JPH01283754A JP H01283754 A JPH01283754 A JP H01283754A JP 11163388 A JP11163388 A JP 11163388A JP 11163388 A JP11163388 A JP 11163388A JP H01283754 A JPH01283754 A JP H01283754A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phosphor layer
- display panel
- filament
- glass substrate
- sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 32
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- KOWWOODYPWDWOJ-LVBPXUMQSA-N elatine Chemical compound C([C@]12CN(C3[C@@]45OCO[C@]44[C@H]6[C@@H](OC)[C@@H]([C@H](C4)OC)C[C@H]6[C@@]3([C@@H]1[C@@H]5OC)[C@@H](OC)CC2)CC)OC(=O)C1=CC=CC=C1N1C(=O)CC(C)C1=O KOWWOODYPWDWOJ-LVBPXUMQSA-N 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000941 radioactive substance Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は９例えば計測器、車搭佐メータまたは自動事務
機器の端末機等に用いられて文字表示、グラフィック表
示するセル型蛍光表示パネルに関するものである。
機器の端末機等に用いられて文字表示、グラフィック表
示するセル型蛍光表示パネルに関するものである。
一般に、セル型蛍光表示パネルは、２つの相対するガラ
ス基板の間に配置され蛍光体層と。
ス基板の間に配置され蛍光体層と。
この蛍光体層を画素毎に選択的に駆動する蛍光体層駆動
手段とから成っている。従来技術では、蛍光体層駆動手
段は、一方のガラス基板の内側てこのガラス基板と蛍光
体層との間に設けられた透明な陽極電極と、他方のガラ
ス基板の内側に支柱を介して設けられたタングステンフ
ィラメントと９両ガラス基板の間に挟んて支持されたｌ
乃至複数枚のグリッド制御電極とから成っている（例え
ば、実公昭５８−１０２８４号公報参照）。表側及び表
側のガラス基板はフォトリングラフィな用いたエツチン
グによって内面を蝕刻するかフリットガラスペーストの
塗！Ｉと焼成の工程を数回縁り返しガラスストライプを
積上げて隔壁を形成する作業を行なってから上記部品の
組立を行なっている。
手段とから成っている。従来技術では、蛍光体層駆動手
段は、一方のガラス基板の内側てこのガラス基板と蛍光
体層との間に設けられた透明な陽極電極と、他方のガラ
ス基板の内側に支柱を介して設けられたタングステンフ
ィラメントと９両ガラス基板の間に挟んて支持されたｌ
乃至複数枚のグリッド制御電極とから成っている（例え
ば、実公昭５８−１０２８４号公報参照）。表側及び表
側のガラス基板はフォトリングラフィな用いたエツチン
グによって内面を蝕刻するかフリットガラスペーストの
塗！Ｉと焼成の工程を数回縁り返しガラスストライプを
積上げて隔壁を形成する作業を行なってから上記部品の
組立を行なっている。
（発明か解決しようとする１１題〕
しかし、ガラス基板の隔壁をエラチンつて形成する場合
には蛍光体層及び陽極′、セ極を隔壁の溝の間にスクリ
ーン印刷するかスパッタリングしてストライブ状に形成
するか、溝の存在によってこれらの層をコーティングす
る際に特殊な治几を必要とし、またガラスノ、（板に陽
極′Ｉ［極及びＱｉ光体層を形成した後に、フリットガ
ラスを用いてスクリーン印刷の−にね塗りか必要である
か、厚膜スクリーン印刷では格子幅を制御することか困
難であるトにクラックを生し易く、また１回の塗りか１
５〜３０鉢ｍか限界であるため通常セル型蛍光表示パネ
ルに必要な隔壁高さである０゜３〜０．５ｍｍにするに
は２０〜５０回の塗！貼乾煙工程か必安どなって作業性
か低い１；にこの工程中に蛍光体層か汚損する傾向かあ
って歩留まり及び製造性か低い欠点かあった。また、ガ
ラス基板の隔壁にガラス等の絶縁材料を用いると、フィ
ラメントからの゛重子放射によって隔壁か負に帯電する
ためセル内の′Ｉｔ位分４ｉか変化し９画素輝度の分布
か一様でなくなる欠点かあった。更に、フィラメントを
プラズマやＣＶＤ法の如き薄膜技術を用いて形成すると
、フィラメント形成蒔の基板温度か通常３００〜５００
℃となるか、フィラメントから電子か放散される温度か
６００〜７００℃であるためにタングステンフィラメン
トを蒸着したままであると、タングステンフィラメント
か変形することかあり、このためフィラメント膜を−ｇ
１７００°Ｃ以上の温度で焼鈍する必要かあるか。
には蛍光体層及び陽極′、セ極を隔壁の溝の間にスクリ
ーン印刷するかスパッタリングしてストライブ状に形成
するか、溝の存在によってこれらの層をコーティングす
る際に特殊な治几を必要とし、またガラスノ、（板に陽
極′Ｉ［極及びＱｉ光体層を形成した後に、フリットガ
ラスを用いてスクリーン印刷の−にね塗りか必要である
か、厚膜スクリーン印刷では格子幅を制御することか困
難であるトにクラックを生し易く、また１回の塗りか１
５〜３０鉢ｍか限界であるため通常セル型蛍光表示パネ
ルに必要な隔壁高さである０゜３〜０．５ｍｍにするに
は２０〜５０回の塗！貼乾煙工程か必安どなって作業性
か低い１；にこの工程中に蛍光体層か汚損する傾向かあ
って歩留まり及び製造性か低い欠点かあった。また、ガ
ラス基板の隔壁にガラス等の絶縁材料を用いると、フィ
ラメントからの゛重子放射によって隔壁か負に帯電する
ためセル内の′Ｉｔ位分４ｉか変化し９画素輝度の分布
か一様でなくなる欠点かあった。更に、フィラメントを
プラズマやＣＶＤ法の如き薄膜技術を用いて形成すると
、フィラメント形成蒔の基板温度か通常３００〜５００
℃となるか、フィラメントから電子か放散される温度か
６００〜７００℃であるためにタングステンフィラメン
トを蒸着したままであると、タングステンフィラメント
か変形することかあり、このためフィラメント膜を−ｇ
１７００°Ｃ以上の温度で焼鈍する必要かあるか。
この工程か困難てあり、またフィラメントか既に支柱と
一体であるために電子放射性物質である（Ｂａ、Ｓｒ、
Ｃａ）Ｏの塗布は通常よく用いられるｍ線フィラメント
・枕着法、電気泳動法等が用いられないて多元ターゲッ
トを右するスパッタ法等の真空へ着法を用いる必要かあ
って工程か面倒となる欠点かあった。
一体であるために電子放射性物質である（Ｂａ、Ｓｒ、
Ｃａ）Ｏの塗布は通常よく用いられるｍ線フィラメント
・枕着法、電気泳動法等が用いられないて多元ターゲッ
トを右するスパッタ法等の真空へ着法を用いる必要かあ
って工程か面倒となる欠点かあった。
木９：川の目的は、上記の製造上及び性濠上の欠点を回
避し、製造性かよく５品質の良好な蛍光表示パネルを提
供することにある。
避し、製造性かよく５品質の良好な蛍光表示パネルを提
供することにある。
（３題を解決するための手段〕
本発明は、上記の課題を解決するために１表側のガラス
基板と裏側の絶縁基板とガラス基板の内面に設けられた
蛍光体層とこの蛍光体層を画素毎に選択的に駆動する蛍
光体層駆動手段とから成っている蛍光表示パネルにおい
て、蛍光体層駆動手段はガラス基板と蛍光体層との間に
設けられた透明な陽極電極と、ガラス基板と絶縁基板と
の間にそれぞれスペーサを介して配置されたシート状の
フィラメント及び制御電極とから成り、シート状フィラ
メント及び制御゛電極はスリット付き電極枠にフィラメ
ント線または制御グリッドを支持して形成されているこ
とを特徴とする蛍光表示パネルを提供するものである。
基板と裏側の絶縁基板とガラス基板の内面に設けられた
蛍光体層とこの蛍光体層を画素毎に選択的に駆動する蛍
光体層駆動手段とから成っている蛍光表示パネルにおい
て、蛍光体層駆動手段はガラス基板と蛍光体層との間に
設けられた透明な陽極電極と、ガラス基板と絶縁基板と
の間にそれぞれスペーサを介して配置されたシート状の
フィラメント及び制御電極とから成り、シート状フィラ
メント及び制御゛電極はスリット付き電極枠にフィラメ
ント線または制御グリッドを支持して形成されているこ
とを特徴とする蛍光表示パネルを提供するものである。
このように、ガラス基板、絶縁基板、制御Ｊ１電極及び
フィラメントをそれぞれ別工程でシート状に形成してＭ
」み立てるのてそれぞれの品質管理か容易となる上に製
造性かよくなり、特にフィラメントは他の部品とは独立
して形成されるのてフィラメントは別王程て焼鈍すれば
よいから変形を生ずることかなく、またスペーサによっ
て各電極間の間隔を容易に調整することかてさ、セルを
形成する隔壁はスペーサによって形成されるのて工程が
増すことかなく９品質の良好な蛍光表示パネルを高い製
造性て得ることかてきる。
フィラメントをそれぞれ別工程でシート状に形成してＭ
」み立てるのてそれぞれの品質管理か容易となる上に製
造性かよくなり、特にフィラメントは他の部品とは独立
して形成されるのてフィラメントは別王程て焼鈍すれば
よいから変形を生ずることかなく、またスペーサによっ
て各電極間の間隔を容易に調整することかてさ、セルを
形成する隔壁はスペーサによって形成されるのて工程が
増すことかなく９品質の良好な蛍光表示パネルを高い製
造性て得ることかてきる。
本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明すると、第
１図及び第２図は本発明に係る蛍光表示パネルｌＯを示
し、この蛍光表示パネルｌＯは９表側のガラス基板１２
と、裏側の絶縁基板１２°と、ガラス基板１２の内面に
設けられた例えばＺｎＯ： Ｚｎの蛍光体層１４と、こ
の蛍光体層１４を画素毎に選択的に駆動する蛍光体層駆
動手段１６とから成っている。絶縁基板１２“は、ガラ
ス、アルミナ等の無機物の外に１アルマイトの如き絶縁
皮膜処理を施したアルミニウム等の金属板を用いること
かてき、この絶縁基板１２’はその表面に酸化錫、アル
ミニウム等の導電性ｆＭ膜を形成し、このドル膜は図示
しないその端子にスペーサ電極を介してアース電位に接
続されて外部′−せ磁場の影響を受けることかないよう
にし、また表面の帯電−を防止することができる。
１図及び第２図は本発明に係る蛍光表示パネルｌＯを示
し、この蛍光表示パネルｌＯは９表側のガラス基板１２
と、裏側の絶縁基板１２°と、ガラス基板１２の内面に
設けられた例えばＺｎＯ： Ｚｎの蛍光体層１４と、こ
の蛍光体層１４を画素毎に選択的に駆動する蛍光体層駆
動手段１６とから成っている。絶縁基板１２“は、ガラ
ス、アルミナ等の無機物の外に１アルマイトの如き絶縁
皮膜処理を施したアルミニウム等の金属板を用いること
かてき、この絶縁基板１２’はその表面に酸化錫、アル
ミニウム等の導電性ｆＭ膜を形成し、このドル膜は図示
しないその端子にスペーサ電極を介してアース電位に接
続されて外部′−せ磁場の影響を受けることかないよう
にし、また表面の帯電−を防止することができる。
蛍光体層駆動手段１６は、ガラス基板１２と蛍光体層１
４との間に設けられたＩＴＣ）（Ｉｎ２０ｆｆ ・５ｎ
Ｏ２）等の透明な陽極電極１８と、ガラス基−＆ｉ ｌ
２と絶縁基板１２°との間にそれ−ぞれスペーサ２０
．２０’ 、２０”を介して配置されたシート状のフィ
ラメント２２及び制御電極２４とから成っている。尚、
陽極″Ｉ［極１８の端子１８ａはＮｉ／Ｃｒ１１２をス
パッタ法によって付けて補強するのか好ましい。
４との間に設けられたＩＴＣ）（Ｉｎ２０ｆｆ ・５ｎ
Ｏ２）等の透明な陽極電極１８と、ガラス基−＆ｉ ｌ
２と絶縁基板１２°との間にそれ−ぞれスペーサ２０
．２０’ 、２０”を介して配置されたシート状のフィ
ラメント２２及び制御電極２４とから成っている。尚、
陽極″Ｉ［極１８の端子１８ａはＮｉ／Ｃｒ１１２をス
パッタ法によって付けて補強するのか好ましい。
図示の実施例では、制御゛、シ極２４は、スペーサ２０
′を介して相互に直交するように配置された第１と第２
とのＭ１４電極２４Ａ、２４Ｂから成っている。スペー
サ２０．２０″、２０″はフィラメント、 Ｈ制御電極
及び陽極電極の適正な間隔を制σ蓼性よく設定するため
に用いられ。
′を介して相互に直交するように配置された第１と第２
とのＭ１４電極２４Ａ、２４Ｂから成っている。スペー
サ２０．２０″、２０″はフィラメント、 Ｈ制御電極
及び陽極電極の適正な間隔を制σ蓼性よく設定するため
に用いられ。
これらのスペーサは例えば５ＵＳ４２６’Ｖの金１ぶて
形成されるが、第１のスペーサ２０の下面及び第３のス
ペーサ２０−”の１−面のように′１に極端子と接触す
る部分は表面をフリットガラス。
形成されるが、第１のスペーサ２０の下面及び第３のス
ペーサ２０−”の１−面のように′１に極端子と接触す
る部分は表面をフリットガラス。
シリカ薄膜によって絶縁処理することか必要である。
シート状フィラメント２２は、第２図に示すように、予
めスリット加工された５ＵＳ４２６合金板に例えばゾル
ゲル法によってシリカ（Ｓ１０２）薄膜の如き絶縁層な
形成したフィラメントｉ［極枠２６に別王程てエツチン
グ加工して形成された厚みか５０ｐｍの支持翼２８ ａ
を予めイ１するタングステンフィラメント線２８を載せ
、その支持’Ａ ２８ ａをフリットガラスペースト２
９等をスクリーン印刷して９１Ｈ５Ｌ／焼成することに
よって固定して形成する。゛重子放射性物質は゛上極端
子２２ａをテープ等でマスキングした状ｙＥてフィラメ
ントの七に選択的に９１Ｈｉするシート状制御電極２４
は、第３図に示すように、フィラメント２０と同様の方
法で形成されるか、予め絶縁処理されたスリット付きの
電極枠３０にメツシュ状の制御グリッド３２を支持して
フリットガラス３３て絶縁して固定して形成される。
めスリット加工された５ＵＳ４２６合金板に例えばゾル
ゲル法によってシリカ（Ｓ１０２）薄膜の如き絶縁層な
形成したフィラメントｉ［極枠２６に別王程てエツチン
グ加工して形成された厚みか５０ｐｍの支持翼２８ ａ
を予めイ１するタングステンフィラメント線２８を載せ
、その支持’Ａ ２８ ａをフリットガラスペースト２
９等をスクリーン印刷して９１Ｈ５Ｌ／焼成することに
よって固定して形成する。゛重子放射性物質は゛上極端
子２２ａをテープ等でマスキングした状ｙＥてフィラメ
ントの七に選択的に９１Ｈｉするシート状制御電極２４
は、第３図に示すように、フィラメント２０と同様の方
法で形成されるか、予め絶縁処理されたスリット付きの
電極枠３０にメツシュ状の制御グリッド３２を支持して
フリットガラス３３て絶縁して固定して形成される。
このようにして形成された各部品は裏側の絶縁基板１２
°を除いてシートの各周縁にフリットガラスペーストを
塗布し、乾煙し、その上に酸化インジウムまたはガラス
はんだを塗り、これを熱圧着して竿状に組み立て、更に
真空中て佼体と絶縁基板とを加熱し９両者の間にシール
材を塗布し、加熱して封止する。この場合の加熱手段と
しては例えばビーム径を数ｍｍ程度に拡げたレーザビー
ムを用い、このビームてガラスはんだを溶かして接着す
ることができる。
°を除いてシートの各周縁にフリットガラスペーストを
塗布し、乾煙し、その上に酸化インジウムまたはガラス
はんだを塗り、これを熱圧着して竿状に組み立て、更に
真空中て佼体と絶縁基板とを加熱し９両者の間にシール
材を塗布し、加熱して封止する。この場合の加熱手段と
しては例えばビーム径を数ｍｍ程度に拡げたレーザビー
ムを用い、このビームてガラスはんだを溶かして接着す
ることができる。
第４図は本発明の他の実施例を示し、この実施例では、
４つのスペーサ２０．２０’ 、２０”、２０’ ”か
用いられ、第２と第３との中間の２つのスペーサ２０’
、２０″は他のスペーサの格子孔よりも大きな格子孔
として数セルに亙って隔壁を省略した状態とし、第１の
制御電極２４Ａの両側には第２と第３のスペーサ２０゛
、２０”とか請層され、第１のスペーサ２０は第２のス
ペーサ２０′の真下に配ｔされている。このようにする
と、全部品を組み立てて真空引きする際に、排気効率が
よくなるのて好ましい、尚、この場合、大きな格子孔で
排気作業中にセル内ての耐圧壊特性が低下するのを防止
するために各部品間にフリットガラスの封石材を塗布し
、４００°Ｃ以上の高温で圧着してリブ補強してもよい
。
４つのスペーサ２０．２０’ 、２０”、２０’ ”か
用いられ、第２と第３との中間の２つのスペーサ２０’
、２０″は他のスペーサの格子孔よりも大きな格子孔
として数セルに亙って隔壁を省略した状態とし、第１の
制御電極２４Ａの両側には第２と第３のスペーサ２０゛
、２０”とか請層され、第１のスペーサ２０は第２のス
ペーサ２０′の真下に配ｔされている。このようにする
と、全部品を組み立てて真空引きする際に、排気効率が
よくなるのて好ましい、尚、この場合、大きな格子孔で
排気作業中にセル内ての耐圧壊特性が低下するのを防止
するために各部品間にフリットガラスの封石材を塗布し
、４００°Ｃ以上の高温で圧着してリブ補強してもよい
。
また、この実施例では、制御電極２４の端子２４ａを形
成する際に、第５図に示すように。
成する際に、第５図に示すように。
メツシュ状制御グリッド３２の上て端子２４ａを形成す
る部分を除いてスクリーン印刷法によってフリットガラ
スをＱ １１ｊ Ｌ／ 、焼成して絶縁膜３３を形成す
るが、端子となる部分３２ａから縁の部分３２ｂを切り
落として端子２４ａを形成する。
る部分を除いてスクリーン印刷法によってフリットガラ
スをＱ １１ｊ Ｌ／ 、焼成して絶縁膜３３を形成す
るが、端子となる部分３２ａから縁の部分３２ｂを切り
落として端子２４ａを形成する。
本発明によれば、上記のように、ガラス基板、絶縁基板
、制御電極及びフィラメントをそれぞれ別工程でシート
状に形成して組み立てるのてそれぞれの品質管理が容易
となる上に製造性かよくなり、従って良質の蛍光表示パ
ネルを安価に製造することかできる実益かある。
、制御電極及びフィラメントをそれぞれ別工程でシート
状に形成して組み立てるのてそれぞれの品質管理が容易
となる上に製造性かよくなり、従って良質の蛍光表示パ
ネルを安価に製造することかできる実益かある。
第１図は本発明に係る蛍光表示パネルの分解状態の斜視
図、第２図及び第３図はそれぞれ本発明に用いられるフ
ィラメントとル制御電極との要部の拡大斜視図、第４図
は本発明の蛍光表示パネルの他の実施例の分解斜視図、
第５図は第４ＬＡのパネルに用いられる制御電極の拡大
斜視図である。 １０−−−−一蛍光表示パネル、１２−−−−一ガラス
基板、１２’−−−−−絶縁基板、１４−−−−一蛍光
体層、１６−−−−−蛍光体層駆動手段、１ｓ−−−−
一透明陽極電極、２０．２０“、２０” 、２０’ ”
−−一−−スペーサ、２２−−−一一フィラメント、
２４−−−−−制御電極。
図、第２図及び第３図はそれぞれ本発明に用いられるフ
ィラメントとル制御電極との要部の拡大斜視図、第４図
は本発明の蛍光表示パネルの他の実施例の分解斜視図、
第５図は第４ＬＡのパネルに用いられる制御電極の拡大
斜視図である。 １０−−−−一蛍光表示パネル、１２−−−−一ガラス
基板、１２’−−−−−絶縁基板、１４−−−−一蛍光
体層、１６−−−−−蛍光体層駆動手段、１ｓ−−−−
一透明陽極電極、２０．２０“、２０” 、２０’ ”
−−一−−スペーサ、２２−−−一一フィラメント、
２４−−−−−制御電極。
Claims (1)
- 表側のガラス基板と裏側の絶縁基板とのガラス基板の内
面に設けられた蛍光体層と前記蛍光体層を画素毎に選択
的に駆動する蛍光体層駆動手段とから成っている蛍光表
示パネルにおいて、前記蛍光体層駆動手段はガラス基板
と蛍光体層との間に設けられた透明な陽極電極と前記ガ
ラス基板と絶縁基板との間にそれぞれスペーサを介して
配置されたシート状のフィラメント及び制御電極とから
成り、前記シート状フィラメント及び制御電極はスリッ
ト付き電極枠にフィラメント線または制御グリッドを支
持して形成されていることを特徴とする蛍光表示パネル
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11163388A JPH01283754A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 蛍光表示パネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11163388A JPH01283754A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 蛍光表示パネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01283754A true JPH01283754A (ja) | 1989-11-15 |
Family
ID=14566259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11163388A Pending JPH01283754A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 蛍光表示パネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01283754A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100252781B1 (ko) * | 1996-06-14 | 2000-04-15 | 김덕중 | 격자형스페이서를이용한전계방출표시소자의제조방법 |
-
1988
- 1988-05-10 JP JP11163388A patent/JPH01283754A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100252781B1 (ko) * | 1996-06-14 | 2000-04-15 | 김덕중 | 격자형스페이서를이용한전계방출표시소자의제조방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0025221B1 (en) | Flat display device | |
| CN103107054A (zh) | 场发射装置 | |
| EP0042003B1 (en) | Method for forming a fusible spacer for plasma display panel | |
| US4428764A (en) | Method of making fusible spacer for display panel | |
| US4666415A (en) | Linear electrode construction for fluorescent display device and process for preparing same | |
| JPH01283754A (ja) | 蛍光表示パネル | |
| JP2000021335A (ja) | パネル型真空気密容器 | |
| US6555960B1 (en) | Flat display panel | |
| JP3486762B2 (ja) | 放電型表示装置の構造 | |
| JPS6229046A (ja) | 平面型画像表示装置 | |
| JP2689068B2 (ja) | ガス放電表示パネル | |
| US4160310A (en) | Metal-dielectric electron beam scanning stack | |
| JPS59209243A (ja) | 表示パネルの製造方法 | |
| JP2566155B2 (ja) | 平板型画像表示装置 | |
| JPH02177234A (ja) | 蛍光表示パネルの製造方法 | |
| CN102254765A (zh) | 场发射装置的制备方法 | |
| JPS58194229A (ja) | けい光表示装置とその製造方法 | |
| JPS603487Y2 (ja) | 螢光表示管用基板装置 | |
| JP2748382B2 (ja) | 平面型表示装置 | |
| JPS6341735Y2 (ja) | ||
| JPH07282748A (ja) | 電極スペーサおよびそれを用いた平面型表示装置用電極の製造方法 | |
| JPS62290043A (ja) | ドツトストリクス型蛍光表示パネル | |
| KR20010054429A (ko) | 전계방출 표시 장치 | |
| JP2000200568A (ja) | 平面型表示装置 | |
| JPS61237348A (ja) | ドツトマトリクス型螢光表示パネル |