JPH01282817A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH01282817A JPH01282817A JP63111457A JP11145788A JPH01282817A JP H01282817 A JPH01282817 A JP H01282817A JP 63111457 A JP63111457 A JP 63111457A JP 11145788 A JP11145788 A JP 11145788A JP H01282817 A JPH01282817 A JP H01282817A
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- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims abstract description 44
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、原版上に描かれたパターンを基板に転写する
露光装置に関し、例えば露光ビームとしてＸ線を用いる
露光装置において露光ビームの光軸と露光装置の転写露
光部の光軸との位置合せを好適に行なう露光装置に関す
るものである。
露光装置に関し、例えば露光ビームとしてＸ線を用いる
露光装置において露光ビームの光軸と露光装置の転写露
光部の光軸との位置合せを好適に行なう露光装置に関す
るものである。
［従来の技術］
Ｘ線露光装置に利用されるシンクロトロン放射光は発散
角が非常に小さく、例えば波長１０人付近の軟Ｘ線では
１ミリ・ラジアン以内である。従って、露光エリア内に
極めて高輝度のＸ線を得ることができる。
角が非常に小さく、例えば波長１０人付近の軟Ｘ線では
１ミリ・ラジアン以内である。従って、露光エリア内に
極めて高輝度のＸ線を得ることができる。
このような収集性の良いシンクロトロン放射光を用いた
転写露光においては、マスクとウェハとを所定のギャッ
プを保って平行に対向させて転写する際に、このマスク
とウェハに対してＸ線ビームを垂直かつ所定の露光エリ
ア内に入射させる必要がある。このビームが斜入射した
場合にはマスクの周辺にて転写像に位置ずれが生じ、そ
の結果Ｘ線の強度の高いビーム束が使えなくなるために
効率が低下してしまうからである。
転写露光においては、マスクとウェハとを所定のギャッ
プを保って平行に対向させて転写する際に、このマスク
とウェハに対してＸ線ビームを垂直かつ所定の露光エリ
ア内に入射させる必要がある。このビームが斜入射した
場合にはマスクの周辺にて転写像に位置ずれが生じ、そ
の結果Ｘ線の強度の高いビーム束が使えなくなるために
効率が低下してしまうからである。
［発明が解決しようとする課題］
特にシンクロトロン放射光の放射角度を設定するための
反射ミラーを用いる場合、この反射ミラーの設定角度が
適切でないと、ビーム束をマスクまたはウェハに垂直に
入射できなくなったり、ビーム束の入射位置がずれたり
するという問題があった。
反射ミラーを用いる場合、この反射ミラーの設定角度が
適切でないと、ビーム束をマスクまたはウェハに垂直に
入射できなくなったり、ビーム束の入射位置がずれたり
するという問題があった。
また、露光ビームがＸ線であるために、Ｘ線ビームと露
光装置の転写露光部本体との光軸合せに際しては、高価
なＸ線検出器が必要であるという不都合があった。
光装置の転写露光部本体との光軸合せに際しては、高価
なＸ線検出器が必要であるという不都合があった。
本発明は、このような露光ビームと転写露光部との整合
上の問題点を解決するものであり、露光ビームを転写露
光部内の原版または基板上に垂直にかつ所定の位置関係
で入射させ、転写ひずみを抑えた高精度の露光を実現す
ることを目的とする。
上の問題点を解決するものであり、露光ビームを転写露
光部内の原版または基板上に垂直にかつ所定の位置関係
で入射させ、転写ひずみを抑えた高精度の露光を実現す
ることを目的とする。
また、安価なシステムでの光軸合せを可能にすることも
目的とする。
目的とする。
［課題を解決するための手段および作用コ上記の目的を
達成するため、本発明は、照射源から照射されるＸ線ビ
ームを用いて原版上のパターンを基板上に転写露光する
転写露光部を備えた露光装置において、上記照射源から
照射される光に含まれる可視領域光を用いて上記照射源
と上記転写露光部との光軸合せを行なうこととしている
。これにより、高価なＸ線検出器を備えることなしに光
軸合せを行なうことができる。
達成するため、本発明は、照射源から照射されるＸ線ビ
ームを用いて原版上のパターンを基板上に転写露光する
転写露光部を備えた露光装置において、上記照射源から
照射される光に含まれる可視領域光を用いて上記照射源
と上記転写露光部との光軸合せを行なうこととしている
。これにより、高価なＸ線検出器を備えることなしに光
軸合せを行なうことができる。
このために、転写露光部に至る照射源からの可視領域光
の光軸上に設置および退避可能であって、照射源からの
可視領域光の光軸位置および転写露光部の基準面の傾き
を観察する第１の観察光学系と、転写露光部の基準面の
照射源からの可視領域光の光軸に対する位置ずれを観察
する第２の観察光学系とからなる光軸調整用光学系を備
えたり、さらに照射源からの可視領域光に対する光軸調
整用光学系の位置を調整する第１の駆動手段や光軸調整
用光学系に対する転写露光部の位置を調整する第２の駆
動手段を備えることとすれば、露光光束と転写露光部と
を所定の関係に合せ込むことができる。
の光軸上に設置および退避可能であって、照射源からの
可視領域光の光軸位置および転写露光部の基準面の傾き
を観察する第１の観察光学系と、転写露光部の基準面の
照射源からの可視領域光の光軸に対する位置ずれを観察
する第２の観察光学系とからなる光軸調整用光学系を備
えたり、さらに照射源からの可視領域光に対する光軸調
整用光学系の位置を調整する第１の駆動手段や光軸調整
用光学系に対する転写露光部の位置を調整する第２の駆
動手段を備えることとすれば、露光光束と転写露光部と
を所定の関係に合せ込むことができる。
具体的には、光軸調整用光学系における第１の観察光学
系はオートコリメータ、第１のビームスプリッタおよび
コーナーキューブからなり、第２の観察光学系は望遠鏡
、ＴＶカメラおよび第２のビームスプリッタからなるこ
ととし、第１および第２のビームスプリッタがその光軸
を共有するようにすると良い。さらに、光軸調整用光学
系の照射源からの光ビーム入射部に光ビームの径より小
さな開口を有する遮光板を設けると良い。
系はオートコリメータ、第１のビームスプリッタおよび
コーナーキューブからなり、第２の観察光学系は望遠鏡
、ＴＶカメラおよび第２のビームスプリッタからなるこ
ととし、第１および第２のビームスプリッタがその光軸
を共有するようにすると良い。さらに、光軸調整用光学
系の照射源からの光ビーム入射部に光ビームの径より小
さな開口を有する遮光板を設けると良い。
［実施例コ
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第３図は、シンクロトロン放射光エネルギーの波長分布
を示すグラフである。横軸は波長で、縦軸はエネルギー
の相対値を示す。同図から、シンクロトロン放射光では
可視領域近傍の波長でも最大値の１／ １００程度のエ
ネルギーを有することがわかる。本実施例は、このシン
クロトロン放射光の可視領域近傍の光を用いて放射光と
転写露光部との光軸合せを行なうものである。
を示すグラフである。横軸は波長で、縦軸はエネルギー
の相対値を示す。同図から、シンクロトロン放射光では
可視領域近傍の波長でも最大値の１／ １００程度のエ
ネルギーを有することがわかる。本実施例は、このシン
クロトロン放射光の可視領域近傍の光を用いて放射光と
転写露光部との光軸合せを行なうものである。
第１図は、本発明の一実施例に係る露光装置の要部構成
を示す側面図である。同図において、１はＸ線露光装置
の転写露光部本体、２は第１の駆動装置である。第１の
駆動装置２によフて、Ｘ線転写露光部本体１を図のＸ、
Ｙ方向にそれぞれ平行移動したり、Ｘ、Ｙをそれぞれ軸
としたＷ ｘ 。
を示す側面図である。同図において、１はＸ線露光装置
の転写露光部本体、２は第１の駆動装置である。第１の
駆動装置２によフて、Ｘ線転写露光部本体１を図のＸ、
Ｙ方向にそれぞれ平行移動したり、Ｘ、Ｙをそれぞれ軸
としたＷ ｘ 。
ｗｙ力方向回転移動させることができる。３は電子軌道
装置ＳＯＲより放射される放射光、４はそれ自体を振動
させる等の方法により放射光３を面拡がりを持ったＸ線
束５に変換するミラー、６と７はそれぞれ転写露光部本
体１内におかれたマスクとウェハ、８は光軸調整用光学
系である。
装置ＳＯＲより放射される放射光、４はそれ自体を振動
させる等の方法により放射光３を面拡がりを持ったＸ線
束５に変換するミラー、６と７はそれぞれ転写露光部本
体１内におかれたマスクとウェハ、８は光軸調整用光学
系である。
光軸調整用光学系８は所定の関係に一体に支持された部
材９〜１６から構成され、第２の駆動装置１７によって
図のＸ’ 、Ｙ’力方向平行移動およびＷｘ’ 、Ｗｙ
’方向の回転移動が可能である。９はＸ線領域の放射光
をカットして可視領域近傍の光だけを透過させるノンブ
ラウンガラスなどからなるＸ線カットフィルタ、１０は
例えば円形や十字形状の開口を有する遮光板、１１およ
び１２は第１および第２のビームスプリッタ、１３はコ
ーナーキューブ、１４はオートコリメータ、１５は望遠
鏡、１６はＴＶカメラである。部材１１．１３．１４で
第１の観察光学系を、部材１２．１５．１６で第２の観
察光学系をそれぞれ構成する。なお、遮光板１０と第１
および第２のビームスプリッタ１１．１２はひとつの光
軸を共有するように配置される。
材９〜１６から構成され、第２の駆動装置１７によって
図のＸ’ 、Ｙ’力方向平行移動およびＷｘ’ 、Ｗｙ
’方向の回転移動が可能である。９はＸ線領域の放射光
をカットして可視領域近傍の光だけを透過させるノンブ
ラウンガラスなどからなるＸ線カットフィルタ、１０は
例えば円形や十字形状の開口を有する遮光板、１１およ
び１２は第１および第２のビームスプリッタ、１３はコ
ーナーキューブ、１４はオートコリメータ、１５は望遠
鏡、１６はＴＶカメラである。部材１１．１３．１４で
第１の観察光学系を、部材１２．１５．１６で第２の観
察光学系をそれぞれ構成する。なお、遮光板１０と第１
および第２のビームスプリッタ１１．１２はひとつの光
軸を共有するように配置される。
１８．１８’ はそれぞれオートコリメータ１４および
ＴＶカメラ１６からの信号を処理し、制御部１９．１９
’へ伝える信号処理部である。制御部１９．１９’ は
、それぞれ信号処理部１８゜１８′からの出力を元にし
て、第１の駆動装置２および第２の駆動装置１７を駆動
するための制御信号を出力する。２０は光軸調整のため
の基準面で、例えば、その中心に十字形状の位置合せマ
ークを有する光学的反射平面であり、マスクまたはウェ
ハと同じ大きさと形状をしている。図では、マスクの替
りにマスク６゛の位置に設置されている。
ＴＶカメラ１６からの信号を処理し、制御部１９．１９
’へ伝える信号処理部である。制御部１９．１９’ は
、それぞれ信号処理部１８゜１８′からの出力を元にし
て、第１の駆動装置２および第２の駆動装置１７を駆動
するための制御信号を出力する。２０は光軸調整のため
の基準面で、例えば、その中心に十字形状の位置合せマ
ークを有する光学的反射平面であり、マスクまたはウェ
ハと同じ大きさと形状をしている。図では、マスクの替
りにマスク６゛の位置に設置されている。
なお、図中の２つの座標系は露光装置の転写露光部１の
設置基準面Ｇに垂直な方向をＹ、Ｘ線束５の入射方向を
２とし、放射光３に平行な方向をＺ′、垂直な方向をＹ
′とする。
設置基準面Ｇに垂直な方向をＹ、Ｘ線束５の入射方向を
２とし、放射光３に平行な方向をＺ′、垂直な方向をＹ
′とする。
以上のように構成されたＸ線露光装置における光軸調整
の動作について以下に説明する。ただし、光軸調整に際
しては、転写露光部本体１の光軸調整用基準面２０の取
付けられるマスクまたはウェハのステージは、露光時の
基準となる位置と角度に置かれ、ミラー４もその最大振
動幅の中心となる角度に固定されているものとする。こ
のため、例えば、光軸調整用基準面２０が取付けられる
マスクステージをＷｚ力方向Ｚ軸方向を軸とする回転方
向）の回動だけが可能な構成とし、マスクステージの中
心と露光エリアの中心を一致させた設計としてもよい。
の動作について以下に説明する。ただし、光軸調整に際
しては、転写露光部本体１の光軸調整用基準面２０の取
付けられるマスクまたはウェハのステージは、露光時の
基準となる位置と角度に置かれ、ミラー４もその最大振
動幅の中心となる角度に固定されているものとする。こ
のため、例えば、光軸調整用基準面２０が取付けられる
マスクステージをＷｚ力方向Ｚ軸方向を軸とする回転方
向）の回動だけが可能な構成とし、マスクステージの中
心と露光エリアの中心を一致させた設計としてもよい。
光軸調整においては、まず露光ビームの光軸と光軸調整
用光学系８の光軸とを第１の観察光学系を用いて合せる
。最初に、光軸調整用光学系８を第２の駆動装置１７に
よってＸ’ −Ｙ’面内で平行移動させ、放射光３を横
切る位置に移動させて放射光３を入射させる。このとき
、放射光３のＸ線波長領域の光はＸ線カットフィルタ９
によってカットされ、可視領域近傍の光のみが遮光板１
゜の開口によって微小径に絞られ、第２のビームスプリ
ッタ１２を通過して、第１のビームスプリッタ１１に入
射する。第１のビームスプリッタ１１に入射した光の一
部は、第１の反射面によって折り曲げられ、コーナーキ
ューブ１３へ入射する。
用光学系８の光軸とを第１の観察光学系を用いて合せる
。最初に、光軸調整用光学系８を第２の駆動装置１７に
よってＸ’ −Ｙ’面内で平行移動させ、放射光３を横
切る位置に移動させて放射光３を入射させる。このとき
、放射光３のＸ線波長領域の光はＸ線カットフィルタ９
によってカットされ、可視領域近傍の光のみが遮光板１
゜の開口によって微小径に絞られ、第２のビームスプリ
ッタ１２を通過して、第１のビームスプリッタ１１に入
射する。第１のビームスプリッタ１１に入射した光の一
部は、第１の反射面によって折り曲げられ、コーナーキ
ューブ１３へ入射する。
そして、コーナーキューブ１３の特性により、入射方向
と同じ方向へコーナーキューブ１３から出射する。そし
て、再び第１のビームスプリッタ１１へ入射し、これを
透過してオートコリメータ１４へ入射する。
と同じ方向へコーナーキューブ１３から出射する。そし
て、再び第１のビームスプリッタ１１へ入射し、これを
透過してオートコリメータ１４へ入射する。
一方、第２のビームスプリッタ１２を通過して第１のビ
ームスプリッタ１１に入射し、その第１の反射面を透過
した残りの光は、ミラー４により所定の角度で折り曲げ
られ、転写露光部本体１に取付けられた光軸調整用基準
面２ｏ上にスポットを結ぶ。
ームスプリッタ１１に入射し、その第１の反射面を透過
した残りの光は、ミラー４により所定の角度で折り曲げ
られ、転写露光部本体１に取付けられた光軸調整用基準
面２ｏ上にスポットを結ぶ。
ここで、光軸調整用光学系８を放射光３を横切る位置へ
移動させて行くと、第２図に示すようにオートコリメー
タ１４の視野内に、放射光３の中の可視領域近傍の光が
、遮光板１０の開口で決まる形状のスポット２１として
現われてくる。このときオートコリメータ１４自身の投
光は止めておく。そこで、該スポット２１がオートコリ
メータ１４の視野の中心（カーソル２２の中心）ＯＣに
来るように、第２の駆動装置１７によって光軸調整用光
学系８を移動させる。これによって、放射光３の光軸ｏ
ｘとオートコリメータ１４の光軸ＯＡとが兵役の関係と
なる。
移動させて行くと、第２図に示すようにオートコリメー
タ１４の視野内に、放射光３の中の可視領域近傍の光が
、遮光板１０の開口で決まる形状のスポット２１として
現われてくる。このときオートコリメータ１４自身の投
光は止めておく。そこで、該スポット２１がオートコリ
メータ１４の視野の中心（カーソル２２の中心）ＯＣに
来るように、第２の駆動装置１７によって光軸調整用光
学系８を移動させる。これによって、放射光３の光軸ｏ
ｘとオートコリメータ１４の光軸ＯＡとが兵役の関係と
なる。
次に、第２の観察光学系も用いて、光軸調整用光学系８
と転写露光部本体１との光軸合せを行なう。まず、望遠
鏡１５とＴＶカメラ１６によって、第２のビームスプリ
ッタ１２を介して基準面２０上の中心に設けたマーク（
例えば、十字形状）を観察する。そのマークの中心が画
面の中央に見える基準面２０上のスポット（第２のビー
ムスプリッタ１２をそのまま透過した放射光３の可視領
域光の一部）の中心と一致するように、第１の駆動装置
２によって転写露光部本体１をＸ−Ｙ方向に移動させる
。そして、オートコリメータ１４の照明光によって、第
１のビームスプリッタ１１の第２の反射面を介して、十
字形状のカーソル２２（第２図）を基準面２０上に投影
すると、その基準面２０によるオートコリメータ１４の
視野内の反射像とカーソル２２とのずれから基準面２０
の法線（即ち、転写露光部本体１の光軸）の露光ビーム
光軸に対する傾きがわかる。そして、これが零となるよ
うに露光装置本体１を第１の駆動装置２によってＷｘ、
Ｗｙ力方向回動させる。
と転写露光部本体１との光軸合せを行なう。まず、望遠
鏡１５とＴＶカメラ１６によって、第２のビームスプリ
ッタ１２を介して基準面２０上の中心に設けたマーク（
例えば、十字形状）を観察する。そのマークの中心が画
面の中央に見える基準面２０上のスポット（第２のビー
ムスプリッタ１２をそのまま透過した放射光３の可視領
域光の一部）の中心と一致するように、第１の駆動装置
２によって転写露光部本体１をＸ−Ｙ方向に移動させる
。そして、オートコリメータ１４の照明光によって、第
１のビームスプリッタ１１の第２の反射面を介して、十
字形状のカーソル２２（第２図）を基準面２０上に投影
すると、その基準面２０によるオートコリメータ１４の
視野内の反射像とカーソル２２とのずれから基準面２０
の法線（即ち、転写露光部本体１の光軸）の露光ビーム
光軸に対する傾きがわかる。そして、これが零となるよ
うに露光装置本体１を第１の駆動装置２によってＷｘ、
Ｗｙ力方向回動させる。
この調整によって、基準面２０上のスポットが該基準面
２０上のマークの中心からずれた場合には、再び前述の
ように転写露光部本体１をＸ−Ｙ方向に移動させて調整
し、同様に基準面２０の傾きをＷｘ、Ｗｙ力方向回動に
よって調整する。
２０上のマークの中心からずれた場合には、再び前述の
ように転写露光部本体１をＸ−Ｙ方向に移動させて調整
し、同様に基準面２０の傾きをＷｘ、Ｗｙ力方向回動に
よって調整する。
以上の調整を繰り返して、転写露光部本体１と光軸調整
用光学系８との光軸合せを行なうことによって、最終的
に露光光の光軸ＯＸと転写露光部本体の光軸ＯＭとを一
致させることができる。調整が終了すると、光軸調整用
光学系８は放射光３を遮らない位置に退避し、露光可能
な状態となる。
用光学系８との光軸合せを行なうことによって、最終的
に露光光の光軸ＯＸと転写露光部本体の光軸ＯＭとを一
致させることができる。調整が終了すると、光軸調整用
光学系８は放射光３を遮らない位置に退避し、露光可能
な状態となる。
なお、Ｘ線ビームの発散角は前述のように１ミリ・ラジ
アンであるので、機械的精度としては０．１ ミリ・ラ
ジアン以下が要求されるが、オートコリメータは１秒（
５マイクロ・ラジアン）以下の精度が得られるので十分
である。
アンであるので、機械的精度としては０．１ ミリ・ラ
ジアン以下が要求されるが、オートコリメータは１秒（
５マイクロ・ラジアン）以下の精度が得られるので十分
である。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、露光光束と転写
露光部とを垂直かつ所定の位置関係に合せ込むことがで
きるので、転写ひずみを最小とした高精度の露光を実現
できる。
露光部とを垂直かつ所定の位置関係に合せ込むことがで
きるので、転写ひずみを最小とした高精度の露光を実現
できる。
また、ＳＯＲ等のＸ線発生装置に露光装置を接続する際
の位置合せ調整の簡易化を図ることができる。さらに、
Ｘ線検出器のような特殊で高価なセンサが不要となり、
信号処理部の構成を簡略化することができる。
の位置合せ調整の簡易化を図ることができる。さらに、
Ｘ線検出器のような特殊で高価なセンサが不要となり、
信号処理部の構成を簡略化することができる。
第１図は、本発明の一実施例に係る露光装置の要部構成
を示す側面図、 第２図は、オートコリメータの視野の模式図、第３図は
、シンクロトロン放射光エネルギーの波長分布を示すグ
ラフである。 １：転写露光部本体、 ２．１７：駆動装置、 ３：放射光、 ４：ミラー、 ５：Ｘ線束、 ６：マスク、 ７：ウェハ、 ８：光軸軸調整用光学系、 ９：Ｘ線カットフィルタ、 １０：遮光板、 １１．１２：ビームスプリッタ、 １３：コーナーキューブ、 １４：オートコリメータ、 １５：望遠鏡、 １６：ＴＶカメラ、 １８．１８’ ：信号処理部、 １９．１９’ ：制御部、 ２０：光軸調整用基準面、 ２１ニスポツト光、 ２２：カーソル、 Ｇ：露光装置設置基準面、 ＯＡ＝オートコリメータの光軸、 ＯＣ：カーソル中心、 ＯＭ：露光装置本体の光軸、 ｏＴ：望遠鏡の光軸、 ＯＸ：Ｘ線ビームの光軸、 ＳＯＲ：電子軌道装置。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 哲 也 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄 第２図 第３図
を示す側面図、 第２図は、オートコリメータの視野の模式図、第３図は
、シンクロトロン放射光エネルギーの波長分布を示すグ
ラフである。 １：転写露光部本体、 ２．１７：駆動装置、 ３：放射光、 ４：ミラー、 ５：Ｘ線束、 ６：マスク、 ７：ウェハ、 ８：光軸軸調整用光学系、 ９：Ｘ線カットフィルタ、 １０：遮光板、 １１．１２：ビームスプリッタ、 １３：コーナーキューブ、 １４：オートコリメータ、 １５：望遠鏡、 １６：ＴＶカメラ、 １８．１８’ ：信号処理部、 １９．１９’ ：制御部、 ２０：光軸調整用基準面、 ２１ニスポツト光、 ２２：カーソル、 Ｇ：露光装置設置基準面、 ＯＡ＝オートコリメータの光軸、 ＯＣ：カーソル中心、 ＯＭ：露光装置本体の光軸、 ｏＴ：望遠鏡の光軸、 ＯＸ：Ｘ線ビームの光軸、 ＳＯＲ：電子軌道装置。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 哲 也 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄 第２図 第３図
Claims (5)
- （１）照射源から照射されるＸ線ビームを用いて原版上
のパターンを基板上に転写露光する転写露光部を備えた
露光装置において、上記照射源から照射される光に含ま
れる可視領域光を用いて上記照射源と上記転写露光部と
の光軸合せを行なう手段を具備することを特徴とする露
光装置。 - （２）前記転写露光部に至る前記照射源からの可視領域
光の光軸上に設置および退避可能であって、該照射源か
らの可視領域光の光軸位置および前記転写露光部の基準
面の傾きを観察する第１の観察光学系と、前記照射源か
らの可視領域光の光軸に対する前記転写露光部の基準面
の位置ずれを観察する第２の観察光学系とからなる光軸
調整用光学系を有する特許請求の範囲第１項に記載の露
光装置。 - （３）前記照射源からの可視領域光に対する前記光軸調
整用光学系の位置を調整する第１の駆動手段と、前記光
軸調整用光学系に対する前記転写露光部の位置を調整す
る第２の駆動手段とを有する特許請求の範囲第２項に記
載の露光装置。 - （４）前記光軸調整用光学系における第１の観察光学系
がオートコリメータ、第１のビームスプリッタおよびコ
ーナーキューブからなり、第２の観察光学系が望遠鏡、
ＴＶカメラおよび第２のビームスプリッタからなり、該
第１および第２のビームスプリッタがその光軸を共有し
ている特許請求の範囲第２項または第３項に記載の露光
装置。 - （５）前記光軸調整用光学系の前記照射源からの光ビー
ム入射部に該光ビームの径より小さな開口を有する遮光
板を有する特許請求の範囲第２項、第３項または第４項
に記載の露光装置。
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP63111457A JP2799570B2 (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 露光装置 |
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| US07/996,508 US5276725A (en) | 1988-05-10 | 1992-12-14 | Exposure system |
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|---|---|---|---|
| JP63111457A JP2799570B2 (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 露光装置 |
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|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5195113A (en) * | 1990-09-28 | 1993-03-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | X-ray exposure apparatus and method of positioning the same |
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Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61276222A (ja) * | 1985-05-30 | 1986-12-06 | Nec Corp | Ｘ線露光アライメント方法 |
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|---|---|---|---|---|
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- 1989-05-09 DE DE1989628288 patent/DE68928288T2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
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| JPS61276222A (ja) * | 1985-05-30 | 1986-12-06 | Nec Corp | Ｘ線露光アライメント方法 |
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| US5195113A (en) * | 1990-09-28 | 1993-03-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | X-ray exposure apparatus and method of positioning the same |
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| DE68928288T2 (de) | 1998-01-22 |
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| EP0341983A3 (en) | 1990-06-13 |
| DE68928288D1 (de) | 1997-10-09 |
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