JPH01275647A - モールドを汚す傾向の少ないフルオロエラストマー組成物 - Google Patents

モールドを汚す傾向の少ないフルオロエラストマー組成物

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JPH01275647A
JPH01275647A JP1059854A JP5985489A JPH01275647A JP H01275647 A JPH01275647 A JP H01275647A JP 1059854 A JP1059854 A JP 1059854A JP 5985489 A JP5985489 A JP 5985489A JP H01275647 A JPH01275647 A JP H01275647A
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    • C08K5/17Amines; Quaternary ammonium compounds
    • C08K5/19Quaternary ammonium compounds

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、モールドを汚す傾向が殆どない、即ち、同じ
モールドキャビティーで繰り返し成形した後もモールド
付着物の形成が僅かであるか又は全熱ない、新規なフッ
化ビニリデンをベースとするフルオロエラストマー組成
物に関する。
本発明は、要約すれば、フッ化ビニリデン単位とフッ化
ビニリデンと共重合可能な少なくとも1種の他のフッ素
含有モノマーの単位を含んで成るフルオロエラストマー
と、 式 %式% 式中、Rは水素、アルキル基又はアリール基であり R
/ はアルキル基又はアリール基である、のビスフェノ
ール又はポリヒドロキシフェノール架橋剤と、二価の金
属酸化物又は水酸化物と、式、  R″、N” X− 式中、各R#は独立に2−1θ個の炭素原子のアルキル
基又は7−10個の炭素原子のアラルキル基であり、X
−はフッ化物アニオン、リン酸二水素アニオン、過ヨウ
素酸アニオン、酢酸アニオン、硫酸水素アニオン、メタ
ンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、
又はビスフェノールもしくはポリヒドロキシフェノール
のアニオンから成る群より選ばれる、 の第四級アンモニウム塩である架橋促進剤0.2−4重
量部/フルオロエラストマー100重量部を含有して成
る、モールドキャビティーを汚す傾向が少ないフルオロ
エラストマー組成物である。
フルオロエラストマーは、バテル(Patel)の米国
特許第3.655.727号及びシュミーゲル(Sch
miegel)の米国特許第4.496.682号に記
載の如き、架橋剤としてポリヒドロキシ化合物、典型的
には二官能性フェノール化合物と促進剤として第四級ホ
スホニウム又はテトラアルキルアンモニウム塩との組み
合わせにより加硫することができる。ホスホニウム又は
アンモニウム促進剤の塩化物又は臭化物塩は最も普通に
使用されておりそしてフルオロエラストマー組成物は通
常は加硫配合物のための酸受容体として金属水酸化物及
び金属酸化物を含む。しかしながら、これらの組成物か
らの成形品の製造には深刻な問題が伴う。その理由は、
離型剤がモールドキャビティーに噴霧されてモールドキ
ャビティー表面を被覆するか又は離型剤がポリマー中に
導入されているにもかかわらず、加硫物はモールドキャ
ビティーの壁に付着する傾向があるからである。はんの
数成形サイクルの後ですら、ひどい黒色付着物がモール
ドの壁に形成される。これらの付着物は成形品の品質に
非常に不利な影響を及ぼし、そのため不合格損失及びモ
ールド清掃のために招く大きい運転停止時間がフルオロ
エラストマー物品の製造コストを実質的に増加させる。
かくしてフルオロエラストマー分野においては、汚れた
モールド表面を形成することなく、同じキャビティーで
繰り返し成形することができる組成物に対する要求があ
る。
本発明は、 (a)フッ化ビニリデン単位と、2−7個の炭素原子を
含有しそして炭素原子と少なくとも同じ数のフッ素原子
を含有するフッ化ビニリデンと共重合可能な少なくとも
1種の他のフッ素含有モノマーの単位とを含んで成るフ
ルオロエラストマー、(b)式 式中、Rは水素、アルキル又はアリールであり RI 
はアルキル又はアリールである、のビスフェノール又は
ポリヒドロキシフェノールから成る群より選ばれる架橋
剤、 (c)酸受容体としての二価の金属酸化物又は水酸化物
、 (d)  式、  R″、N” X− 式中、各R“は独立に2−1O例の炭素原子のアルキル
基又は7−10個の炭素原子のアラルキル基であり、 X−はフッ化物アニオン、リン酸二水素アニオン、過ヨ
ウ素酸アニオン、酢酸アニオン、硫酸水素アニオン、メ
タンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン
、又ハ上記(b)のビスフェノールもしくはポリヒドロ
キジフェノールのアニオンから成る群より選ばれる、 の第四級アンモニウム塩である架橋促進剤0.2−4重
量部/フルオロエラストマー100重量部を含有して成
る、モールドキャビティーを汚す傾向が少ないフルオロ
エラストマー組成物に関する。
本発明の加硫系により加硫されるフッ化ビニリデンコポ
リマーは、架橋促進剤として、式、R” 、N” X− 式中、各R“は独立に2−1θ個の炭素原子のアルキル
基又は7−10個の炭素原子のアラルキル基、好ましく
は、2−4個の炭素原子のアルキル基であり、最も好ま
しくは4個の炭素原子のアルキル基であり、X−はフッ
化物アニオン、リン酸二水素アニオン、過ヨウ素酸アニ
オン、酢酸アニオン、硫酸水素アニオン、メタンスルホ
ン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、又は上記
(b)のビスフェノールもしくはポリヒドロキシフェノ
ールのアニオンから成る群より選ばれる、の第四級アン
モニウム塩を含有する。前記アニオンが、ビスフェノー
ル又はポリヒドロキシフェノールのアニオンである第四
級アンモニウム塩は、水酸化テトラアルキルアンモニウ
ムと少なくとも等モル量の上記芳香族ヒドロキシ化合物
をメタノールの如き不活性溶媒中で迅速に反応させ、次
いでメタノールを除去することにより容易に製造される
。アルキル基又はアラルキル基は対称であっても非対称
であってもよい。最も好ましくは、各R“は4個の炭素
原子を含有するアルキル基、即ちn−ブチルである。本
発明のテトラアルキルアンモニウム塩及びビスフェノー
ル又はポリヒドロキシフェノールが、フッ化ビニリデン
をペースとするフルオロエラストマーの加硫配合物に使
用されると、フルオロエラストマーを加硫するモールド
キャビティーは加硫プロセス中にモールドキャビティー
に形成されることが最も多い黒色付着物の量を含まない
ことが見出だされた。この黒色付着物が形成されると、
成形品の品質は不満足なものとなりそしてモールドキャ
ビティーから付着物を除去するまで成形プロセスを中断
しなければならない。
本発明のフルオロエラストマー組成物の追加の利点とし
て、このフルオロエラストマーは有意に低いコンパウン
ド粘度を有しており、そのためこのフルオロエラストマ
ーの加工が容易であり、更に、加硫したフルオロエラス
トマーは優れた圧縮永久歪み抵抗(compressi
on set resistance)を有することが
見出だされた。
通常は、本発明に使用される架橋促進剤として作用する
第四級アンモニウム塩は、フルオロエラストマー100
部につき約0.2−4重量部、好ましくは0.4−2重
量部の量で配合される。
新規な加硫系を有する本発明に有用なフッ化ビニリデン
コポリマーは、フッ化ビニリデンの他に、フッ化ビニリ
デンと共重合可能な1種又は1種より多くのフッ素含有
モノマーを含有し、該モノマーは2−7個の炭素原子を
含有しそして炭素原子と少なくとも同数のフッ素原子を
含有する。
本発明に使用されるフルオロエラストマーは、フッ化ビ
ニリデンとヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフル
オロエチレン、l−ヒドロペンタフルオロプロピレン又
は2−ヒドロペンタフルオロプロピレンとのコポリマー
又は、フッ化ビニリデンとテトラ7ルオロエチレンとへ
キサ7ルオロプロピレン、又はl−ヒドロペンタフルオ
ロプロピレン又は2−ヒドロペンタフルオロプロピレン
とのコポリマーである。ここでいう“コポリマー”とは
、2種又はそれより多くのモノマーを共重合させる製品
を意味する。特に好ましいものはモル比が約88:12
乃至50:50のフッ化ビニリデン/ヘキサフルオロプ
ロピレンコポリマー及びペイルソープ(Pailtho
rp)等への2.968.649に開示されたタイプの
フッ化ビニリデンターポリマーである。フルオロエラス
トマーは、加硫して有用な製品とすることができる他の
フッ化ビニリデンコポリマーであってもよい。それは例
えば、フッ化ビニリデン及びヘキサフルオロプロピレン
又はペンタフルオロプロピレン又は線状パーフルオロα
オレフイン類と、ジクロロジフルオロエチレン、クロロ
フルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ブロ
モテトラフルオロブテン、プロモトリフルオロエチレン
とのコポリマー(この種のポリマーはアポテカ−(Ap
otheker)等の米国特許第4.214,060号
及び第4.035,565号に示されている)、フッ素
化ビニルエーテルとのコポリマー、パーフルオロアクリ
ル酸の誘導体とのコポリマー、及びフッ素化アルキルビ
ニルエーテルとのコポリマーであってもよく、後者はフ
ッ化ビニリデンとへキサフルオロプロピレンとパーフル
オロアルキルパーフルオロビニルエーテルとのコポリマ
ーにより例示することができる。
フッ化ビニリデンと1.2,3,3.3−ペンタフルオ
ロプロピレンとの有用なコポリマーは、米国特許第3,
331.823号に記載されておりそしてこれらの2つ
の成分とテトラフルオロエチレンとのコポリマーは米国
特許第3,335.106号に記載されている。このよ
うなエラストマーコポリマーの“他のフッ素化モノマー
”は好マしくは少なくとも炭素原子と同数のフッ素原子
を含むエチレン系不飽和モノマーである。
二価の金属酸化物又は水酸化物をフルオロエラストマー
組成物に配合する。代表的な二価金属酸化物には、酸化
カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、酸化鉛、又はカルシウムもしくはバリウムの二価の
水酸化物が包含される。添加される金属化合物の量は一
般にフルオロエラストマー100部につき約1−15重
量部、好ましくは約2−10部である。
酸受容体は、加硫中に発生しそしてフルオロエラストマ
ーを攻撃し且つ弱めることがありうる成る種のガス状の
酸性物質を吸収するのみならず、架橋の速度及び最終性
質を制御するのに重要な機能を持っている。
フルオロエラストマーと共に使用される加硫系は、本明
細書に開示された第四級アンモニウム塩の他に、本明細
書で述べたビスフェノール又はポリヒドロキシフェノー
ルを含有しなければならない。それは、モールドキャビ
ティーの表面に過剰な量の残留物を形成することなくモ
ールドキャビティーにおいて繰り返し成形することがで
きるフッ化ビニリデンをベースとするフルオロエラスト
マーをもたらすようなこれらの成分の組み合わせである
フルオロエラストマー組成物に使用される架橋剤は、通
常、式、 O 聞 式中、Aは CHlCF、  0 の如き安定な二価の基である、 を有するビスフェノールである。
代表的なビスフェノールには、4.4’ −へキサフル
オロインプロピリデンジフェノール、4゜4′−イソプ
ロピリデンジフェノール、及び4゜4′−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンが包含される。架橋剤は、式 式中、RはH又はl−4個の炭素原子を有するアルキル
基、6−1o個の炭素原子を有するアリール基であり、
R′はl−4個の炭素原子を有するアルキル基、又は6
−10個の炭素原子を有するアリール基である、 のポリヒドロキシフェノールであることができる。
2種又はそれより多くの架橋剤のブレンドを本発明にお
いて使用することができる。
好ましいビスフェノール及びポリヒドロキシフェノール
架橋剤には、4.4’ −へキサフルオロインプロピリ
デンジフェノール、4.4’−ジヒドロキシジフェニル
スルホン、4.4’ −ジヒドロキシベンゾフェノン、
2.4−ジヒドロキシベンゾフェノン、レゾルシノール
及ヒヒドロキノンが包含される。
架橋剤は、フルオロエラストマー100部につき約0.
1−5部、好ましくは0.6−2.5部の量で成分に加
えることができる。
フルオロエラストマーの成形特性及び他の性質を改善す
るために、上記フルオロエラストマーに充填剤がしばし
ば添加される。充填剤を使用する場合には、充填剤はフ
ルオロエラストマー100部につき約100部まで、好
ましくは約15部乃至約50部の量で加硫配合に添加さ
れる。本発明で使用することができる代表的な充填剤は
強化用サーマルグレードカーボンブラック又は比較的低
い強化特性の非ブラック顔料、例えばクレー、パライト
等である。常用の可塑剤、軟化剤及び加工助剤、好まし
くはエラストマーと共に良く使用されるエステル又はケ
トンも所望によりフルオロエラストマーに加えることが
できる。
本発明の選ばれた第四級アンモニウム塩を特定の架橋剤
と組み合わせて使用すると、キャビティーの壁に大量の
ポリマー付着物を形成することなく同じキャビティーで
繰り返して成形することができるフルオロエラストマー
を得ることかでさる。
モールドの汚れの測定 種々のフルオロエラストマー組成物が繰り返し成形の後
モールドキャビティー内に付着物を形成する傾向を評価
するために、下記の手順を使用した。直径が3.18c
m(1,125インチ)であり深さが0.19cm(0
,075インチ)でありそしてオーバーフローランナー
系により取り囲まれた9個のディスク形状のキャビティ
ーを持った19.0cmX19.Ocmx3.18cm
の底部プレートを5AEl141fI4から製造し、次
いで硬化させて15−20のロックウェル硬度とした。
キャビティーに番号を付けそして更に処理はしないで機
械加工されたままで使用した。平坦な頂部嵌合プレート
を取り付けた。新規なコンパウンドを試験する前に、各
キャビティーをブライト・ボーイ(Bright Bo
y)■モールド洗浄スティック(mold clean
ingstick)で完全に洗浄し、油を含まない乾燥
空気をダストがなくなるまで吹き付けそして1.1.2
−トリクロロ−2,2,l−トリフルオロエタン(フレ
オン@−113)とアセトンの50容量%混合物ですす
ぎ、次いで空気乾燥した。
試験コンパウンドをロール機でほぼ0.25cm厚さの
シートとし、次いで2.5cm直径のディスクを切り出
してモールドキャビティーに嵌め込んだ。次いで試験片
を4 M P aのモールド圧力の下で177°Cで1
0分間加硫した。各モールドサイクルの後、加硫した試
験片を注意深く取り出しそして新たな未加硫のディスク
で置き替え、上記の手順を合計50サイクル間で繰り返
して続けた。
少なくとも1つのモールドキャビティーは使用せず、付
着物の量を決定するための基準点として使用した。通常
の促進剤ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド
を含むストックは最初のモールドサイクルから殆どモー
ルドの汚れを示し、付着物は蓄積し続けて、50サイク
ルの後ではモールドはひどい黒色付着物により覆われる
。これらのストックは゛ひどい″付着物を与えると記載
する。本発明の非汚染性促進剤を含むストックは、50
サイクルの後も付着物を殆ど示さない(“痕跡″)か又
は全黙示さない(゛なし″)。
下記の実施例により本発明を更に説明する。示されたす
べての量は特記しない限り重量である。
テトラ−n−ブチルアンモニウムは全体にわたり単にブ
トラブチルアンモニウムと記載する。
実施例! 本発明のフルオロエラストマー組成物を調製し、加硫し
そして物理的性質及びモールド汚れについて試験する。
組成物はロールが約25°Cの2本ロールのゴムロール
機で下記の成分をブレンドすることにより得られる:フ
ッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンのコポリマ
ー100部、(60/40重量比、ムーニー粘度ML−
10,100°Cで65)、カーボンブラック30部、
酸受容体水酸化カルシウム4.5部、酸受容体酸化マグ
ネジ・ラム3.0部、架橋剤4.4′−へキサフルオロ
インプロピリデンジフェノール2.0部及び架橋促進剤
硫酸水素テトラブチルアンモニウム0゜6部。
試験片を調製しそしてASTM  D−1646ニ従っ
て121°Cで30分間ムーニースコーチを測定した。
加硫特性はASTM法D−2048に従って振動ディス
ク加硫計(oscillating disc cur
e meter)により決定した。177℃において3
0分で達成された加硫状態はN、mで表したMK ML
(式中、MHは到達した最も高いトルクであり、MLは
最小トルクである)により測定される。
90%の全加硫に達するのに必要な分で表した時間はt
c9Qにより与えられ、相対的加硫速度は分で表してt
c90−tso、2(式中、tso、2はトルクが0.
2N、m増加するのに必要な時間である)の量により近
似することができる。
試験用試料を先ず4 M P aのモールド圧力で10
分間177°Cでプレス加硫しそして循環空気オーブン
中で232℃にて24時間後加硫させる。
後加硫の後、試料をオーブ中275°Cで70時間循環
空気にさらすことにより熱老化させる。プレス加硫した
試料、後加硫した試料及び熱老化させり試料について1
00%伸びでのモジュラス、引張強度及び破断時伸びの
値を室温でASTM法D−412により得る。後加硫し
たOりングに対する圧縮永久歪みはASTM法 D−3
95−61により得られる。
試験結果を下表Iに示す。モールド汚れ試験は前記の如
くして行った。50回の加硫サイクルの後、モールドの
表面には加硫したエラストマーの付着物はなかった。
実施例2 4.4′−へキサフルオロインプロビリデンジフェ/−
ル1.8部と硫酸水素テトラブチルアンモニウム0.4
1部を使用することを除いては、実施例1に記載の方法
を繰り返した。データは表1に示されており、そして5
0回の成形サイクルの後も試験モールドの表面には付着
物がないことを示す。
比較実施例1 架橋促進剤として硫酸水素テトラブチルアンモニウムで
はなくてベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド
0.60部を使用することを除いては、実施例1に記載
の方法を繰り返した。データは表1に示されており、こ
のデータは、このフルオロエラストマーのムーニー粘度
が本発明の架橋促進剤を使用する場合よりも高いことと
、かなりひどい付着物がモールドキャビティーの壁に形
成されることを示す。
実施例3及び4 フルオロエラストマーが、フッ化ビニリデンとへキサフ
ルオロプロピレンとテトラフルオロエチレンのコポリマ
ー(重量比45/30/25  、ムーニー粘度、ML
−10,121℃で70)であることを除いては実施例
1に記載の方法を繰り返した。ポリマーブラック、水酸
化カルシウム、酸化マグネシウム及びビスフェノールを
表2に示された量で使用し、そして促進剤としてWL酸
水素テトラブチルアンモニウムが実施例3では1.00
部、実施例4では0.67部の量で存在する。
試験データは、硫酸水素テトラブチルアンモニウムが加
硫を促進させるのに4,4′−へキサフルオロインプロ
ピリデンジフェノールとの併用において非常に有効な架
橋促進剤であることを示しており、そしてそれが使用さ
れると、同じモールドキャビティーで50回の成形サイ
クルの後もモールドキャビティーの壁にはモールド付着
物が形成されないことを示す。
実施例5 フルオロエラストマーが、フッ化ビニリデンとヘキサフ
ルオロプロピレンとテトラフルオロエチレンのコポリマ
ー(重量比35/35/30  。
ムーニー粘度、ML −10,I 21’0テロ 0)
テあり、このコポリマーが表2に示された量で添加剤及
びジフェノール加硫剤と配合されていることを除いては
、実施例1に記載の方法を繰り返した。
促進剤としてWt酸水素テトラブチルアンモニウム0.
86部を使用する。50回の成形サイクルの後もモール
ドキャビティーの壁にはモールド付着物は形成されなか
った。
比較実施例2 比較の目的で、本発明の範囲外のフルオロエラストマー
組成物を調製し、加硫しそして物理的性質及びモールド
付着について試験する。組成物は、ロールが約25°C
である2本ロールゴムロール機で下記のもの:実施例3
で使用したフルオロエラストマー100部、カーボンブ
ラック30部、水酸化カルシウム4.5部、酸化マグネ
シウム3.0部、4.4’ −へキサフルオロイソプロ
ピリデンジフェノール1.9部及びベンジルトリ7二二
ルホスホニウムクロライド1.00部、をブレンドする
ことにより得られる。
組成物を加硫しそして実施例1の如くして試験し、試験
結果を表2に示す。この配合したストックは、高いムー
ニー粘度を有しており、これは貧弱な加工性を意味し、
そして同じ表面で成形を50回繰り返した後では加硫し
たエラストマーのモールド付着物はひどいものであった
比較実施例3 比較の目的で、実施例5のフルオロエラストマー100
部、カーボンブラック30部、水酸化カルシウム4.5
部、酸化マグネシウム3.0部、4.4′−へキサフル
オロインプロピリデンジフェノール2.3部及び促進剤
ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド1.03
gをブレンドすることにより、本発明の範囲外の他のフ
ルオロエラストマー組成物を調製する。
この配合したストックは、高いムーニー粘度ヲ有してお
り、そしてtc90−tso、2の値により判定して、
加硫が遅い。これを加硫し、実施例IIに記載の如くし
て試験し、結果を表2に示す。
同じ表面で50回繰り返し成形の後、加硫したエラスト
マーのひどいモールド付着物があった。
実施例6 表3に示された量の成分及び添加剤を使用して実施例1
に記載の方法を繰り返した。架橋促進剤はテトラブチル
アンモニウムフルオライド3水和物0,62部であっt
;。モールド汚れ試験を前記の如くして行った。データ
は、この組成物が低いコンパウンド粘度を有しており、
加硫速度が速く、良好な物理的強度と低い圧縮永久歪み
を有することを示す。同じモールドキャビティーで繰り
返し成形の後、モールドキャビティー壁にはモールド汚
れは生じない。
比較実施例4 比較の目的で、本発明の範囲外のフルオロエラストマー
組成物を調製し、加硫しそして物理的性質及びモールド
付着について実施例1に記載の方法により試験する。フ
ルオロエラストマーはフッ化ビニリデンとへキサフルオ
ロプロピレンとテトラフルオロエチレンのコポリマーで
あり、重合したモノマー単位は重量比45:30:25
で存在しており、このフルオロエラストマーは70のム
ーニー粘度(121℃でML−10)を有する。組成物
は、ロールが約25°Cである2本ロールゴムロール機
で下記のもの=フルオロエラストマー100部、カーボ
ンブラック30部、水酸化カルシウム4.5部、酸化マ
グネシウム3.0部、4.4′−へキサフルオロイソプ
ロピリデンジフェノール1.9部及びテトラブチルアン
モニウムヨーダイト0.65部、をブレンドすることに
より調製される。
試験結果を表3に示す。この配合したストックは、高い
ムーニー粘度を有しており、これは貧弱な加工性を意味
し、そして同じモールド表面で成形を50回繰り返した
後のモールド表面への加硫したエラストマーのモールド
付着物はひどいものであった。テトラブチルアンモニウ
ム化合物が本発明のアニオンの1つの代わりにヨウ素を
含有する場合には、広範なモールド汚れが生じる。
比較実施例5 架橋促進剤としてテトラブチルアンモニウムブロマイド
を表3に記載の量で使用することを豚いては、実施例6
に記載の方法を繰り返した。試験データは、テトラブチ
ルアンモニウム化合物が本発明のアニオンの1つの代わ
りに臭素を含有する場合には、コンパウンド粘度は高く
そして、同じモールドキャビティーで繰り返し成形操作
を行った後、モールド表面にはひどいエラストマー付着
物が形成されるこ°とを示した。
比較実施例6 加硫促進剤としてテトラブチルアンモニウムクロライド
を表3に記載の量で使用して、実施例6に記載の方法と
全く同様に行った。試験データは、テトラブチルアンモ
ニウム化合物が本発明のア二オンの1つの代わりに塩素
を含有する場合には、フンバウンド粘度は高くそして、
同じモールドキャビティーで繰り返し成形操作を行った
後、モールド表面には多量のひどいエラストマー付着物
が形成されることを示す。
実施例7−9 フルオロエラストマーが重量比45:30:25の7フ
化ビニリデンとへキサフルオロプロピレンとトリフルオ
ロエチレンから成りモして70のムーニー粘度(121
’OでML−10)を有することを除いては実施例1に
記載の方法を繰り返した。
フルオロエラストマーと共に使用した架橋促進剤は、表
4に記載の成分と量を有する硫酸水素テトラエチルアン
モニウム(実施例7)、硫酸水素テトラブチルアンモニ
ウム(実施例8)及びリン酸二水素テトラブチルアンモ
ニウム(実施例9)であった。これらの実施例に使用し
た架橋促進剤は低い粘度のフルオロエラストマーをもた
らす。前記のモールド汚れ試験を繰り返した。50回の
繰り返し成形サイクルの後、モールドキャビティーの壁
はその表面にエラストマー付着物を含んでいなかっIこ
 。
実施例10−13 テトラブチルアンモニウム塩が表5に示されたような等
モル量のアニオン、酢酸アニオン、メタンスルホネート
アニオン、トルエンスルホネートアニオン、過ヨウ素酸
アニオンを含有することを除いては、実施例1に記載の
方法を繰り返した。
使用したフルオロエラストマーは、実施例3に記載のフ
ルオロエラストマー(フッ化ビニリデン、ヘキサフルオ
ロプロピレン、テトラフルオロエチレン、45 :30
 :25重量比)でありそして各実施例は、エラストマ
ー100部につき、MTダブ9フフ0部、水酸化カルシ
ウム4.5部、酸化マグネシウム3.0部、4.4’ 
−へキサフルオロイソプロピリデンジフェノール1.9
部を含有していた。実施例1に記載の如くして試験した
後、50回の加硫サイクルの後モールド付着物はなかっ
た。
表6に示された組み合わせで、架橋促進剤として硫酸水
素テトラブチルアンモニウムを使用し、架橋剤としてヒ
ドロキノン、メチルヒドロキノン、2.4−ジヒドロキ
シヒドロキノン又は4.4’ −イソプロピリデンジフ
ェノールを使用して、表6に記載の3種のフルオロエラ
ストマーにより、実施例1に記載の方法を繰り返した。
実施例1に記載の試験によれば、この架橋促進剤を上記
架橋剤と併用すると、同じキャビティーで50回の繰り
返し成形の後、モールド汚れは痕跡量にすぎないか又は
全熱形成されないことをデータは示す。
実施例21 メタノールlQ中のビスフェノール架橋剤4゜4′−へ
キサフルオロインプロピリデンジフェノール100g(
0,31モル)の撹拌した溶液に、水酸化テトラブチル
アンモニウム25 、9’g(0。
1モル)を含有するメタノールloom(2を加える。
回転蒸発器で50−60℃でメタノールを除去すると、
紫色の固体124gが得られ、この固体中には1/3の
4.4′−ヘキサフルオロインプロピリデンジフェノー
ルがテトラブチルアンモニウム塩として存在する。
ロールが約25℃である2本ロールゴムロール機で下記
のもの:フルオロエラストマー100部、カーボンブラ
ック30部、水酸化カルシウム6部、酸化マグネシウム
3部、及び4.4′−へキサフルオロイソプロピリデン
ジフェノールのテトラブチルアンモニウム塩を含有する
上記の調製した混合物2.5部をブレンドすることによ
り本発明のフルオロエラストマー組成物を調製する。フ
ルオロエラストマーはフッ化ビニリデン、ヘキサフルオ
ロプロピレン、テトラ7ルオロエチレンコポリマーであ
り、その重合したモノマー単位は45:30:25の重
量比で存在しており、そしてこのコポリマーは70のム
ーニー粘度(121°CでML−10)を有する。
組成物を加硫しそして実施例1に記載の如くして試験し
た。コンパウンドのムーニー粘度は60であり、これは
比較実施例2のものより低く、圧縮永久歪みは200°
Cで70時間の後17%でありそして、同じキャビティ
ーで50回の加硫サイクルの後、モールド残留物はなか
った。
表1 組成物、フッ化ビニリデン/ ヘキサフルオロプロピレン/ 60/ 40重量比 カーボンブラック、MT 水酸化カルシウム 酸化マグネシウム 4.4′−ヘキサフルオロインプロピリアノンフェノー
ル 硫酸水素テトラブチルアンモニウム ベンジルトリフェニルホスホニウム クロライド ム−ニー ス:I−チ(121°c/30分)最小値(
ムーニー単位) 10点上昇させるための時間、分 振動ディスクレオメータ− ASTM D−2084、M、−MイN、mt s、 
O−2、分 tc90、分 プレス加硫試料(177°(!/10  )モジュラス
−100%、MPa 引張強度、IJPa 破断時伸び、% 実施例    実施例  比較実施例 1001oolo。
4.5      4.5     4.52.0  
    1.8     2.00.60     0
.41     −−−        0.60 > 30      > 30     > 305.
4      4.8     5.12.6    
  3.0     3.13.7      4.4
     4.85・1      4.0     
4.111.1     10.5     9.4表
1(続き) 実施例 後加硫試料(232°C/24時間) モジュラス−100%、MPa        7.5
引張強度、MPa            12−5破
断時伸び、%           145熱老化試料
(275°0/70時間空気)モジュラス−100%、
MPa        6 、5引張強度、MPa  
          11−1破断時伸び、%    
       160圧縮永久歪み、%、ASTM D
−395−61方法 8 70時間7200℃    
   2350サイクル後のモールド中の付着物  な
し実施例  比較実施例 5.5     5.8 11.4    13.4 3.8     4.4 10.1    10.2 なし    かなりひどい 表2 実施例 組成物 エラストマー フッ化ビニリデン/ヘキサフルオロプロピレン/テトラ
フルオロエチレン、45/30/25 1[量比フッ化
ビニリデン/ヘキサフルオロプロピレン/テトラフルオ
ロエチレン、35/35/30、重量比本カーボンブラ
ック、MT 水酸化カルシウム 酸化マグネシウム 4.4’−へキサフルオロインプロピリデンジフェノー
ル硫酸水素テトラブチルアンモニウム ベンジルトリフェニルホスホニウムクロライドムーニー
スコーチ(121°C/30分)最小値(ムーニー単位
) 10点上昇させるための時間、分 振動ディスクレオメータ− ASTM  D−2084、M、−ML%N、mts 
O,2、分 tc90、分 比較   比較 実施例  実施例  実施例  実施例  実施例4.
5   4.5   4.5   4.5   4.5
3.0   3.0   3.0   3−0   3
.01.90   1.90   2.00   1.
90   2.301.00   0.67   0.
86−−−    −    −   1.00   
1.03>30    15    >30    >
30    84.7   5.3   3.9   
4.6   3.82.8   2.9   4.5 
  2.5   4.23.8   4.3   6.
7   4.2   8.9表2(続き) 実施例 プレス加硫試料(177℃/10分) モジュラス−100%、MPa 引張強度、M P a 破断時伸び、% 後加硫試料(232℃/24時間) モジュラス−100%、M P a 引張強度、MPa 破断時伸び、% 熱老化試料(275℃/70時間空気)モジュラス−1
00%、MPa 引張強度、M P a 破断時伸び、% 圧縮永久歪み、ASTM  D−395−611方法B
70時間/200’C! 50サイクル後のモールド中の付着物 *このポリマーは少量の臭素含有フッ素化上ツマ−も含
み、加硫部位としてゴム中の0.2−0.7重量%の臭
素を与。
アポテラカー等、及び米国特許第4.263.414号
、つ比較   比較 実施例  実施例  実施例  実施例  実施例4.
7   5.1   4.2   4.0   4.4
11.3   12.1   11.3   10.2
   10.06.7   7.0   5.4   
6.1   5.714.7   15.2   14
.4   13.3   14.84.0   3.7
   3.0   3.7   3.510.4   
11.2   8.9   10.4   7.2なし
   なし   なし   ひどい  ひどいその量は
パーオキサイドによる可能な他の架橋のためのえるよう
な量である(米国特許第4.035.565号、エスト
、参照) !魂! 組成物 フッ化ヒニリデン/へキサ7ルオロプロピレン/テトラ
7ルオロエチレン、4カーボンブラツク、MT 水酸化カルシウム 酸化マグネシウム 4.4′−へキサフルオロイソプロピリデンジフェノー
ルテトラブチルアンモニウムフルオライド3水和物テト
ラブチルアンモニウムヨーダイト テトラブチルアンモニウムブロマイド テトラブチルアンモニウムクロライド ムーニースコーチ(121”c!/30分)最小値(ム
ーニー単位) 10点上昇させるための時間、分 177°(!/10分での加硫状態 ASTM  D−2084、M H−M L I N 
−m七5O52、分 tc9Q、分 叉隻輿旦 比較実施例4 比較実施例5 比較実施例6
5/30/25を量比 100    100    
 100     1006.0    4.5   
  4.5     4.53.0    3.0  
   3.0     3.01.9    1.9 
    1.9     1.90.62 0.73 0.65 0.55 >30     >30      >30     
 104.8    5.3     5.2    
 5.23.3    4.6     4.0   
  2.85.2    12.9     7.8 
    4.6衷塊男 プレス加硫試料(177℃、/30’)モジュラス=■
00%、MPa 引張強度、MPa 破断時伸び、% 後加硫試料(232℃、/24h) モジュラス−100%、MPa 引張強度、MPa 破断時伸び、% 熱老化試料(275℃/70h空気) モジュラス−100%、MPa 引張強度、MPa 破断時伸び、% 圧縮永久歪み81% 70 h/200℃、/70h 50サイクル後のモールドの付着物 表3(続き) 実施例6 比較実施例4 比較実施例5 比較実施例6
4.5    4.3     4.6     4.
79.2    9.5      +0.1    
 10.320o     255     215 
    2306.2     δ、1     7.
0     6.511、+     17.3   
  15,8     13.23.0    3.5
     3.8     4.09.6    12
.1     10.0     11.3なし   
 ひどい    ひどい    ひどい!具男 組成物 フッ化ヒニリデン/ヘキサフルオロプロピレン/テトラ
フルオロカーボンブラック、MT 水酸化カルシウム 酸化マグネシウム 4.4′−へキサフルオロイソプロピリデンジフェノー
ル硫酸水素テトラエチルアンモニウム 硫酸水素テトラブチルアンモニウム リン酸二水素テトラブチルアンモニウムムーニースコー
チ(121’O/30分)最小値(ムーニー単位) 10点上昇させるための時間、分 振動ディスクレオメータ− ASTM  D−2084、Ml(−ML、N、mts
Q、2、分 tc9Q、分 表4 実施例7   実施例8   実施例9エチレン、45
/30/25重量比 100    100     
1006.0    6.0     4.53.0 
   3.0     3.02.0    2.0 
    1.90.30 0.59 0.67 >30     15      8 4.7    5.4     、5.25.0   
 3.7     2.910.7    6.1  
   4.2衷鹿男 プレス加硫試料(177℃、/lo’)モジュラス−1
00%、MPa 引張強度、MPa 破断時伸び、% 圧縮永久歪み、ASTM  D−395−6L方法B7
0 h/200℃。
50サイクル後のモールド中の付着物 表4(*り 実施例7   実施例8   実施例94.6    
5.4     5.111.6    11.7  
   11.4なし    なし     なし 基 衷A珂 促進剤(重量部) 酢酸テトラブチルアンモニウム メタンスルホン酸テトラブチルアンモニウムトルエンス
ルホン酸テトラブチルアンモニウム過ヨウ素酸テトラブ
チルアンモニウム ムーニースコーチ(12+’c/3o分)最小値(ムー
ニー単位) 10点上昇させるための時間、分 振動ディスクレオメータ− ASTM  D−2084、M y −M L 、 N
 、 mtsO,2、分 tc9Q、分 プレス加硫試料(177°0./10分)モジュラス−
100%、MPa 引張強度、MPa 破断時伸び、% 50サイクル後のモールド中の付着物 実施例10  実施例11   実施例12  実施例
130.60 0.67 0.82 0.67 4.6    4.9     5.1     4.
33.0    2.6     4.6     3
.34.7    4.4     9−3     
5.64.7    5.0     4.7    
 4.39.6    9.9    10.4   
  10.1なし    なし     なし    
 なし衷惠男 組成物 ニラストマー CH,=CF!/CF、CF=CF!、 60/40重
量%CHx=CFt/CFsCF=CF*/CFz”C
Ft、45/30/25重量%CH*=CFz/CFn
CF=CFz/CFi=CFt、35/35/30重量
%本カーボンブラック、MT 水酸化カルシウム 酸化マグネシウム ヒドロキノン 4.4′−イソプロピリデンジフェノール2.4−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン メチルヒドロキノン 硫酸水素テトラブチルアンモニウム ムーニースコーチ(121’o/30分)最小値(ムー
ニー単位) 10点上昇させるための時間、分 表6 !00 2.0   4.5   2.0   2.5   4
.5   4.5   3.02.0   3.0  
 2.0   2.0   3.0   3.0   
3.Ot、oo         t、oo     
    1.30   −2.00 1.30   −         1.901.4 .41   .67   .67   .87   .
87   .87   1.0830    >30 
   >30    >30    15    >3
0    >30本発明の主なる特徴及び態様は以下の
とおりである。
1、(a)フッ化ビニリデン単位と、2−7個の炭素原
子を含有しそして炭素原子と少なくとも同じ数のフッ素
原子を含有するフッ化ビニリデンと共重合可能な少なく
とも1種の他のフッ素含有モノマーの単位とを含んで成
るフルオロエラストマ(b)式 式中、Rは水素、アルキル基又はアリール基であり、R
′はアルキル基又はアリール基である、のビスフェノー
ル又はポリヒドロキシフェノールから成る群より選ばれ
る架橋剤、 (c)酸受容体としての二価の金属酸化物又は水酸化物
、 (d)  式、  R” 4N” X−式中、各R“は
独立に2−10個の炭素原子のアルキル基又は7−10
0個の炭素原子のアラルキル基であり、 X−はフッ化物アニオン、リン酸二水素アニオン、過ヨ
ウ素酸アニオン、酢酸アニオン、硫酸水素アニオン、メ
タンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン
、又ハ上記(b)のビスフェノールもしくはポリヒドロ
キシフェノールのアニオンから成る群より選ばれる、 の第四級アンモニウム塩である架橋促進剤0.2−4重
量部/フルオロエラストマー100重量部を含有して成
る、モールドキャビティーを汚す傾向が少ないフルオロ
エラストマー組成物。
2、R” 、N” X−が硫酸水素テトラアルキルアン
モニウムである上記1に記載のフルオロエラストマー組
成物。
3、R″、N” X−がリン酸二水素テトラアルキルア
ンモニウムである上記lに記載のフルオロエラストマー
組成物。
4、R“、N” X−が7フ化テトラアルキルアンモニ
ウムである上記lに記載のフルオロエラストマー組成物
5、R#、N” X−が過ヨウ素酸テトラアルキルアン
モニウムである上記lに記載のフルオロエラストマー組
成物。
6、R“、N” X−が酢酸テトラアルキルアンモニウ
ムである上記lに記載のフルオロエラストマー組成物。
7、R“、N+X−がトjレニンスルホン酸テトラアル
キルアンモニウムである上記lに記載のフルオロエラス
トマー組成物。
8、R“、N十X−がメタンスルホン酸テトラアルキル
アンモニウムである上記lに記載のフルオロエラストマ
ー組成物。
9、R” 4N” X−が4.4′−へキサフルオロイ
ソプロピリデンジフェノールのテトラアルキルアンモニ
ウム塩である上記lに記載のフルオロエラストマー組成
物。
10、各R“が独立に2−4個の炭素原子のアルキル基
である上記lに記載のフルオロエラストマー組成物。
11、各R“が4個の炭素原子のアルキル基である上記
lに記載のフルオロエラストマー組成物。
12、R”がn−ブチルである上記1に記載のフルオロ
エラストマー組成物。
13、二価の金属酸化物又は水酸化物がカルシウム又は
マグネシウムである上記lに記載のフルオロエラストマ
ー組成物。
14、加硫剤が4,4′−へキサフルオロイソプロピリ
デンジフェノールである上記lに記載のフルオロエラス
トマー組成物。
15、加硫剤がヒドロキノンである上記lに記載のフル
オロエラストマー組成物。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)フッ化ビニリデン単位と、2−7個の炭素原
    子を含有しそして炭素原子と少なくとも同じ数のフッ素
    原子を含有するフッ化ビニリデンと共重合可能な少なく
    とも1種の他のフッ素含有モノマーとを含んで成るフル
    オロエラストマー、 (b)式 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
    、表等があります▼ 式中、Rは水素、アルキル基又はアリール基であり、R
    ′はアルキル基又はアリール基である、のビスフェノー
    ル又はポリヒドロキシフェノールから成る群より選ばれ
    る架橋剤、(c)酸受容体としての二価の金属酸化物又
    は水酸化物、 (d)式、R″_4N^+X^− 式中、各R″は独立に2−10個の炭素原子のアルキル
    基又は7−100個の炭素原子のアラルキル基であり、 X^−はフッ化物アニオン、リン酸二水素アニオン、過
    ヨウ素酸アニオン、酢酸アニオン、硫酸水素アニオン、
    メタンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオ
    ン、又は上記(b)のビスフェノールもしくはポリヒド
    ロキシフェノールのアニオンから成る群より選ばれる、 の第四級アンモニウム塩である架橋促進剤0.2−4重
    量部/フルオロエラストマー100重量部を含有して成
    る、モールドキャビティーを汚す傾向が少ないフルオロ
    エラストマー組成物。
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