JPH01268893A - 反射鏡の製造方法 - Google Patents
反射鏡の製造方法Info
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- JPH01268893A JPH01268893A JP9671388A JP9671388A JPH01268893A JP H01268893 A JPH01268893 A JP H01268893A JP 9671388 A JP9671388 A JP 9671388A JP 9671388 A JP9671388 A JP 9671388A JP H01268893 A JPH01268893 A JP H01268893A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は1反射鏡の製造方法の改良に関する。
(従来の技術)
従来、光学的fIAWJを有する反射鏡を製造するには
被加工物を直接切削、研削、研磨、鏡面コーティングを
行なう方法が実施されている。
被加工物を直接切削、研削、研磨、鏡面コーティングを
行なう方法が実施されている。
ところで1反射鏡の多くは凹形状をなすため。
切削工程において穴ぐシ加工が必要である。このため、
上述した方法により小型の反射鏡を製造する場合、バイ
ト寸法による制約を受け、穴ぐ)加工が困難となる。具
体的には、穴ぐシ加工においてその内径が数10111
程度で、長さがその2倍程度の場合、バイトシャンクが
細くなり、剛性が低く。
上述した方法により小型の反射鏡を製造する場合、バイ
ト寸法による制約を受け、穴ぐ)加工が困難となる。具
体的には、穴ぐシ加工においてその内径が数10111
程度で、長さがその2倍程度の場合、バイトシャンクが
細くなり、剛性が低く。
その結果加工中にびびシ振動を発生して加工が困難とな
る。また、研削、研磨工程においても同様な制約を受け
1反射鏡の形状1寸法が制約され。
る。また、研削、研磨工程においても同様な制約を受け
1反射鏡の形状1寸法が制約され。
ひいては小型、高精度化が困難となる。即ち、研磨によ
って表面粗さを向上させる場合、穴内面の加工が難しく
、かつ穴内面の形状1表面粗さ測定にも制約を受ける。
って表面粗さを向上させる場合、穴内面の加工が難しく
、かつ穴内面の形状1表面粗さ測定にも制約を受ける。
更に、同形状で複数個の反射鏡を製造する場合、1個づ
つ前述した煩雑な工程を繰返す必要があるため、製品精
度のばらつき。
つ前述した煩雑な工程を繰返す必要があるため、製品精
度のばらつき。
生産コストの高騰化を招く問題があった。
(発明が解決しようとする鴫題点)
本発明は、上記従来の問題点を解決するためになされた
もので、加工工程から生じる形状0寸法の制約を受ける
ことなく、所望する形状1寸法の反射鏡を高精度で安価
かつ量産的に製造し得る方法を提供しようとするもので
ある。
もので、加工工程から生じる形状0寸法の制約を受ける
ことなく、所望する形状1寸法の反射鏡を高精度で安価
かつ量産的に製造し得る方法を提供しようとするもので
ある。
丁l
(鴫題点を解決するための手段)
本発明は、買通する穴を有し、かつ該穴内面を鏡面とし
た反射鏡の製造において1反射鏡の穴と同形状をなす母
材の外周面に被覆形成された金属酸化物被膜に電鋳層を
形成母材に対して20℃〜150℃の熱サイクルを作用
させると同時に、数10kgの荷重を負荷することによ
シ前記金属酸化物被膜を境に電鋳層を前記母材から分離
する工程とを具備したことを特徴とする反射鏡の製造方
法である。
た反射鏡の製造において1反射鏡の穴と同形状をなす母
材の外周面に被覆形成された金属酸化物被膜に電鋳層を
形成母材に対して20℃〜150℃の熱サイクルを作用
させると同時に、数10kgの荷重を負荷することによ
シ前記金属酸化物被膜を境に電鋳層を前記母材から分離
する工程とを具備したことを特徴とする反射鏡の製造方
法である。
上記母材としては0例えば鋼を使用することができる。
上記母材の外周面に被覆する金属酸化物被膜は、20℃
〜150℃の熱サイクルと数10#の荷重を与えて上記
電鋳層を剥離する際の剥離材として作用する。かかる金
属酸化物被膜としては1例えば酸化クロム、酸化モリブ
デンを用いることができる。この金属酸化物被膜の厚さ
については10X程度にすればよい。
〜150℃の熱サイクルと数10#の荷重を与えて上記
電鋳層を剥離する際の剥離材として作用する。かかる金
属酸化物被膜としては1例えば酸化クロム、酸化モリブ
デンを用いることができる。この金属酸化物被膜の厚さ
については10X程度にすればよい。
上記電鋳層は、上記金属酸化物被膜から分離した後にお
いて反射鏡の反射面となる。かかる電鋳層としては1例
えばCu、 Ni、 Cr、 Ni−Cr合金等を使用
することができる。また、電鋳層の厚さは5〜1011
1程度とすることが望ましい。なお、上記金属酸化物被
膜への電鋳層の形成に先立って1反射面の反射特性を向
上する目的で該金属酸化物被膜上に金(Au )等のめ
りき膜を形成してもよい。
いて反射鏡の反射面となる。かかる電鋳層としては1例
えばCu、 Ni、 Cr、 Ni−Cr合金等を使用
することができる。また、電鋳層の厚さは5〜1011
1程度とすることが望ましい。なお、上記金属酸化物被
膜への電鋳層の形成に先立って1反射面の反射特性を向
上する目的で該金属酸化物被膜上に金(Au )等のめ
りき膜を形成してもよい。
(作用)
本発明によれば1反射鏡の穴と同形状に加工して作製し
た母材を用いるため、従来のように穴ぐシ加工を施す必
要がなく、加工工程を簡略化できる。こりして作製した
母材の外周面に金属酸化物膜を被覆し、この金属酸化物
被膜に電鋳層を形成し母材に対して熱サイクルと荷重を
与えることKよりて剥離材として作用する金属酸化物被
膜を境に電鋳層が母材から分離され1反射面となる電鋳
層を有する反射鏡を製造できる。また、かかる金属酸化
物被膜被覆母材は一旦作製すれば、該母材を用いて同形
状で精度のばらづきの少ない反射鏡を何個でも製造する
ことが可能となる。従りて。
た母材を用いるため、従来のように穴ぐシ加工を施す必
要がなく、加工工程を簡略化できる。こりして作製した
母材の外周面に金属酸化物膜を被覆し、この金属酸化物
被膜に電鋳層を形成し母材に対して熱サイクルと荷重を
与えることKよりて剥離材として作用する金属酸化物被
膜を境に電鋳層が母材から分離され1反射面となる電鋳
層を有する反射鏡を製造できる。また、かかる金属酸化
物被膜被覆母材は一旦作製すれば、該母材を用いて同形
状で精度のばらづきの少ない反射鏡を何個でも製造する
ことが可能となる。従りて。
加工工程から生じる形状1寸法の制約を受けることなく
、所望する形状1寸法の反射鏡を高精度で安価かつ量産
的に製造することができる。
、所望する形状1寸法の反射鏡を高精度で安価かつ量産
的に製造することができる。
(発明の実施例)
以下1本発明の実施例を図面を参照して説明する。
まず、鋼からなる被加工物を切削、研削、研磨等の機械
加工を施して製造すべき反射鏡に対して反転した略円錐
台形状の母材(1)を作製した(第1図、ステップ(8
1))。つづいて、この母材(1)の外周面に無電解ニ
ッケル(Nl)めりき処理によシ厚さ80μ程度のNi
薄膜(2a)を形成した(第2図参照)。
加工を施して製造すべき反射鏡に対して反転した略円錐
台形状の母材(1)を作製した(第1図、ステップ(8
1))。つづいて、この母材(1)の外周面に無電解ニ
ッケル(Nl)めりき処理によシ厚さ80μ程度のNi
薄膜(2a)を形成した(第2図参照)。
ついで、とのNi¥#膜(2a)を再び切削、研削、研
磨等の機械加工(よシ加工し、製造すべて反射鏡に対し
て反転した高精度の鏡面を形成する(第1図、ステップ
(82乃。つぎに、第2図に示すようKこのN1薄膜(
2m)上に厚さIOA種度の酸化クロム薄1!!(2b
)t−無電解めっきKよシ形成する(第1図、ステップ
(83))。このときのめっきは、水11K無水クロム
酸を1.p〜10g入れた水溶液中に。
磨等の機械加工(よシ加工し、製造すべて反射鏡に対し
て反転した高精度の鏡面を形成する(第1図、ステップ
(82乃。つぎに、第2図に示すようKこのN1薄膜(
2m)上に厚さIOA種度の酸化クロム薄1!!(2b
)t−無電解めっきKよシ形成する(第1図、ステップ
(83))。このときのめっきは、水11K無水クロム
酸を1.p〜10g入れた水溶液中に。
N1薄膜(2a)を被着している母材(1)を1〜5秒
間浸漬することにより行う。その後、第2図に示すよう
に、金(Au )薄jl(2C)を厚さ1〜5μmとな
るように酸化クロム薄膜(2b)上に電解めりきKよシ
形成する(第1図、ステップ(84))。ひきつづき。
間浸漬することにより行う。その後、第2図に示すよう
に、金(Au )薄jl(2C)を厚さ1〜5μmとな
るように酸化クロム薄膜(2b)上に電解めりきKよシ
形成する(第1図、ステップ(84))。ひきつづき。
第2図に示すように、前記母材(1)のAu薄膜(2C
)の外周面上に銅(Cu)電鋳を施して母材のAu薄膜
(2C)上に厚さ5〜10m OCu電鋳層(4)を形
成する(第1図、ステップ(85))。ついで、第3因
に示すようIc、Cu電鋳層(4)が一体化している母
材(1)に20℃〜150℃の熱サイクルをヒータによ
る加熱と水冷とを組合せることKよシ作用させるととも
に。
)の外周面上に銅(Cu)電鋳を施して母材のAu薄膜
(2C)上に厚さ5〜10m OCu電鋳層(4)を形
成する(第1図、ステップ(85))。ついで、第3因
に示すようIc、Cu電鋳層(4)が一体化している母
材(1)に20℃〜150℃の熱サイクルをヒータによ
る加熱と水冷とを組合せることKよシ作用させるととも
に。
Cu電鋳層(4)側を固定した状態で数10kgの荷重
を例えば小形油圧ジヤツキなどによシ母材(1) K矢
印(ト)方向に負荷すると、酸化クロム薄膜(2b)を
境にしてAu薄膜(2C)を被着したCu電鋳層(4)
がNi薄膜(2a)を一体的に被着している母材(1)
から分離され。
を例えば小形油圧ジヤツキなどによシ母材(1) K矢
印(ト)方向に負荷すると、酸化クロム薄膜(2b)を
境にしてAu薄膜(2C)を被着したCu電鋳層(4)
がNi薄膜(2a)を一体的に被着している母材(1)
から分離され。
第4図に示すよう九反射面として機能するAu薄膜(2
C)を被着したCu′WL鋳層(4錆層からなる反射鏡
(5)を製造することができた(第1図。ステップ(8
6))。
C)を被着したCu′WL鋳層(4錆層からなる反射鏡
(5)を製造することができた(第1図。ステップ(8
6))。
また、上記Cu[錆層(4)が分離され九Nl薄膜(2
a)を被覆している母材(1)を洗浄して(第1図、ス
テップ(87)) 、上述したステップ(S3)からス
テップ(86)tでの処理を複数回行なりたところ、既
に製造した反射鏡を含めて互いに同形状で精度のばらつ
きの少ない反射鏡を複数個製造できた。
a)を被覆している母材(1)を洗浄して(第1図、ス
テップ(87)) 、上述したステップ(S3)からス
テップ(86)tでの処理を複数回行なりたところ、既
に製造した反射鏡を含めて互いに同形状で精度のばらつ
きの少ない反射鏡を複数個製造できた。
なお、上記実施例では母材を鋼、電鋳層を銅(Cu)で
形成し、熱サイクロと荷重負荷によ9反射鏡を製造した
が、これに限定されない。例えば、母材をアンバー合金
、電鋳層をニッケル形成しても上記実施例と同様に反射
鏡を製造することができる。
形成し、熱サイクロと荷重負荷によ9反射鏡を製造した
が、これに限定されない。例えば、母材をアンバー合金
、電鋳層をニッケル形成しても上記実施例と同様に反射
鏡を製造することができる。
上記実施例では、母材の外周面に被覆する剥離用の薄膜
として酸化クロム薄膜を用いたが、酸化クロム薄膜の代
わシに例えば酸化モリブデンなどの薄膜を用いても実施
例と同様な反射鏡を製造することかできる。さらに、母
材(1)の表面仕上げが高精度にできる場合は、上記実
施例のN[薄膜(2a)は省略してもよい。同じく1反
射面としてCu面でもよい場合は、金薄膜(2C)は省
略できる。また。
として酸化クロム薄膜を用いたが、酸化クロム薄膜の代
わシに例えば酸化モリブデンなどの薄膜を用いても実施
例と同様な反射鏡を製造することかできる。さらに、母
材(1)の表面仕上げが高精度にできる場合は、上記実
施例のN[薄膜(2a)は省略してもよい。同じく1反
射面としてCu面でもよい場合は、金薄膜(2C)は省
略できる。また。
fs5図のよ5 K Cu電鋳層(4)を14幽てかね
(3)によシ支持させてもよい。
(3)によシ支持させてもよい。
以上詳述した如く1本発明によれば加工工程から生じる
形状1寸法の制約を受けることなく6所望する形状0寸
法の反射鏡を高精度で安価かつ量産的に製造でき、ひい
ては光学素子などに有効に利用し得る等顕著な効果を有
する。
形状1寸法の制約を受けることなく6所望する形状0寸
法の反射鏡を高精度で安価かつ量産的に製造でき、ひい
ては光学素子などに有効に利用し得る等顕著な効果を有
する。
第1図乃至第4図は本発明の実施例における反射鏡の製
造工程を示す図、第5図は本発明の他の実施例の説明図
である。 1・・・母 材。 2b・・・酸化クロム(金属酸化物被膜)。 2C・・・金薄膜。 4・・・Cu電鋳層、 5・・・反射鏡。 第1rA 4へ電鏑漫 114図 第5図 時間 第3図
造工程を示す図、第5図は本発明の他の実施例の説明図
である。 1・・・母 材。 2b・・・酸化クロム(金属酸化物被膜)。 2C・・・金薄膜。 4・・・Cu電鋳層、 5・・・反射鏡。 第1rA 4へ電鏑漫 114図 第5図 時間 第3図
Claims (1)
- 貫通穴を有し、且つ、上記貫通穴の内面を鏡面とする反
射鏡の製造方法において、上記貫通穴と同形状をなす母
材の外周面に金属酸化物被膜を被着させる第1工程と、
この第1工程後に上記金属酸化物被膜上に電鋳層を形成
する第2工程と、この第2工程後に上記金属酸化物被膜
及び上記電鋳層が被着された母材に熱サイクルを加えな
がら力を負荷し上記金属酸化物被膜を境界として上記母
材から上記電鋳層を分離する第3工程とを具備すること
を特徴とする反射鏡の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63096713A JP2859269B2 (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | 反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63096713A JP2859269B2 (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | 反射鏡の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01268893A true JPH01268893A (ja) | 1989-10-26 |
JP2859269B2 JP2859269B2 (ja) | 1999-02-17 |
Family
ID=14172388
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63096713A Expired - Lifetime JP2859269B2 (ja) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | 反射鏡の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2859269B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007046109A (ja) * | 2005-08-10 | 2007-02-22 | Seiko Instruments Inc | 電鋳型、電鋳部品及び電鋳部品の製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55131191A (en) * | 1979-03-30 | 1980-10-11 | Toshiba Corp | Preparation of metallic mirror |
JPS57210995A (en) * | 1981-06-22 | 1982-12-24 | Mitsubishi Electric Corp | Production of reflecting mirror |
-
1988
- 1988-04-21 JP JP63096713A patent/JP2859269B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55131191A (en) * | 1979-03-30 | 1980-10-11 | Toshiba Corp | Preparation of metallic mirror |
JPS57210995A (en) * | 1981-06-22 | 1982-12-24 | Mitsubishi Electric Corp | Production of reflecting mirror |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007046109A (ja) * | 2005-08-10 | 2007-02-22 | Seiko Instruments Inc | 電鋳型、電鋳部品及び電鋳部品の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2859269B2 (ja) | 1999-02-17 |
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