JPH01263922A - 磁気ディスク基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 ガラス基板表面上に磁性膜を形成する磁気ディスク基板
に関し、 赤外線温度計で基板表面温度を、精度よく測定すること
ができる磁気ディスク基板を提供することを目的とし、 赤外線に対して透過性の低いガラス材料を用いた磁気デ
ィスク基板とするか、または、赤外線を反射する金属膜
を、ガラスディスク基板表面の一部又は全面に被覆して
構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明はガラス基板表面上に磁性膜を形成した磁気ディ
スクに関する。

ディスク基板上に磁性膜を形成して成る磁気ディスク媒
体は、磁気ヘッドを介して磁気ディスク装置のファイル
情報を正確に、記録、再生するために、極めて欠陥の少
ない−様な膜が要求されている。また、高記録密度化の
ために、磁性粒子を用いずに形成した連続的な磁性薄膜
の媒体が用いられて来ている。

この磁性媒体の形成方法として、真空蒸着法やスパッタ
リング法が用いられている。この形成の際、良好な磁性
膜の形成には、基板表面温度の適切な設定が重要であり
、温度の測定を確実に精度よく行うことが必要となって
いる。

しては、アルミ（Ａ１）基板２の表面に陽極酸化処理（
処理膜３）したもの、又はＡｌ基板２の表面の処理膜３
として、ニッケルーリン（Ｎｉ−Ｐ）メツキ層を形成し
たものが用いられて来た。４は穴を示す。

また、最近ではガラス基板が、その硬さ及び製造の容易
さの故に用いられるようになって来ている。これら基板
の上に、スパッタ装置（又は真空蒸着装置）を用い゛て
磁性媒体を形成している。

第７図はスパッタ装置を示す。図において、ターゲット
６をスパッタ装置５のターゲットホルダに載せ、さらに
、基板ホルダ８に基板２を取り付け、基板回転機構９で
回転させながらスパッタリングする。なお、１０はシャ
ッタ、１１は基板に接し、基板表面温度を測定する熱電
対である。

〔発明が解決しようとする課題〕

スパッタリング法や蒸着法で磁性膜を基板２上に形成す
る際、基板の温度が膜の密着性や応力、さらに磁気特性
に大きな影客を与えることが知られており、この温度の
測定は極めて重要とされている。

真空中での基板２の温度計測方法としては、アルメルク
ロメル等の熱電対を使う方法が一般的に用いられている
が、測定対象物に固定せねばならず、基板を回転したり
或いは搬送したりする場合には、熱電対の方法では、基
板温度の測定は不可能である。

一方、基板から放出される赤外線を検出して基板温度を
計測する赤外線放射温度計によれば、非接触でかつ精度
の良い温度測定が可能である。さらに、フッ素化光ファ
イバーを伝送路とする赤外線温度計では、真空装置内な
どの、これまで測定が困難であった部分での測定が可能
となる。この場合、ファイバーの透過性を考慮して、１
．５〜３μｍの波長範囲の赤外線が測定に使われている
。

磁気ディスク用のガラス基板としては、通常、表面を化
学強化したソーダガラスが用いられており、これは第８
図に示すように約５μｍ程度までの赤外線を容易に透過
するため、基板の裏側で発生する赤外線が基板を透過し
て赤外線放射温度計に入射し、基板温度の計測を十分に
行えない問題があった。

このため、本発明では、赤外線放射温度計で基板表面温
度を、精度よく測定することができる磁気ディスク基板
を提供することを目的としている。

〔課題を解決するための手段〕

前記問題点は、第１図（イ）（ロ）に示されるように、
赤外線に対して透過性の低いガラス材料を用いて磁気デ
ィスク基板１ａとするか、或いは赤外線を反射する金属
膜１２を、ガラスディスク基板表面の一部又は全面に被
覆した本発明の磁気ディスク基板によって解決される。

〔作用〕

本発明の従来の磁気ディスク用ガラス基板の欠点を取り
除くため、ガラス基板の材料を赤外線を透過しないよう
にしたものである。

可視域を透過し、赤外域を吸収するガラスとしては、Ｆ
ｅ２を含むリン酸塩ガラス（Ｕ　−Ｓ　、Ｐａｔ。

３２２０８６１　）　ＨＡ−３０等が知られている〔作
花済夫編「ガラスの辞典Ｊ　Ｐ　１６５５朝倉書店刊〕
。ＨＡ−３０やＨＡ−５０では、第２図に示すように波
長が１．５〜３μｍの赤外線はｉ３過しない。また、他
のガラスとしては、０．６μ偏以上の長波長域を吸収す
るＣｕ２を含むリン酸塩ガラス等（図のＣＣ−５００、
ＣＬ−５００、Ｃ５−５００、Ｃ−５００，ＣＭ−５０
０）が知られている。その透過率を第３図に示すが、や
はり赤外線温度測定に用いる波長１．５０〜３μｍでは
、透過率が著しく落ちている。

第１図（イ）の磁気ディスク基板１ａをこれらガラス材
料で構成し、（第４図参照）例えばスパッタ装置の基板
ホルダ８に装着し磁性膜を形成する際、基板ホルダ８の
表面から発生する赤外線を取り除き、基板表面が放射す
る赤外線だけを、磁気ディスク基板１ａに非接触で配置
した赤外線放射温度計１３で測定する事ができる。

その他、第１図（ロ）の磁気ディスク基＋ｆｆｌ　１　
ｂの表面の一部又は全面を、赤外線を反射する金属１２
で被覆することで、前記同様に基板ホルダ８の表面から
発生する赤外線を反射させ、金属膜１２の下部に非接触
に配置した赤外線放射温度計１３に入射しないようにで
き、金属膜固有の放射率に対応した赤外線を測定する事
ができる。

〔実施例〕

第１図（イ）（ロ）は本発明の詳細な説明する図であり
、第４図は本発明の基板測定の説明図である。なお、全
図を通じて同一符号は同一対象物を示す。

第１図（イ）は、Ｆｅ２を含むリン酸塩ガラスを材料と
し、厚さ２龍のディスク状に加工し、表面明度し磁気デ
ィスク基板１ａとした（ガラス材料の透過率は第２図参
照）。

この磁気ディスク基板１ａを、第４図のようにヒータ内
蔵の基板ホルダ８に取り付け、その磁気ディスク基板１
ａに対向し、若干離した位置に赤外線放射温度計１３を
配置し、真空中での温度測定を行った。赤外線放射温度
計１３は、磁気ディスク基Ｉ反１ａより放射する赤外線
を受け、ミラー１４で反射し、透視窓１５、レンズ１６
を介し光ファイバー１７に入射する構成である。なお、
測定に用いた光ファイバー１７は、フン化物光ファイバ
ー（成分ＺｒＦ　４−Ｂａ　Ｆ　２−Ｌａ　Ｆ　３−Ｎ
ａ　Ｆ　３　）を用いたものであり、第５図に示すよう
に可視光から約４μｍまでの赤外線を透過する。温度測
定は１．５μＩ１１〜３μｍまでの赤外線の量を計測す
る事によって行う。

Ｆｅ２を含むリン酸塩ガラスを材料とした磁気ディスク
基板１ａでは、ソーダガラスを用いた従来のガラスディ
スク基板の場合と違って、基板ホルダ８から放射される
赤外線が吸収されるため、ガラス基板表面温度が精度良
く測定できる。

また、他のガラスとしては、０．６μｍ以上の長波長域
を吸収するＣｕ２を含む第３図に示すリン酸塩ガラス等
（図のＣＣ−５００、ＣＬ−５００、Ｃ５−５００，Ｃ
−５００、ＣＭ−５００）を用いても同様である。

その他、加熱体から発生する赤外線を透過させないため
には、ガラス基板そのもの自体が赤外線を吸収する以外
に、ガラス基板の表面に赤外線を充分反射する膜を形成
したものであっても良い。

このようなガラス基板としては、第１図（ロ）に示すよ
うにガラス基板の表面を、Ｔｉ、　ＡＩ、Ｎ　ｒ　−Ｐ
　％Ｃｒ等の金属を表面被覆したもの、又はガラス基板
の中央部分に上記赤外線を反射する金属膜１２を形成し
ても良い。この場合、基板ホルダ８からの赤外線を、上
記金属膜１２が反射して遮り、金属膜固有の放射率で生
じた赤外線を検出して、ガラス基板表面温度の精度良い
測定が可能になる。なお、この場合のガラス基板の材料
としては、赤外線の透過性が良いソーダガラスで充分で
ある。

上記のように赤外線を吸収又は反射するガラス材料を用
い、磁気ディスク基板を構成することにより、従来のよ
うに赤外線を容易に透過しないので、基板ホルダ８から
発生する赤外線が取り除かれ、基板の表面から放射する
赤外線だけを測定することが可能となり、精度よく温度
の測定ができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によれば、磁気ディスク基板
を、赤外線を吸収または反射するガラス材料で構成する
ことにより、赤外線放射温度計によって、非接触でガラ
スディスク基板の表面温度が正確に測定できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の詳細な説明する図、 第２図はＦｅ２を含むリン酸塩ガラスの透過率の図、 第３図はＣｕ２を含むリン酸塩ガラスの透過率の図、 第４図は本発明の基板測定の説明図、 第７図は従来の基板温度測定の説明図、第８図はソーダ
ガラス（無色透明）の分光透過率の図である。 図において、 ｌａ、　ｌｂは磁気データ基板、 １２は赤外線を反射する金属の薄膜、 ８は基板ホルダー、 １３は赤外線放射温度計、 １４はミラー、 １５は透視窓、 １６はレンズ、 羊　７　図 ＄　σ　図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）赤外線に対して透過性の低いガラス材料を用いた
   ことを特徴とする磁気ディスク基板。
2. （２）赤外線を反射する金属膜（１２）を、ガラスディ
   スク基板表面の一部または全面に被覆したことを特徴と
   する磁気ディスク基板。