JPH01263911A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体に関するものである。− 従来の技術 近年の磁気記録密度向上の進歩は著しく、強磁性金属薄
膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の実用化が待望され
ている。かかる磁気記録媒体の課題は、耐久性の確保と
耐食性の確保を、高密度記録性能を低下させる程度をい
かにして小さくして実現するかにあり、各方面で種々の
試みがなされている０ 中でも、強磁性金属薄膜自身の改良は、高密度記録性能
確保に必要な残留磁化量、保磁力の大きさに制約があっ
て、バランスよく改善するのが容易でないことから、表
面酸化の利用〔特開昭６９−１１９５４２号公報、特開
昭６１−１５３８５６号公報〕磁性体の材料組成を改良
する〔特開昭６０−３５３２９号公報、特開昭５７−１
９６５０８号公報、特開昭６２−３４１９号公報〕、２
層ないし３層構成により上層に耐食性の良好な材料を配
する方法〔特開昭６１−１３９９２０号公報。

特開昭６９−１１９５３１号公報、特開昭６９−１１９
５３４号公報〕等が検討され、かつ保護膜。

潤滑剤との組み合わせで更に補強すること〔特開昭６１
−１９４６２４号公報、特公昭５８−９４８９号公報、
特開昭６１−１３１２３１号公報〕での改善がはかられ
ている０ 発明が解決しようとする課題 しかしながら、これまで提案されている構成では、耐食
性、耐久性を実用レベルに改善すると、短波長域でのＣ
／Ｎが低下し、限定された条件での実用性しか得られな
いといった課題があった。

本発明は上記した事情に鑑み、なされたもので、耐食性
、耐久性、Ｃ／Ｎの実用性をバランスよく改良した磁気
記録媒体を提供するものである。

課題を解決するだめの手段 上記した課題を解決するため、本発明の磁気記録媒体は
、高分子フィルム上に積層した磁性金属薄膜に隣接して
ダイアモンド状硬質炭素薄膜を配するようにしたもので
ある。

作　　　用 本発明の磁気記録媒体は、上記した構成により磁性金属
薄膜を外部よりアタックする湿度や腐食性ガスをＤＬＣ
膜が阻止することから耐食性が改善され、磁気記録層の
剛性が大きくなることでヘッドとのコンタクトで受ける
急峻な応力変化に対しても耐久性が増大するので、保護
層の厚みを小さくしてＣ／Ｎ改善が短波長ではかられる
のと、磁性金属の均一成長がはかられることもＣ／Ｎ改
善につながることになる０ 実施例 以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について説
明する。図は本発明の一実施例の磁気記録媒体の拡大断
面図である。図で１はポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート。

ポリサルフォン、ポリフェニレンサルファイド。

ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン
、ポリアミド、ポリイミド等の高分子フィルムで、必要
に応じて、微粒子塗布層や、水溶性高分子の凹凸層など
の下塗り層を配したものを用いてもよい。２は、ダイア
モンド状硬質炭素薄膜（以下り、Ｌ、Ｃ，膜と呼ぶ）で
、膜厚は６０への範囲で最適化すればよく、製法につい
ては特に限定されるものではなく、スパッタリング法、
イオンビームデポジシラン法、プラズマ加速法等の単独
又は組み合わせで行えばよい。

３は、磁性層Ａで、４は磁性層Ｂで、いずれも磁性金属
薄膜で構成され、３は、Ｎｉ−Ｆｅ。

Ｎｉ−Ｆｅ−Ｍｏ等の軟磁性金属薄膜で４はＣｏ−Ｃｒ
　。

Ｃｏ　−Ｔ　ｉ　、　Ｃｏ−Ｍｏ　、　Ｃｏ　−Ｃｒ−
Ｎｂ等の垂直磁化膜で構成するか、３，４共にＣｏ−Ｎ
ｉ　、　Ｃｏ−Ｃｒ　。

Ｃｏ−Ｔ　ｉ　、　Ｃｏ　−Ｍｏ　、　Ｃｏ−Ｗ、　Ｃ
ｏ−５ｍ　、　Ｃｏ　−Ｔ　ａ　。

Ｃｏ−Ｂ、Ｃｏ−Ｂ１　、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｎｄ、Ｃｏ
−０，Ｃｏ−０ｓ。

Ｃｏ−Ｎｉ−０，Ｃｏ−Ｃｒ　−Ｎｂ　、Ｃｏ−Ｎｉ　
−Ｐ　　等の強磁性金属薄膜の中から適宜組み合わせて
構成するかのいずれかが実施態様として選択される。勿
論更に多層化することを阻むものではないが、製造装置
が大型化し、条件管理が複雑化することを考えれば、磁
性層が２層で夫々に隣接してり、Ｌ、Ｃ，膜を合計で３
層配する構成が適当といえる。

５ｉ１脂肪酸、　ｉ％級アルコール、バーフルオロカル
ボン酸等の潤滑剤層で、溶液塗布法、真空蒸着法等によ
り２０人から１００人の範囲で構成すればよい。本発明
は磁気テープは勿論、磁気ディスクの形態でも実施でき
るものである。

以下、更に具体的に本発明の実施例について比較例との
対比で詳しく説明する。厚み１０．６μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に直径１００人の５ＩＯ２
微粒子を１４ケ／（μｍ）２配し、その上にグラファイ
トをターゲットにしてＡｒとＢ２の混合気体を放電ガス
として１３．５６（ＭＨｚ）の高周波グロー放電による
スパッタリングを行って、１６０人のり、Ｌ、Ｃ膜を配
し、その上に同じく高周波スパッタリング〔放電ガスは
Ａｒ、　　高周波は１３．５６（ＭＨｚ））法でＮ１−
Ｆｅ（８０％Ｎｉ）膜を０．３５　ｐｒｎ形成し、次に
り、Ｌ、Ｃ膜を１２０人、その上に高周波スパッタリン
グ法でＣｏ−Ｃｒ（Ｃｏニア９．８ｗｔ％）垂直磁化膜
を０．２μｍ配し、更にり、Ｌ、Ｃ膜を８ＯＡ配し、そ
の上に真空蒸着法でパーフルオロステアリン酸を４０人
配し、８ミリ幅にスリットし、磁気テープＡを製造した
。比較例は、高分子フィルム上と、Ｎｉ−Ｆｅ上のり、
Ｌ、Ｃ膜を除いた他は同じ製造条件で製造したもので、
それを磁気テープＢとして準備した。

両者を、改造した８ミリビデオにより比較評価した。即
ちギャップ長０．１６μｍのアモルファスヘッドにより
、ビット長０．２３μｍ、）ラックピッチ５．６μｍの
矩形波信号を記録し、再生Ｃ／Ｎ〔帯域８　（ＭＨｚ　
）　］　　を相対比較した。これによると磁気テープＡ
の方がヘッドとの接触が良好で、磁気テープＢより２．
５（ｄＢ）Ｃ／Ｎが良好であつた。尚テンションを最適
化してヘッドとの接触を磁気テープＢＫ最適にしても、
磁気テープＡのＣｏ−Ｃｒ膜の性能が均一であることか
ら雑音レベルが低く、調整後でも１．２（ｄＢ）Ｃ／Ｎ
　　が良好であった。スチル状態で画面でノイズが判別
されるまでの時間を比較したところ、実施例の磁気テー
プＡは４９分、磁気テープＢは２７分であった。

また３９℃８６％ＲＨでｓＯ２ガｘ　１６　ｐＰｍの条
件で１ケ月保存した後の比較では、磁気テープＡはエラ
ー率が初期値と同じであったのに比して、磁気テープＢ
は、場所により初期値の１．５倍から１６倍とバラツキ
が大きく劣化がみられた。

上記した実施例は、軟磁性層と強磁性層の積層の場合の
一例であったが、他にＣｏ　−Ｎ　ｉ−○膜の２層につ
いてもほぼ同様の比較例対比の優位性を確認し、Ｃｏ　
−Ｎ　ｉ−０膜とＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜の積層について
も同じく効果を確認した。

特にＣｏ−０ｒを上層に配しその性能向上のために従来
知られるチタン層を配したものは初期の性能はたしかに
実施例とほぼ同じであるが、４０℃８６％ＲＨ，ＨＣｆ
１１６ｐｐｍ　　の雰囲気で１．５　ケ月保存後の出力
は、実施例が−０，６（ｄＢ　）でほとんど測定誤差内
の変化でしかなかったのに比し、−３，５（ｄＢ）と劣
化が目立ったことからも本発明の価値は大きい。

発明の効果 以上のように本発明によれば、耐食性、耐久性。

短波長Ｃ／Ｎをバランスよく改良した磁気記録媒体が得
られるといったすぐれた効果がある。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の一実施例の磁気記録媒体の拡大断面図であ
る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 高分子フィルム上に積層した磁性金属薄膜に隣接してダ
   イアモンド状硬質炭素薄膜を配したことを特徴とする磁
   気記録媒体。