JPH01253817A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、合成樹脂からなる基板を用いた磁気記録媒体
に関する。

［従来技術］ 従来より磁気ディスクはアルミニウム合金の円板からな
る基板上に磁性体層を形成している。

この基板には各種の高レベルな品質が要求され、そのた
めにアルミニウム合金の円板は熱処理により歪を矯正し
、さらにその表面をダイヤモンド切削、または砥粒によ
るラッピング、およびポリ。

シンク等により鏡面研磨して仕上げ、すぐれた表面性、
平滑性、平面性等を得ていた。

近年、磁気ディスク装置の小型化、記憶容量の高容量化
等の要求が益々高まりつつある。それに伴い基板も、よ
りすぐれた表面性、平滑性、平面性等が要求されている
。さらに、軽量化に対する要求も益々高まりつつある。

特に、軽量化の要求に対応する目的で特開昭５９−１３
５１３３号公報に記載されているように、磁気ディスク
基板を合成樹脂で形成することが検討されている。

また、特開昭６１−１８７１１７号公報に記載されてい
るように、その表面をチタン、チタン合金またはチタン
化合物で被覆した合成樹脂からなる磁気ディスク用基板
、あるいはその表面を先ず酸化シリコンまたは酸化アル
ミニウムで被覆し、次いでチタン、チタン合金またはチ
タン化合物で被覆した合成樹脂からなる磁気ディスク用
基板が検討されている。

［発明が解決しようとする課題］ アルミニウム合金に替えて、合成樹脂を磁気ディスク基
板に用いる場合には、アルミニウム合金に比べて軽量で
あり、しかも射出成形等により一工程で平滑性等のすぐ
れた安価な磁気ディスク基板を安定に量産できる等の利
点がある。

しかし、特開昭、５９−１３５１３３号公報記載の発明
で得られた磁気ディスク基板上に、真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンブレーティング法等々でクロムから
なる層、磁性体薄膜を順次形成すると、合成樹脂はアル
ミニウム合金に比べて、その表面硬度が低いため、磁気
ディスクとしての耐久性を示す耐Ｃ８Ｓ特性が著しく低
かった。

このような欠点を解決するために、特開昭６１−１８７
１１７号公報記載の発明では、その表面をチタン、チタ
ン合金またはチタン化合物で被覆した合成樹脂からなる
磁気ディスク用基板が提案されている。

この方法による磁気ディスク基板では、チタン、チタン
合金またはチタン化合物の合成樹脂からなる基板および
クロムからなる層に対する密着力が著しく弱いため、ク
ロムからなる層をその表面に形成すると、クロムからな
る層にクランクが発生したり、あるいはわずかな力を加
えてもチタン、チタン合金またはチタン化合物の層と基
板間、またはチタン、チタン合金またはチタン化合物の
層とクロムからなる眉間に容易に剥離が生じたりして、
エラーの発生原因となったり、使用中にそのクラック部
から磁性体薄膜が剥離したりして、信顛性、耐久性に著
しく悪影響を及ぼすことが多かった。

また、この方法による磁気ディスク基板では、表面硬度
が低い合成樹脂からなる基板上に非常に硬度が高いチタ
ン、チタン合金またはチタン化合物を被覆しているにも
かかわらず、上記のように他に対する密着力が著しく弱
いため、使用中に剥離してしまい磁気ディスクとしての
耐久性を示す耐Ｃ８Ｓ特性を十分には改善することはで
きなかった。

さらに、特開昭６１−１８７１１７号公報記載の発明で
は、その表面を先ず酸化シリコンまたは酸化アルミニウ
ムで被覆し、次いでチタン、チタン合金またはチタン化
合物で被覆した合成樹脂からなる磁気ディスク用基板も
提案されている。

しかし、この方法による磁気ディスク基板ではチタン、
チタン合金またはチタン化合物の合成樹脂からなる基板
に対する密着力はかなり改善されるが、チタン、チタン
合金またはチタン化合物のクロムからなる層に対する密
着力は依然として著しく弱いため、クロムからなる層を
その表面に形成すると、クロムからなる層にクラックが
発生したり、チタン、チタン合金またはチタン化合物の
層とクロムからなる層に剥離が生じたりすることを十分
には改善することはできなかった。

本発明は、上記従来の方法では解決が困難であったクロ
ムからなる層にクラックが殆ど発生することがない磁気
記録媒体を提供することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、合成樹脂からなる基板上に、クロムからなる
層、磁性体薄膜が順次形成された磁気記録媒体において
、前記合成樹脂からなる基板とクロムからなる層の中間
に珪素の酸化物からなる層を形成するようにしたもので
ある。

本発明において、珪素の酸化物からなる層は、その厚み
は５００Å以上が好ましい。その厚みが５００人未満で
は、クロムからなる層のクラックを十分には防止するこ
とができない場合がある。

また、本発明において用いる珪素の酸化物は、一般弐：
ＳｉＯｘで表した場合に、そのＸの範囲は、０．６以上
が好ましい。そのＸの範囲が０゜６未満では、基板およ
びクロムからなる層に対する密着性が不足するため、ク
ロムからなる層のクラックを十分には防止することがで
きない場合がある。

また、本発明において用いる合成樹脂としては、ポリエ
ーテルイミド、ポリエーテルサルホン、ポリフェニレン
サルファイド、ボリアリレート、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリカーボネート等の耐熱性にすぐれた合成樹
脂を好適に用いることができる。さらに、必要に応じて
無機質充填材、例えば、チタン酸カリウムウィスカ、炭
素繊維、５ｔ−Ｃ繊維、アルミナ繊維等のセラミック繊
維、ガラス繊維、金属繊維等の繊維状物質、ガラスピー
ズ、セラミック粉末、カーボン、マイカ等々を適宜添加
してもよい。

また、本発明に１おいて、珪素の酸化物からなる層を形
成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンブレーティング法の真空プロセス法、ＣＶＤ等の
気相成長法、液相成長法等いずれの方法でも形成するこ
とができ、特に制限するものではない。

また、本発明において、クロムからなる層、磁性体薄膜
を形成する材料および方法は、通常用いられる材料およ
び方法であれば、いずれの材料および方法でもよく、特
に制限するものではない。

［作用］ 本発明によれば、合成樹脂からなる基板とクロムからな
る層の中間にそれぞれに対し密着性のよい珪素の酸化物
からなる層を形成しているので、基板とクロムからなる
層が珪素の酸化物からなる層を介して、十分な密着力で
密着しており、クロムからなる層にクラックが発生する
ことがなくなるものと推定される。

［実施例］ 以下、本発明を実施例に基づき、詳細に説明する。

ポリエーテルイミド樹脂を用いて射出成形により、厚み
１．９ｍｍ、外径１３０ｍｍ、内径４０ｍｍの基板を成
形した。

得られた基板上に真空蒸着法により、酸化珪素を蒸発試
料として、珪素の酸化物からなる層を形成した。なお、
真空蒸着中の酸素分圧および蒸着速度を調整して、厚み
および珪素の酸化物中の酸素組成比が異なった珪素の酸
化物からなる層を形成した。形成された珪素の酸化物か
らなる層の厚みおよび珪素の酸化物中の酸素組成比は表
１に示した。

次いで、スパッタリング法により、ターゲツト材として
、クロム、コバルト合金（Ｃｏ：Ｎｉ：Ｃｒ＝１５　：
　１５　：　１０．Ｌ％）を用いて、クロム層、コバル
ト合金層を、各々０．２μｍ、０．０８μｍの厚みに形
成して、６種類の磁気ディスクを作成した。また、比較
例として珪素の酸化物からなる層を形成せず、直接ポリ
エーテルイミド樹脂の基板上に、実施例と同様にクロム
層、コバルト合金層を、各々０．２μｍ、０．０８μｍ
の厚みに形成して、磁気ディスクを作成した。

得られた７種類の磁気ディスクの表面を５００倍の光学
顕微鏡で観察した結果、Ｎｏ、　２、Ｎα３、Ｎ。

４、Ｎα６の磁気ディスクではいずれもクラックば観察
できなかった。また、Ｎα５の磁気ディスクは微細なり
ランクがわずかに発生していることが観察された。また
、Ｎｏ、　１、比較例の磁気ディスクは多数の太いクラ
ンクが観察された。

また、得られた７種類の磁気ディスクをＣ８Ｓ試験機に
より、耐Ｃ８Ｓ特性を測定した結果、ＣＳＳ回数はＮα
２、Ｎα３、Ｎα４、Ｎα６の磁気ディスクではいずれ
も３００００回以上であったが、Ｎ。

５の磁気ディスクは約５０００回、Ｎｏ、　１、比較例
の磁気ディスクではいずれも１０００回以下であった。

さらに、Ｎａ２、ｋ３、Ｎ（１４、Ｎ（１６の磁気ディ
スりを８０’Ｃ１相対湿度８０％の恒温恒湿槽に入れ、
約１０００時間経過後、同様に５００倍の光学顕微鏡で
観察したが、クラックは全く発生していなかった。

［効果］ 以上のように、本発明は、合成樹脂からなる基板とクロ
ムからなる層の間に珪素の酸化物からなる層を介在させ
ることにより、合成樹脂からなる基板とクロムからなる
層の密着性が著しく向上するので、使用中に基板から剥
離することがな（、かつクランクのない均一なりロムか
らなる層を形成することができ、信顛性、耐久性がすぐ
れた磁気ディスクを提供することができるという効果を
奏する。

また、本発明は、。合成樹脂からなる基板とクロムから
なる層の間に珪素の酸化物からなる層を介在させること
により、合成樹脂からなる基板とクロムからなる層の密
着性が向上し、かつ合成樹脂からなる基板の表面硬度が
著しく向上するので、耐Ｃ３Ｓ特性がすぐれた磁気ディ
スクを提供することができるという効果も奏する。

また、本発明は、合成樹脂からなる基板を用いているの
で、軽量、安価な磁気ディスクを提供することができる
という効果も奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明磁気記録媒体の一実施例を示す断面図で
ある。 １・−・保護層、２−磁性体薄膜、３−・クロム層、４
−・・珪素の酸化物層、５−基板

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）合成樹脂からなる基板上に、クロムからなる層、
   磁性体薄膜が順次形成された磁気記録媒体において、前
   記合成樹脂からなる基板とクロムからなる層の中間に珪
   素の酸化物からなる層を形成することを特徴とする磁気
   記録媒体。
2. （２）前記珪素の酸化物からなる層の厚みが５００Å以
   上であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   磁気記録媒体。
3. （３）前記珪素の酸化物が一般式： ＳｉＯ＿ｘ 〔式中、ｘは、０．６≦ｘの範囲〕 で示されることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の磁気記録媒体。