JPH01253816A

JPH01253816A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH01253816A
Application number: JP8072788A
Authority: JP
Inventors: Makoto Fujigami; 真藤上; Katsutoshi Minami; 勝敏南; Kazuaki Miyamoto; 和明宮本
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 1988-03-31
Filing date: 1988-03-31
Publication date: 1989-10-11

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、合成樹脂からなる基板を用いた磁気記録媒体
に関する。

［従来技術］従来より磁気ディスクはアルミニウム合金の円板からな
る基板上に磁性体層を形成している。

この基板には各種の高レベルな品質が要求され、そのた
めにアルミニウム合金の円板は熱処理により歪を矯正し
、さらにその表面をダイヤモンド切削、または砥粒によ
るラッピング、およびポリッシング等により鏡面研磨し
て仕上げ、すぐれた表面性、平滑性、平面性等を得てい
た。

近年、磁気ディスク装置の小型化、記憶容量の高容量化
等の要求が益々高まりつつある。それに伴い基板も、よ
りすぐれた表面性、平滑性、平面性等が要求されている
。さらに、軽量化に対する要求も益々高まりつつある。

特に、軽量化の要求に対応する目的で特開昭５９−１３
５１３３号公報に記載されているように、磁気ディスク
基板を合成樹脂で形成するごとが検討されている。

また、特開昭６１−１８７１１７号公報に記載されてい
るように、その表面をチタン、チタン合金またはチタン
化合物で被覆した合成樹脂からなる磁気ディスク用基板
、あるいはその表面を先ず酸化シリコンまたは酸化アル
ミニウムで被覆し、次いでチタン、チタン合金またはチ
タン化合物で被覆した合成樹脂からなる磁気ディスク用
基板が検討されている。

［発明が解決しようとする課題１アルミニウム合金に替えて、合成樹脂を磁気ディスク基
板に用いる場合には、アルミニウム合金に比べて軽量で
あり、しかも射出成形等により一工程で平滑性等のすぐ
れた安価な磁気ディスク基板を安定に量産できる等の利
点がある。

しかし、特開昭５９−１３５１３３号公報記載の発明で
得られた磁気ディスク基板上に、真空蒸着法、スバッタ
リ５ング法、イオンブレーティング法等々でクロムから
なる層、磁性体薄膜を順次形成すると、クロムからなる
層にクラックが発生し、エラーの原因となったり、使用
中にそのクラック部から磁性体薄膜が剥離したり、基板
中のわずかな残存水分がそのクラック部を通過して磁性
体薄膜を劣化させたりして、信軌性、耐久性に著しく悪
影響をおよぼすことが多かった。さらに、合成樹脂はア
ルミニウム合金に比べて、その表面硬度が低いため、磁
気ディスクとしての耐久性を示すＣＳＳ特性も著しく低
かった。

このような欠点を解決するために、特開昭６１−１８７
１１７号公報記載の発明では、その表面をチタン、チタ
ン合金またはチタン化合物で被覆した合成樹脂からなる
磁気ディスク用基板が提案されている。

この方法による磁気ディスク基板では、チタン、チタン
合金またはチタン化合物の合成樹脂からなる基板および
クロムからなる層に対する密着力が著しく弱いため、ク
ロムからなる層をその表面に形成すると、クロムからな
る層にクラックが発生したり、あるいはわずかな力を加
えてもチタン、チタン合金またはチタン化合物の層と基
板間、またはチタン、チタン合金またはチタン化合物の
層とクロムからなる層間に剥離が生じたりして、上記特
開昭５９−１３５１３３号公報記載の発明により得られ
た基板の場合と同様にエラーの原因となったり、使用中
にそのクラック部から磁性体薄膜が剥離したり、基板中
のわずかな残存水分がそのクラック部を通過して磁性体
薄膜を劣化させたりして、信頬性、耐久性に著しく悪影
響をおよぼすことが多かった。

また、この方法による磁気ディスク基板では、表面硬度
が低い合成樹脂からなる基板トに硬度が高いチタン、チ
タン合金またはチタン化合物を被覆しているにもかかわ
らず、上記のように密着力が弱いため、使用中に剥離し
てしまい磁気ディスクとしての耐久性を示す耐Ｃ８Ｓ特
性を十分には改善することはできなかった。さらに、チ
タン、チタン合金またはチタン化合物でも硬度は十分で
はなく、耐ＣＳＳ、特性の改善効果はそれ程大きくはな
かった。

さらに、特開昭６１−１８７１１７号公報記載の発明で
は、その表面を先ず酸化シリコンまたは酸化アルミニウ
ムで被覆し、次いでチタン、チタン合金またはチタン化
合物で被覆した合成樹脂からなる磁気ディスク用基板も
提案されている。

しかし、この方法による磁気ディスク基板ではチタン、
チタン合金またはチタン化合物の合成樹脂からなる基板
に対する密着力はかなり改善されるが、チタン、チタン
合金またはチタン化合物のクロムからなる層に対する密
着力は依然として弱いため、クロムからなる層をその表
面に形成すると、クロムからなる層にクラックが発生し
たり、チタン、チタン合金またはチタン化合物の層とク
ロムからなる層に剥離が生じたりすることを十分には改
善することはできなかった。

本発明は、上記従来の方法では解決が困難であったクロ
ムからなる層にクランクが殆ど発生することがな（、信
頬性、耐久性がすぐれた磁気記録媒体を提供することを
目的とするものである。

［課題を解決するための手段］本発明は、合成樹脂からなる基板上に、クロムからなる
層、磁性体薄膜が順次形成された磁気記録媒体において
、前記合成樹脂からなる基板とクロムからなる層の中間
に窒化珪素の窒素と珪素の一部を、それぞれ酸素とアル
ミニウムで置換した化合物（以下、５ｉＡＩＯＮという
。）からなる層を形成するようにしたものである。

本発明において、５ｉＡ１ＯＮからなる層は、その厚み
は２５０Å以上が好ましい。その厚みが２５０人未満で
は、クロムからなる層のクラックを十分には防止するこ
とができない場合があったり、膜としての強度が若干不
足して、十分な信頼性、耐Ｃ３Ｓ特性が得られないこと
がある。

また、本発明において用いる合成樹脂としては、ポリエ
ーテルイミド、ポリエーテルサルホン、ポリフェニレン
サルファイド、ボリアリレート、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリカーボネート等の耐熱性にすぐれた合成樹
脂を好適に用いることができる。さらに１、必要に応じ
て無機質充填材、例えば、チタン酸カリウムウィスカ、
炭素繊維、５ｔ−Ｃ繊維、アルミナ繊維等のセラミック
繊維、−ガラス繊維、金属繊維等の繊維状物質、ガラス
ピーズ、セラミック粉末、カーボン、マイカ等々を適宜
添加してもよい。

また、本発明において、５ｉＡＩＯＮからなる層、クロ
ムからなる層、磁性体薄膜を形成する方法としては、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法
等々いずれの方法も形成することができ、特に制限する
ものではない。

また、本発明において、クロムからなる層、磁性体薄膜
を構成する材料は、通常用いられるものであればよく、
特に制限するものではない。

［作用］本発明によれば、合成樹脂からなる基板とクロムからな
る層の中間にそれぞれに対し密着性がよく、かつ硬度の
高い５ｉＡ１ＯＮからなる層を形成しているので、基板
とクロムからなる層が５ｉＡＩＯＮからなる層を介して
、十分な密着力で密着しており、クロムからなる層にク
ランクが発生することがなくなるものと推定される。

［実施例］、− 以下、本発明を実施例に基づき、詳細に説明する。

ポリエーテルイミド樹脂を用いて射出成形により、厚み
１．９ｍｍ、外径１３０ｍｍ、内径４０ｍｍの基板を成
形した。

得られた基板上にＲＦスパッタリング法により、スパッ
タリングのターゲツト材としてＳｉ、、ＡＬＸ　ＯＸ　
Ｎ４−Ｘ　　（Ｘ＝０．５）の組成のものを使用し、５
ｉＡ１ＯＮからなる層を、表−１に示した３種類の厚み
で形成した。

表−１次いで、それらの表面にＤＣスパッタリング法により、
スパッタ、リングのターゲツト材としてクロム、コバル
ト合金（Ｃｏ　：Ｎｉ　：Ｃｒ＝７５　：１５：１０．
ｔ％）を使用し、クロム層、コバルト合金層をそれぞれ
２０００人、１０００人の厚みに形成し、さらにその表
面にカーボン層を５００人形成して、磁気ディスクを作
成した。

また、比較例として、ポリエーテルイミド樹脂の基板上
に直接クロム層、コバルト合金層、カーボン層を同様の
方法で同じ厚みに形成した磁気ディスク（以下、比較例
１という。）、およびポリエーテルイミド樹脂の基板上
に酸化珪素層をｌ０００人、酸化チタン層を１０００人
順に形成し、その上にクロム層、コバルト合金層、カー
ボン層を同様の方法で同じ厚みに形成した磁気ディスク
（以下、比較例２という。）を作成した。

得られた５種類の磁気ディスクはＣ８Ｓ試験機により、
耐Ｃ８Ｓ特性を測定した。その結果を表−２に示した。

表−２表−２から明らかなように、５ｉＡＩＯＮからなる層を
介在させることにより、耐Ｃ８Ｓ特性は著しく向上して
おり、特に５ｉＡＩＯＮからなる層の厚みが５００Å以
上の場合には、その改善効果が非常に顕著である。

また、得られた５種類の磁気ディスクの表面を走査型電
子顕微鏡で５００００倍まで倍率を順次あげて観察した
結果、Ｎｏ、　２、Ｎｏ、　３の磁気ディスクはいずれ
もクラックはまったく観察されなかった。

また、Ｎｏ、　１の磁気ディスクは微細な細いクランク
がわずかに発生していることが観察された。また、比較
例１、比較例２はいずれも太いクラックが多数観察され
た。

また、得られた５種類の磁気ディスクの表面に幅１０ｍ
ｍの粘着テープを張りつけ、１時間後に引き剥がしたと
こ、ろ、Ｎｏ、　１、Ｎｏ、　２、陥、３の磁気ディス
クは磁性体薄膜、クロム層が全く剥離しなかった。一方
、比較例１、比較例２の磁気ディスクはいずれもクロム
層と酸化チタン層間の界面で剥離した。

また、Ｎｏ、　１、Ｎα２、Ｎα３の磁気ディスクを８
０゛Ｃ１相対湿度８０％の恒温恒湿槽に入れ、約１００
０時間放置後、同様にその表面を走査型電子顕微鏡で５
００００倍まで倍率を順次あげて観察した結果、Ｎｏ、
　２、Ｎｏ、　３の磁気ディスクは、クラックはまった
く発生していなかった。また、Ｎα１の磁気ディスクに
発生していた微細な細いクラックは若干太く、かつ多く
なっていた。

［効果］以上のように、本発明は、合成樹脂からなる基板とクロ
ムからなる層の中間に窒化珪素の窒素と珪素の一部を、
それぞれ酸素とアルミニウムで置換した化合物からなる
層を介在させることにより、合成樹脂からなる基板とク
ロムからなる層の密着性が著しく向上するので、使用中
に基板から剥離することがなく、かつクラックのない均
一なりロム層を形成することができ、信鎖性、耐久性が
すぐれた磁気ディスクを提供することができるという効
果を奏する。

さらに、合成樹脂からなる基板の表面硬度が著しく向上
するので、酸化シリコン、酸化アルミニウム、チタン、
チタン合金、チタン化合物、カーボン等々を介在させた
場合に比べ、耐Ｃ８Ｓ特性がすぐれた磁気ディスクを提
供することができるという効果も奏する。

また、本発明は、合成樹脂からなる基板を用いているの
で、軽量、安価な磁気ディスクを提供することができる
という効果も奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明磁気記録媒体の一実施例を示す断面図で
ある。１−保護層、２−磁性体薄膜、３　クロム層、４−珪素
の酸化物層、５−基板

Claims

【特許請求の範囲】

（１）合成樹脂からなる基板上に、クロムからなる層、
磁性体薄膜が順次形成された磁気記録媒体において、前
記合成樹脂からなる基板とクロムからなる層の中間に窒
化珪素の窒素と珪素の一部を、それぞれ酸素とアルミニ
ウムで置換した化合物からなる層を形成することを特徴
とする磁気記録媒体。
（２）前記窒化珪素の窒素と珪素の一部を、それぞれ酸
素とアルミニウムで置換した化合物からなる層の厚みが
２５０Å以上であることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の磁気記録媒体。