JPH01248609A - 電解コンデンサ用アルミニウム材料の製造方法 - Google Patents
電解コンデンサ用アルミニウム材料の製造方法Info
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- JPH01248609A JPH01248609A JP7855488A JP7855488A JPH01248609A JP H01248609 A JPH01248609 A JP H01248609A JP 7855488 A JP7855488 A JP 7855488A JP 7855488 A JP7855488 A JP 7855488A JP H01248609 A JPH01248609 A JP H01248609A
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- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は電解コンデンサ用アルミニウム材料の製造方
法に関する。
法に関する。
従来の技術及び解決しようとする課題
アルミニウム電解コンデンサ用電極材として一般に用い
られるアルミニウム箔には、その実効面積を拡大して単
位面積当りの静電容量を増大するため、一般に電気化学
的あるいは化学的エツチング処理が施される。従来、こ
のエツチング性能の向上を目的として、エツチング処理
前に、圧延されたアルミニウム箔をアルゴン等の不活性
ガス雰囲気または真空中などの無酸化雰囲気中において
500〜600℃で2〜10時間高温加熱処理すること
が行われているが、満足すべきエツチング性能、静電容
量を得られなかった。
られるアルミニウム箔には、その実効面積を拡大して単
位面積当りの静電容量を増大するため、一般に電気化学
的あるいは化学的エツチング処理が施される。従来、こ
のエツチング性能の向上を目的として、エツチング処理
前に、圧延されたアルミニウム箔をアルゴン等の不活性
ガス雰囲気または真空中などの無酸化雰囲気中において
500〜600℃で2〜10時間高温加熱処理すること
が行われているが、満足すべきエツチング性能、静電容
量を得られなかった。
そこで、本出願人は、アルミニウム箔表面に一定厚さの
結晶化したγ−AΩ203皮膜を形成した電解コンデン
サ用アルミニウム材料を提案した(特公昭58−349
25号)。この材料によれば、エツチング後の箔の表面
積を拡大しえ、ひいては静電容量の増大が可能となるも
のであった。
結晶化したγ−AΩ203皮膜を形成した電解コンデン
サ用アルミニウム材料を提案した(特公昭58−349
25号)。この材料によれば、エツチング後の箔の表面
積を拡大しえ、ひいては静電容量の増大が可能となるも
のであった。
ところが、この材料によってもなお、所期するとおりの
充分な静電容量を得られない場合があることがその後の
研究により判明した。
充分な静電容量を得られない場合があることがその後の
研究により判明した。
この発明はかかる技術的背景に鑑みてなされたものであ
って、エツチング性能に優れ、ひいては高静電容量を確
実に得ることのできる電解コンデンサ用アルミニウム材
料の提供を目的とするものである。
って、エツチング性能に優れ、ひいては高静電容量を確
実に得ることのできる電解コンデンサ用アルミニウム材
料の提供を目的とするものである。
課題を解決するための手段
発明者は前述した結晶化したγ−AΩ203皮膜を形成
したアルミニウム箔において、所期する高静電容量を実
現できない原因について探求した結果、次のような知見
を得た。即ち、結晶化したγ−Aρ203皮膜を形成し
たアルミニウム箔をエツチングした場合、γ−AΩ20
3皮膜を形成しないアルミニウム箔に較べて拡面率を増
大しつるのは、γ−Aρ203皮膜に存在するγ−Al
2O3結晶の周囲がエツチング時に孔食の形で優先的に
侵食される結果、γ−AQ2 o33結晶分が核となっ
て多数のエツチングピットを高密度に形成しうるからで
あったが、エツチングによってγ−AI2203結晶以
外の部分も同時にエツチングされ、この部分でアルミニ
ウム箔の表面溶解が生じる場合があることがわかった。
したアルミニウム箔において、所期する高静電容量を実
現できない原因について探求した結果、次のような知見
を得た。即ち、結晶化したγ−Aρ203皮膜を形成し
たアルミニウム箔をエツチングした場合、γ−AΩ20
3皮膜を形成しないアルミニウム箔に較べて拡面率を増
大しつるのは、γ−Aρ203皮膜に存在するγ−Al
2O3結晶の周囲がエツチング時に孔食の形で優先的に
侵食される結果、γ−AQ2 o33結晶分が核となっ
て多数のエツチングピットを高密度に形成しうるからで
あったが、エツチングによってγ−AI2203結晶以
外の部分も同時にエツチングされ、この部分でアルミニ
ウム箔の表面溶解が生じる場合があることがわかった。
この場合、γ−Al2O3結晶部分においてエツチング
ピットの形成に費される電気量が減少し、その結果エツ
チングビットの数が減少しあるいは充分な深さが得られ
ないこととなり、所期する箔表面の拡面率を得られない
ことがわかった。
ピットの形成に費される電気量が減少し、その結果エツ
チングビットの数が減少しあるいは充分な深さが得られ
ないこととなり、所期する箔表面の拡面率を得られない
ことがわかった。
この発明に係る電解コンデンサ用アルミニウム材料の製
造方法は、上記知見に基いて更なる研究の結果完成され
たものであり、電気化学的または化学的エツチング処理
を施す前に、アルミニウム箔表面に結晶化したγ−AΩ
2 o3皮膜を形成したのち、陽極酸化処理を実施して
厚さ70〜7000人の陽極酸化皮膜を形成することを
特徴とするものである。また、さらに好ましい結果を得
るためには、陽極酸化処理後皮膜表面に観察されるγ−
Al2O3結晶の平均径が1μm以下であり、その数が
1 md当り3×10〜106個存在するものとなすの
が良く、あるいはまた陽極酸化処理を硼酸法により行う
のが良い。
造方法は、上記知見に基いて更なる研究の結果完成され
たものであり、電気化学的または化学的エツチング処理
を施す前に、アルミニウム箔表面に結晶化したγ−AΩ
2 o3皮膜を形成したのち、陽極酸化処理を実施して
厚さ70〜7000人の陽極酸化皮膜を形成することを
特徴とするものである。また、さらに好ましい結果を得
るためには、陽極酸化処理後皮膜表面に観察されるγ−
Al2O3結晶の平均径が1μm以下であり、その数が
1 md当り3×10〜106個存在するものとなすの
が良く、あるいはまた陽極酸化処理を硼酸法により行う
のが良い。
上記アルミニウム箔は、純度99.99%の高純度のも
のが好ましいが、これに限定されるものではなく、電解
コンデンサ用に使用される範囲内の純度のものであれば
良い。
のが好ましいが、これに限定されるものではなく、電解
コンデンサ用に使用される範囲内の純度のものであれば
良い。
結晶化したγ−Al2O3皮膜の形成方法としては、例
えば圧延されたアルミニウム箔を平均セルサイズが10
μm以下の状態で水和処理皮膜を形成し、その後酸素を
含む雰囲気中で450℃以上の高温加熱を行う方法を挙
げうる。
えば圧延されたアルミニウム箔を平均セルサイズが10
μm以下の状態で水和処理皮膜を形成し、その後酸素を
含む雰囲気中で450℃以上の高温加熱を行う方法を挙
げうる。
ただし、上記酸素を含む雰囲気中に水分が多量に含まれ
るとアルミニウム箔表面にフクレが発生するため、水分
を多量に含まないよう留意する必要がある。なお水和処
理皮膜の形成方法としては、例えば蒸気または湿った空
気をアルミニウム箔表面に吹付ける方法、加熱された水
またはアミン水溶液中にアルミニウム箔を浸漬するいわ
ゆるベーマイト処理方法、大気中において低温度で加熱
処理する方法等を挙げうる。
るとアルミニウム箔表面にフクレが発生するため、水分
を多量に含まないよう留意する必要がある。なお水和処
理皮膜の形成方法としては、例えば蒸気または湿った空
気をアルミニウム箔表面に吹付ける方法、加熱された水
またはアミン水溶液中にアルミニウム箔を浸漬するいわ
ゆるベーマイト処理方法、大気中において低温度で加熱
処理する方法等を挙げうる。
前記陽極酸化処理は、エツチング核となるべきγ−Al
2O3皮膜中のγ−AΩ203結晶及びその極く近傍以
外の部分に陽極酸化皮膜を被覆形成せしめて、電気化学
的あるいは化学的エツチング時の表面溶解を防止するた
めに実施するものである。即ち、γ−1!203皮膜形
成後アルミニウム箔を陽極酸化処理すると、陽極酸化皮
膜が成長形成されるが、γ−Aρ203結晶部分及びそ
の極く近傍では酸化皮膜の形成が抑制される現象が認め
られる。従ってγ−Aρ2 o3結晶及びその極く近傍
をエツチング核として確保しつつ他の部分を陽極酸化皮
膜で被覆することができる。而して、陽極酸化皮膜の厚
さが70人未満ではエツチング時にアルミニウム箔の表
面溶解を防止する効果に乏しい。
2O3皮膜中のγ−AΩ203結晶及びその極く近傍以
外の部分に陽極酸化皮膜を被覆形成せしめて、電気化学
的あるいは化学的エツチング時の表面溶解を防止するた
めに実施するものである。即ち、γ−1!203皮膜形
成後アルミニウム箔を陽極酸化処理すると、陽極酸化皮
膜が成長形成されるが、γ−Aρ203結晶部分及びそ
の極く近傍では酸化皮膜の形成が抑制される現象が認め
られる。従ってγ−Aρ2 o3結晶及びその極く近傍
をエツチング核として確保しつつ他の部分を陽極酸化皮
膜で被覆することができる。而して、陽極酸化皮膜の厚
さが70人未満ではエツチング時にアルミニウム箔の表
面溶解を防止する効果に乏しい。
逆に7000人を超えて厚くなると、γ−AQ2 o3
3結晶分にも及んで陽極酸化皮膜が形成され、エツチン
グピットの数が減少して静電容量の増大化を図れない。
3結晶分にも及んで陽極酸化皮膜が形成され、エツチン
グピットの数が減少して静電容量の増大化を図れない。
しかもコイル状アルミニウム箔を用いて連続生産する場
合、陽極酸化皮膜が厚すぎると可撓性が低下し、コイル
状に巻き取った時の応力でクラックが生じ、エツチング
時の表面溶解防止効果が低下してしまうという欠点も派
生する。従って陽極酸化処理によって形成する陽極酸化
皮膜の厚さは70〜7000人の範囲でなければならな
い。特に好ましくは200〜5000人の厚さとするの
が良い。
合、陽極酸化皮膜が厚すぎると可撓性が低下し、コイル
状に巻き取った時の応力でクラックが生じ、エツチング
時の表面溶解防止効果が低下してしまうという欠点も派
生する。従って陽極酸化処理によって形成する陽極酸化
皮膜の厚さは70〜7000人の範囲でなければならな
い。特に好ましくは200〜5000人の厚さとするの
が良い。
なお、陽極酸化皮膜の厚さは陽極酸化処理の条件例えば
処理時間等を変えることにより制御可能である。
処理時間等を変えることにより制御可能である。
上記陽極酸化処理の種類は特に限定されるものではなく
、通常一般に使用される処理方法を適宜使用可能である
が、最も好ましくは電解液として硼酸溶液あるいは硼酸
化合物の溶液を用いた硼酸法により行うのが良い。これ
は硼酸皮膜が耐酸性に優れエツチング液に侵食されにく
いこと、及び電解コンデンサへの適用に際して実施され
る化成処理として通常硼酸処理が用いられることから、
陽極酸化皮膜の被覆状態のまま化成処理を実施できるこ
となどによる。もとより他の種類の陽極酸化法、例えば
硫酸法等でも良いが、エツチング処理後皮膜の剥離工程
が必要となりコストアップとなる。
、通常一般に使用される処理方法を適宜使用可能である
が、最も好ましくは電解液として硼酸溶液あるいは硼酸
化合物の溶液を用いた硼酸法により行うのが良い。これ
は硼酸皮膜が耐酸性に優れエツチング液に侵食されにく
いこと、及び電解コンデンサへの適用に際して実施され
る化成処理として通常硼酸処理が用いられることから、
陽極酸化皮膜の被覆状態のまま化成処理を実施できるこ
となどによる。もとより他の種類の陽極酸化法、例えば
硫酸法等でも良いが、エツチング処理後皮膜の剥離工程
が必要となりコストアップとなる。
陽極酸化処理後においては、アルミニウム材料表面に、
多数のエツチング核形成用のγ−Al2O3結晶が露出
した状態になる。ここで、この露出状態のγ−AΩ2
o3結晶の平均径は1μm以下であるのが良い。1μm
を超えるとエツチングピットが大きくなったり、局部的
な表面溶解を生じる虞れがある。最も好ましくは、0.
2〜0.6μmの大きさが良い。そしてまた、表面に露
出状態に観察されるγ−AΩ2゜3結晶の数(密度)は
1mm2当り3×104〜10 個であるのが望ましい
。3×104個/llll11未満ではエツチングピッ
トの数が減少し高静電容量を得られない虞れがあるから
であり、逆に106個/−を超えると隣接エツチングピ
ットどうしが連通し、結果的に充分な拡面率が得られな
い虞れがあるからである。表面に観察されるγ−Afi
2 o3結晶の大きさや密度は陽極酸化皮膜の膜厚やγ
−Aρ203皮膜形成のための処理条件(例えば加熱条
件、雰囲気条件等)の選択により変化させうる。
多数のエツチング核形成用のγ−Al2O3結晶が露出
した状態になる。ここで、この露出状態のγ−AΩ2
o3結晶の平均径は1μm以下であるのが良い。1μm
を超えるとエツチングピットが大きくなったり、局部的
な表面溶解を生じる虞れがある。最も好ましくは、0.
2〜0.6μmの大きさが良い。そしてまた、表面に露
出状態に観察されるγ−AΩ2゜3結晶の数(密度)は
1mm2当り3×104〜10 個であるのが望ましい
。3×104個/llll11未満ではエツチングピッ
トの数が減少し高静電容量を得られない虞れがあるから
であり、逆に106個/−を超えると隣接エツチングピ
ットどうしが連通し、結果的に充分な拡面率が得られな
い虞れがあるからである。表面に観察されるγ−Afi
2 o3結晶の大きさや密度は陽極酸化皮膜の膜厚やγ
−Aρ203皮膜形成のための処理条件(例えば加熱条
件、雰囲気条件等)の選択により変化させうる。
発明の効果
この発明は上述の次第で、電気化学的または化学的エツ
チング処理を施す前に、アルミニウム箔表面に結晶化し
たγ−AΩ203皮膜を形成したのち、陽極酸化処理を
実施して厚さ70〜7000人の陽極酸化皮膜を形成す
ることを特徴とするものである。従って、本発明によっ
て製作された電解コンデンサ用アルミニウム材料をエツ
チングした場合、表面に露出したγ−AQ2 o33結
晶分のみをエツチング核としてエツチングピットを形成
しうるとともに、他の陽極酸化皮膜被覆部分におけるア
ルミニウム箔の表面溶解を防止しえて多数の深いエツチ
ングピットを確実に形成でき、高静電容量を実現しうる
ちのとなる。また、陽極酸化処理後表面に観察されるγ
−Afi2 o3結晶の平均径が1μm以下であり、か
つその数が1ml1i当り3×104〜10B個である
ものに製作することにより、−層大きな静電容量を実現
するアルミニウム材料の提供が可能となる。さらには、
陽極酸化処理を硼酸法によるものとすることで、エツチ
ング時にアルミニウム箔のエツチングピット以外の表面
溶解をより確実に防止できるアルミニウム材料の提供が
可能となる。
チング処理を施す前に、アルミニウム箔表面に結晶化し
たγ−AΩ203皮膜を形成したのち、陽極酸化処理を
実施して厚さ70〜7000人の陽極酸化皮膜を形成す
ることを特徴とするものである。従って、本発明によっ
て製作された電解コンデンサ用アルミニウム材料をエツ
チングした場合、表面に露出したγ−AQ2 o33結
晶分のみをエツチング核としてエツチングピットを形成
しうるとともに、他の陽極酸化皮膜被覆部分におけるア
ルミニウム箔の表面溶解を防止しえて多数の深いエツチ
ングピットを確実に形成でき、高静電容量を実現しうる
ちのとなる。また、陽極酸化処理後表面に観察されるγ
−Afi2 o3結晶の平均径が1μm以下であり、か
つその数が1ml1i当り3×104〜10B個である
ものに製作することにより、−層大きな静電容量を実現
するアルミニウム材料の提供が可能となる。さらには、
陽極酸化処理を硼酸法によるものとすることで、エツチ
ング時にアルミニウム箔のエツチングピット以外の表面
溶解をより確実に防止できるアルミニウム材料の提供が
可能となる。
実施例
純度99.9%、厚さ100μm1平均セルサイズ5μ
mの複数枚の帯状アルミニウム箔を大気中雰囲気で18
0℃×6時間加熱することにより箔表面に水和処理皮膜
を形成したのち、さらに10%02を含むArガス雰囲
気中で550℃×1時間加熱して水和処理皮膜を結晶化
したγ−Al2O3皮膜に変化させた。
mの複数枚の帯状アルミニウム箔を大気中雰囲気で18
0℃×6時間加熱することにより箔表面に水和処理皮膜
を形成したのち、さらに10%02を含むArガス雰囲
気中で550℃×1時間加熱して水和処理皮膜を結晶化
したγ−Al2O3皮膜に変化させた。
次に上記各アルミニウム箔に、陽極酸化処理を実施しく
試料No2〜7)、あるいは実施することなく(試料N
o 1 ) 、各種アルミニウム材料を得た。ここで
、陽極酸化処理は、陽極酸化皮膜の厚さが3000人に
達するまでは電解液として3%硼酸アンモニウム(液温
80℃)を用い、3000人を超えたのちは電解液とし
て5%硼酸(液温80’C)を用いて行い、また処理時
間を各種に変えて皮膜厚さを下記第1表のように変化さ
せた。
試料No2〜7)、あるいは実施することなく(試料N
o 1 ) 、各種アルミニウム材料を得た。ここで
、陽極酸化処理は、陽極酸化皮膜の厚さが3000人に
達するまでは電解液として3%硼酸アンモニウム(液温
80℃)を用い、3000人を超えたのちは電解液とし
て5%硼酸(液温80’C)を用いて行い、また処理時
間を各種に変えて皮膜厚さを下記第1表のように変化さ
せた。
そして、陽極酸化処理後各アルミニウム材料につき、表
面に観察されるγ−Al2O3結晶の平均径及びその密
度を調査したところ第1表のとおりであった。
面に観察されるγ−Al2O3結晶の平均径及びその密
度を調査したところ第1表のとおりであった。
次に各アルミニウム材料を、5%塩酸溶液(75℃)中
で電流密度を直流10A/dr!tとし、7分間電解エ
ツチング処理した。そしてその後硼酸浴中で380Vに
化成処理したのち、各材料の静電容量を測定した。また
、各材料の可撓性の良否も調査した。それらの結果を併
せて下記第1表に示す。なお、容量値は試料N。
で電流密度を直流10A/dr!tとし、7分間電解エ
ツチング処理した。そしてその後硼酸浴中で380Vに
化成処理したのち、各材料の静電容量を測定した。また
、各材料の可撓性の良否も調査した。それらの結果を併
せて下記第1表に示す。なお、容量値は試料N。
1を100%として相対比較にて示し、可撓性は、各材
料を曲率半径50mmの管に巻いたときの陽極酸化皮膜
のクラックの状態を調べた。
料を曲率半径50mmの管に巻いたときの陽極酸化皮膜
のクラックの状態を調べた。
[以下余白]
[実施例2]
実施例1と同じ3枚のアルミニウム箔を大気雰囲気中で
180℃×6時間加熱することにより、箔表面に水和処
理皮膜を形成したのち、Arガス中の02濃度、加熱条
件を下記第2表のように設定して加熱し、箔表面に結晶
化したγ−Aυ203皮膜を形成した。次に実施例1と
同じ条件で、硼酸法による陽極酸化処理を実施した。た
だし陽極酸化皮膜の厚さはいずれも2800人とした。
180℃×6時間加熱することにより、箔表面に水和処
理皮膜を形成したのち、Arガス中の02濃度、加熱条
件を下記第2表のように設定して加熱し、箔表面に結晶
化したγ−Aυ203皮膜を形成した。次に実施例1と
同じ条件で、硼酸法による陽極酸化処理を実施した。た
だし陽極酸化皮膜の厚さはいずれも2800人とした。
そして得られたアルミニウム材料につき、表面に観察さ
れるγ−AΩ2 o3結晶の平均径及びその密度を調査
したところ、下記第2表のとおりであった。
れるγ−AΩ2 o3結晶の平均径及びその密度を調査
したところ、下記第2表のとおりであった。
次に各アルミニウム材料を実施例と同一の条件にてエツ
チング処理、化成処理を順次的に実施したのち、各材料
の静電容量を測定した。容量値は同じ〈実施例1の試料
Nolを100%として比較した。
チング処理、化成処理を順次的に実施したのち、各材料
の静電容量を測定した。容量値は同じ〈実施例1の試料
Nolを100%として比較した。
上記第1表、第2表の結果から明らかなように、この発
明によって製作した電解コンデンサ用アルミニウム材料
は静電容量が大きいものであることを確認しえた。
明によって製作した電解コンデンサ用アルミニウム材料
は静電容量が大きいものであることを確認しえた。
以上
Claims (3)
- (1)電気化学的または化学的エッチング処理を施す前
に、アルミニウム箔表面に結晶化したγ−Al_2O_
3皮膜を形成したのち、陽極酸化処理を実施して厚さ7
0〜7000Åの陽極酸化皮膜を形成することを特徴と
する電解コンデンサ用アルミニウム材料の製造方法。 - (2)陽極酸化処理後、皮膜表面に観察されるγ−Al
_2O_3結晶の平均径が1μm以下であり、かつその
数が1mm^2当り3×10^4〜10^6個である請
求項1記載の電解コンデンサ用アルミニウム材料の製造
方法。 - (3)陽極酸化処理を硼酸法により行う請求項1または
2記載の電解コンデンサ用アルミニウム材料の製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7855488A JP2635357B2 (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 電解コンデンサ用アルミニウム材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7855488A JP2635357B2 (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 電解コンデンサ用アルミニウム材料の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01248609A true JPH01248609A (ja) | 1989-10-04 |
JP2635357B2 JP2635357B2 (ja) | 1997-07-30 |
Family
ID=13665136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7855488A Expired - Lifetime JP2635357B2 (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 電解コンデンサ用アルミニウム材料の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2635357B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0462819A (ja) * | 1990-06-25 | 1992-02-27 | Showa Alum Corp | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔 |
JP2006274375A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Toyo Aluminium Kk | エッチング用アルミニウム箔及び電解コンデンサ用アルミニウム電極箔 |
CN110220815A (zh) * | 2019-07-18 | 2019-09-10 | 东莞东阳光科研发有限公司 | 一种化成箔氧化膜中无定型氧化铝含量的分析方法 |
-
1988
- 1988-03-30 JP JP7855488A patent/JP2635357B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0462819A (ja) * | 1990-06-25 | 1992-02-27 | Showa Alum Corp | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔 |
JP2578521B2 (ja) * | 1990-06-25 | 1997-02-05 | 昭和アルミニウム株式会社 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔 |
JP2006274375A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Toyo Aluminium Kk | エッチング用アルミニウム箔及び電解コンデンサ用アルミニウム電極箔 |
CN110220815A (zh) * | 2019-07-18 | 2019-09-10 | 东莞东阳光科研发有限公司 | 一种化成箔氧化膜中无定型氧化铝含量的分析方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2635357B2 (ja) | 1997-07-30 |
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