JPH01245096A - イミノニ酢酸誘導体を含有する硬質表面クリーニング組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、有機溶媒とイミノニ酢酸に由来する狭く定義
された有機キレート化剤との２成分系混合物を含有する
硬質表面クリーニング組成物に関する。

発明の背景 有機溶媒およびキレート化剤を含有する硬質表面クリー
ニング組成物を処方することは周知である。

欧州特許出願箱０　０４０　８８２号明細書、第０　０
８０　７４９号明細書、第 ０　１２６　５４５号明細書は、テルペンとベンジルア
ルコールまたはブチルカルピトールとの混合物によって
表わされる溶媒を、主としてポリホスフェートまたはＮ
ＴＡなどの窒素含有強金属イオン封鎖剤であるビルダー
と併用することを記載している。

欧州特許出願箱０　１０５　８６３号明細書および米国
特許箱３，５９１，５１０号明細書は、成るグリコール
エーテル誘導体を液体クレンザ−中で溶媒としてポリホ
スフェートビルグーと併用することを記載している。

上記溶媒／ビルダー組み合わせは、非常に有効であるこ
とが証明されている。しかしながら、近年、ホスフェー
トは、環境上の理由で監視されている。

イミノニ酢酸誘導体は、金属イオン封鎖性を有すること
が既知であり、且つこの種の数種の化合物はこの目的で
合成され且つ研究されている。

化合物Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ、　Ｎ−二酢酸お
よびＮ〜ジエチレングリコール−Ｎ、　Ｎ−二酢酸およ
びＮ（１−ヒドロキシプロピル）イミノＮ、　Ｎ−二酢
酸は、特開昭５９−７０６５２号公報に開示されている
。

他のイミノニ酢酸誘導体、例えば、Ｎ（２−ヒドロキシ
プロピル）イミノＮ、　Ｎ−二酢酸、およびジヒドロキ
シプロピルイミノ（Ｎ、Ｎ−二酢酸）は、ＤＥ−ＯＳ第
２３　１４　４４９号明細書およびＤＥ−Ｏ８第２５　
４２　７０８号明細書に開示されている。

しかしながら、本発明に係る有機溶媒との組み合わせで
の本明細書に記載のキレート化剤の開示がない。

驚異的なことに、本発明のキレート化剤と成る有機溶媒
との組み合わせは、硬質表面からの汚れ除去に関して非
常に良好な結果を与えることが今や発見された。

それゆえ、本発明の目的は、イミノニ酢酸に由来するキ
レート化剤と好適な有機溶媒との組み合わせを含有する
効率良い硬質表面クリーニング組成物を提供することに
ある。

発明の概要 本発明は、９０℃よりも高い沸点を有する有機溶媒とイ
ミノニ酢酸に由来する特定のキレート化剤、例えば、以
下に詳述のものを含有する硬質表面クリーニング組成物
に関する。

発明の詳細な説明 キレート化剤 本発明のキレート化剤は、下記式を有する＝（式中、Ｒ
は−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ；−ＣＨ２Ｃｌ　（ＯＨ）
ＣＨ３； −ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２０Ｈ； −ＣＨ（ＣＨＯＨ）　　；−ＣＨ３； −ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ３ニ −ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３； −Ｃ（ＣＨ２０Ｈ）３ の群から選ばれ、Ｍは水素吉たはアルカリ土属イオンで
ある）。

本発明のキレート化剤の化学名は、Ｎ（３−ヒドロキシ
プロピル）イミノＮ、　Ｎ−二酢酸（３−ＨＰ　ＩＤＡ
）　、Ｎ　（２−ヒドロキシプロピル）イミノＮ、Ｎ−
二酢酸（２−ＨＰ　ＩＤＡ）　、Ｎ−グリセリルイミノ
Ｎ、　Ｎ−二酢酸（ＧＬＩＤＡ）、ジヒドロキシイソプ
ロピルイミノ（Ｎ、Ｎ）二酢酸（ＤＨＰ　ＩＤＡ）　、
メチルイミノ（Ｎ、　Ｎ）二酢酸（ＭＩＤＡ）、２−メ
トキシエチルイミノ（Ｎ、Ｎ）二酢酸（ＭＥ　ＩＤＡ）
　、アミドイミノ二酢酸（アミドニトリロ三酢酸ナトリ
ウム、５ＡＮＤとしても既知）、アセトアミドイミノニ
酢酸（ＡＩＤＡ）、３−メトキシプロピルイミノＮ、　
Ｎ−二酢酸（ＭＥＰ　ＩＤＡ）　、トリス（ヒドロキシ
メチル）メチルイミノＮ、Ｎ−二酢酸（ＴＲＩＤＡ）で
ある。

本発明のイミノニ酢酸誘導体の製法は、下記刊行物に開
示されている： （１）３−ＨＰ　Ｉ　ＤＡに関しては特開昭５９−７０
６５２号公報； （２）２−ＨＰＩＤＡおよびＤＨＰＩＤＡに関してはＤ
Ｅ−ＯＳ第２５　４２　７０８号明細書；（３）ＧＬ　
ＩＤＡに関してはＣｈｅｍ。

ＺＵＥＳＴＩ３４　（１）ｐ、９３−１０３（１９８０
）、マイヤー、リエンカンスカ等、１９７９年３月２６
日発行； （４）ＭＩＤＡに関してはＣ，Ａ、　　１０４　（６）
４５０６２ｄ　。

（５）ＡＩＤＡに関してはバイオケミストリー５゜ｐ、
４６７　（１９６６）。

本発明のキレート化剤は、全組成物の１％〜２０％、好
ましくは２％〜１０％の量で存在する。

有機溶媒 上記キレート化剤と併用するのに好適な有機溶媒は、溶
媒−キレート化剤組み合わせに由来する予想外の汚れ放
出上の利益を与えるために、沸点９０℃以上を有してい
なければならないことが見出された。

例゛えば、イソプロパツール（ｂｐ８２℃）などのＣ１
〜Ｃ３脂肪族アルコールは、本発明で使用するのに好適
ではない。

本文脈で有効である有機溶媒の代表は、０６〜Ｃアルキ
ル芳香族溶媒、特に０６〜Ｃ９アルキルベンゼン、１−
デセン、１−ドデセンなどのα−オレフィン、ベンジル
アルコール、ｎ−へキサノール、フタル酸エステルであ
る。

本組成物で特に好適な種類の溶媒は、分子構造中に６〜
１６個、好ましくは８〜１２個の炭素原子を有するジオ
ールからなる。好ましいジオール溶媒は、２０℃の水１
００ｇ当たり約０．１〜約２０ｇの水中溶解度を有する
。最も好ましいジオール溶媒は、２．２．４−トリメチ
ル−１，３−ベンタンジオール、および２−エチル−１
，３−ヘキサンジオールである。

グリコールエーテルは、別の種類の特に好ましい溶媒で
ある。

このカテゴリーには、水溶性カルピトール（ＣＡＲＤＩ
ＴＯＬ■）溶媒または水溶性セロソルブ（ＣＥＬＬＯ８
ＯＬＶＥ■）溶媒があ互。水溶性カルピトール■溶媒は
、アルコキシ基がエチル、プロピル、ブチル、ペンチル
、ヘキシルに由来する２−（２−アルコキシエトキシ）
エタノールの種類の化合物である。好ましい水溶性カル
ピトールは、ブチルカルピトールとしても既知の２−（
２−ブトキシエトキシ）エタノールである。ヘキシルカ
ルピトールおよび２−メチルペンチルカルピトールも、
好ましい。水溶性セロソルブ■溶媒は、アルコキシ基が
好ましくはブチルまたはヘキシルである２−アルコキシ
エトキシエタノールの種類の化合物である。

なおグリコールエーテルのカテゴリーにおいて、成るプ
ロピレングリコール誘導体は、本文脈で特に効率良いこ
とが見出された。これらのものとしては、１−ｎ−ブト
キシプロパン−２−オール、および１（２−ｎ−ブトキ
シ−１−メチルエトキシ）プロパン−２−オール（ブト
キシブロボキシプロバノール）が挙げられる。後者が特
に好ましい。

上記溶媒の混合物、例えば、ジオールおよび／またはグ
リコールエーテルと一緒のブチルカルピトールおよび／
またはベンジルアルコールも、使用できる。

有機溶媒は、全組成物の１〜２０重量％、好ましくは１
〜１０重量％の量で存在する。

キレート化剤／溶媒組み合わせ 本組成物の利益は、上記の特定のキレート化剤と有機溶
媒との組み合わせに由来する。

それらは、バスタブ表面などの表面からのカルシウム石
鹸汚れ除去に関して特に注目すべきである。

このような効果を得るためには、有機溶媒対キレート化
剤の重量比は、２／３から２７１、好ましくは１／１か
ら２／１の範囲内である。

任意成分 上記の必須のキレート化剤／溶媒２成分系混合物に加え
て、本発明の組成物は、しばしば高度に望ましい追加成
分を含有できる。

本組成物は、通常、界面活性剤を含有するであろう。

本発明で有用な水溶性洗剤界面活性剤としては、周知の
合成陰イオン界面活性剤、合成非イオン界面活性剤、合
成陽イオン界面活性剤、合成両性界面活性剤、合成双性
界面活性剤およびそれらの混合物が挙げられる。洗浄技
術上周知のアルキルベンゼンサルフェートおよびスルホ
ネート、パラフィンスルホネート、オレフィンスルホネ
ート、アルコキシ化（特にエトキシ化）アルコールおよ
びアルキルフェノール、アミンオキシド、脂肪酸のスル
ホネート、脂肪酸エステルのスルホネートなどが、これ
らを代表している。一般に、このような洗剤界面活性剤
は、Ｃ１ｏ−０１８範囲内のアルキル基を含有する。陰
イオン洗剤界面活性剤は、ナトリウム塩、カリウム塩ま
たはトリエタノールアンモニウム塩の形態で最も常用さ
れる。非イオン界面活性剤は、一般に、疎水部分１モル
当たり３〜１７個のエチレンオキシド基を含有する。陽
イオン界面活性剤は、一般に、シタロージメチルアンモ
ニウムクロリドなどの第四級アンモニウム化合物によっ
て表わされるであろうし、好ましくは非イオン界面活性
剤と併用されるであろう。

Ｃ１２〜Ｃ１Ｂアルキルベンゼンスルホネート、０１２
〜０１８パラフインスルホネートおよび式ＲＯ（ＣＨＣ
Ｍ　　Ｏ）　　　（式中、Ｒは０１２〜２ｎ Ｃ１５アルキル鎖であり、ｎは６〜１０の数である）の
エトキシ化アルコール、および式 ＲＯ−（ＣＨＣＩ　　Ｏ）　　−３ｏ３Ｍ　（式中、２
ｎ ＲはＣＩ２〜Ｃ１８アルキル鎖であり、ｎは２〜８の数
であり、ＭはＨまたはアルカリ金属イオンである）のエ
トキシ化アルコールサルフェートが、本発明の組成物で
特に好ましい。

陰イオン界面活性剤は、しばしば組成物の０．３％〜８
％の量で存在する。非イオン界面活性剤は、組成物の０
．１〜６重量％の量で使用される。このような界面活性
剤の混合物も、使用できる。

他の任意成分は、本発明のキレート化剤に加えて使用し
てもよい通常の洗浄性ビルダーによって表わされる。洗
浄性ビルダーと分類できかつ技術上周知である化合物と
しては、ニトリロトリアセテート（ＮＴＡ）　、ポリカ
ルボキシレート、サイトレート、水溶性ホスフェート、
例えば、トリポリホスフェートおよびオルトリン酸ナト
リウムおよびピロリン酸ナトリウム、シリケート、エチ
レンジアミンテトラアセテート（ＥＤＴＡ）　、アミノ
ポリホスホネート（ＤＥＱＵＥＳＴ）　、ホスフェート
およびそれらの混合物が挙げられる。

本発明で使用するのに高度に望ましい成分は、通常の洗
剤ヒドロトロープによって表わされる。

好適なヒドロトロープの例は、尿素、モノエタノールア
ミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、お
よびキシレンスルホン酸、トルエンスルホン酸、エチル
ベンゼンスルホン酸およびイソプロピルベンゼンスルホ
ン酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩およ
びアルカノールアンモニウム塩である。

また、本発明の硬質表面クリーニング組成物は、研磨剤
物質を含有していてもよい。

本発明で好適な研磨剤は、それらの比較的温和な研磨性
が文献で周知の水不溶性非粗粒物質から選ばれる。本発
明で使用する研磨剤は、望ましくない程「引掻性」では
ないことが高度に好ましい。

モース硬さ約７以下を有する研磨剤物質が、典型的には
使用される。モース硬さ３以下を有する研磨剤は、アル
ミニウムまたはステンレス鋼仕上げ上の引掻を回避する
ために使用できる。本発明で好適な研磨剤としては、無
機物質、特に炭酸カルシウム、ケイソウ土などの物質、
並びにフラー土、炭酸マグネシウム、チャイナクレー、
アタパルジャイト、カルシウムヒドロキシアパタイト、
オルトリン酸カルシウム、ドロマイトなどの物質が挙げ
られる。上記無機物質は、「強研磨剤」と定性化できる
。尿素−ホルムアルデヒド、メタクリル酸メチル、メラ
ミン−ホルムアルデヒド樹脂、ポリエチレン球、ポリ塩
化ビニルなどの有機研磨剤は、成る表面、特にプラスチ
ック表面上の引掻を回避するために有利に使用できる。

典型的には、研磨剤は、粒径範囲１０〜１０００μを有
し、組成物中で５％〜３０％の濃度で使用される。増粘
剤は、しばしば研磨剤を懸濁するために添加される。

増粘剤は、主として研磨剤を懸濁するために、本発明の
組成物に好ましくは配合されるであろう。

多量の増粘剤は、浄化表面からすすぐことが困難である
ので、性能に有害である。従って、量は、２％未満、好
ましくは０．２％〜１．５％に保たれるであろう。ポリ
アクリレート、キサンタンゴム、カルボキシメチルセル
ロース、膨潤性スメクタイト粘土などの通常の増粘剤が
、本発明で使用できる。

石鹸は、本組成物に配合できる。やし油脂肪酸から生成
される石鹸が、好ましい。

また、任意成分は、美観上の利益または追加の製品性能
上の利益を与えるために商品に典型的には使用されてい
る成分によって表わされる。典型的成分としては、香料
、染料、光学増白剤、汚れ沈殿防止剤、洗剤酵素、ゲル
制御剤、増粘剤、凍解安定剤、殺細菌剤、防腐剤などが
挙げられる。

組成物の好ましい処方 本発明の硬質表面クリーニング組成物は、有利には、必
須成分として界面活性剤および本発明に係る溶媒／キレ
ート他剤２成分系混合物を含有する濃厚物を含めて水性
液体組成物の形態で処方するであろう。

標準希釈度の液体処方物は、通常、界面活性剤２〜６％
および溶媒／キレート他剤２成分系混合物８〜１２％を
含有する。

濃厚液体処方物は、通常、界面活性剤６〜１０％および
溶媒／キレート他剤２成分系混合物１６〜２４％を含有
する。

或いは、本組成物は、研磨剤物質、界面活性剤および本
発明の溶媒／キレート他剤２成分系混合物を含有するク
リーム状磨きクレンザ−の形態であろう。

両方の処方物において、このような組成物のｐＨは、中
性またはアルカリ性範囲内、一般に、ｐＨ５〜１１の範
囲内であろう。

下記例は、本組成物を例示するつもりで与えられ、本発
明の範囲を限定することを意図しない。

下記硬質表面クリーニング組成物を調製する：略称 Ｎ　ａ　Ｐ　Ｓ　：　Ｃ１３〜Ｃ１Ｂパラフインスルホ
ン酸ナトリウム ＬＡＳ　：線状Ｃ１１−Ｃ８アルキルベンゼンスルホン
酸のナトリウム塩 ルチンゾル（Ｌｕｔｅｎｓｏｌ■）ＡＯ−Ｃ−Ｃ７°　
１２　　１４ 脂肪アルコール１モルとエチレンオキシド７モルとの縮
合物 、　　■ ルチンゾル　Ａ　Ｏ３：　ＣＩ　２〜Ｃ１４脂肪アルコ
一ル１モルとエチレンオキシド３モルとの縮合物ネオド
ール（Ｎｅｏｄｏｌ）　２５　Ｅ　３　Ｓ　：　Ｃ１２
〜Ｃ１５脂肪アルコ一ル１モルとエチレンオキシド３モ
ルとの硫酸化縮合物 ＨＣｎＦＡ：ナローカット硬化ココナツツ脂肪酸 ＥＴＨＤ　：　２−エチル−１，３−ヘキサンジオール ＢＰＰ　：ブトキシブ口ボキシブ口パノールー１（２−
ｎ−ブトキシ−１−メチルエトキシ）プロパン−２−オ
ール ＮａＣ５：クメンスルホン酸ナトリウムソコラン（５ｏ
ｋｏ　ｌ　ａｎ■）ＰＨＣ２５：架橋ポリアクリレート
増粘剤 にＬＩＤＡ：Ｎ−グリセリルイミノＮ、Ｎ−二酢酸 ３−ＨＰ　ＩＤＡ　：　Ｎ　（１−ヒドロキシプロピル
）イミノＮ、　Ｎ−二酢酸 ２−ＨＰ　ＩＤＡ　：　Ｎ　（２−ヒドロキシプロピル
）イミノＮ、　Ｎ−二酢酸 ＤＨＰ　ＩＤＡ　ニジヒドロキシプロビルイミノ（Ｎ、
　Ｎ）二酢酸 ５ＡＮＤニアミドニトリロ三酢酸ナトリウムＡ　Ｉ　Ｄ
Ａ　：アセトアミドイミノニ酢酸ＭＥ　Ｉ　ＤＡ　：　
２−メトキシエチルイミノ　（Ｎ。

Ｎ）二酢酸 ＭＩＤＡ：Ｎ−メチル（Ｎ、Ｎ）二酢酸ＴＲＩＤＡ：）
リス（ヒドロキシメチル）メチルイミノＮ、　Ｎ−二酢
酸 ★ＴＲＩＤＡ、）リス（ヒドロキシメチル）メチルイミ
ノＮ、　Ｎ−二酢酸は、下記式によって生成される： ２ＣＩＣＩＩ２ＣＯＯＮａ　＋　Ｈ２ＮＣ（ＣＨ２０Ｈ
）３＋　Ｎａ２ＣＯ３２ＮａＣＩ　＋　Ｃｏ２＋　Ｈ２
Ｏ＋（）１０ＣＨ２）３ＣＮ（Ｃ１（２α）ＯＮａ）２
方法は、次の通りである： ２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパン
ジオール（ＴＲＩＳ）０．８６Ｍおよびクロロ酢酸ナト
リウム１．７Ｍのスラリーを還流冷却器を備えたＩＩｌ
のコニカルフラスコ中の水５００　ｍｌ中で調製する。

炭酸ナトリウム０．８６Ｍを注意深く加え、４時間５０
℃に加熱し、次いで、６時間９５℃に加熱する。冷却後
、溶液を酸性化して減圧下で乾燥した。

得られた固体を熱エタノールで抽出し、再度蒸発乾固す
る。固体を水中でスラリー化し、ｐＨを水酸化ナトリウ
ムで１１に調節する。再ケン化を６０℃で１時間実施し
た後、蒸発乾固する。

本発明に係る下記クリーム状磨き組成物も、調製する： 例Ｘ■　　例Ｘ・■ ＬＡＳ　　　　　　　　　　　　−４，０ＮａＰＳ　　
　　　　　　　　’４．０　　　−ルチンゾルＡ０７ ＨＣｎＦＡ　　　　　　　　　　　２，０　　　１．５
ベンジルアルコール　　　　１．〇　　　−ＢＰＰ　　
　　　　　　　　　　３，０　　４．０ＧＬＩＤＡ　　
　　　　　　　　３．０　　　−１−ＨＰＩＤＡ　　　
　　　　　　−−Ｎａ２ＣＯ３３，０３，Ｏ Ｃａ　ＣＯ３３０、０＝ ポリ塩化ビニル　　　　　　　−１０，。

例Ｉ−Ｘｎに従って調製された組成物は、硬質表面から
の台所および浴室汚れ除去、特にバスタブ表面からのカ
ルシウム石鹸汚れ除去に関して非常に良好な性能を示す
。

溶媒としてイソプロパツールを含有しかつビルダーとし
てＧＬＩＤＡを含有する組成物は、汚れ除去性に関して
効率がより低いことが見出され、かくの如く本発明で有
用な溶媒を選ぶのに使用する沸点パラメーターの臨界性
を示す。

出願人代理人　　佐　　藤　　−雄 １　事件の表示 昭和６３年　特許願　第２８７５０５号２　発明の名称 イミノニ酢酸誘導体を含有する硬質表面クリーニング組
成物 ３　補正をする者 事件との関係　　特許出願人 ザ、ブロクター、エンド、ギャンブル、カンパニー ４代理人 Ｓ、補正の内容 （１）　　特５′「請求の範囲を別紙の通りに補正する
。

（２）　　明細書第６頁第２行に「９０℃よりも高い」
とあるを、「９０℃以上の」に補正する。

（３）　　Ｑ７７頁第７に「ジヒドロキシイソプロビル
イミノ」とあるを「ジヒドロキシプロピルイミノ」に補
正する。

（４）　　第１９頁第１８行に「Ｎ−メチル（Ｎ、Ｎ）
」とあるを［Ｎ−メチルイミノ（Ｎ、Ｎ）Ｊに補正する
。

特許請求の範囲 １、　９０℃以上の沸点を有する有機溶媒および式： （式中、Ｒは−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ；−ＣＨ２ＣＨ
（ＯＨ）ＣＨ３； −ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２０Ｈ； −ＣＨ（ＣＨＯＨ）　　；−ＣＨ３： −ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ３； −ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ３； −Ｃ（ＣＨ２０Ｈ）　３ の群から選ばれ、Ｍは水素またはアルカリ金属イオンで
ある） のキレート化剤を含有することを特徴とする硬質表面ク
リーニング組成物。

２、　有機溶媒が全組成物の１９６〜２０％の量で存在
し、キレート化剤が全組成物の１％〜２０％の量で（ｊ
在する、請求項１に記載の組成物。

３、　有機溶媒対キレート化剤の重量比が、２／３から
２／１、好ましくは１／１から２／１である、請求項２
に記載の組成物。

４、　有機溶媒が、ベンジルアルコール、グリコールエ
ーテル、および分子構造中に６〜１６個の炭素原子を有
するジオールの群から選ばれる、請求項１に記載の組成
物。

５．６機溶媒が、ブトキシプロパノール、ブトキシブロ
ポキシプロバノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エ
タノール、ベンジルアルコール、２．２．４−）リフチ
ル−１，３−ベンタンジオールの群から選ばれる、請求
項４に記載の組成物。

６゜　６機溶媒が、ブトキシブロボキシプロバノールで
ある、請求項５に記載の組成物。

７、　　キレート化剤が、Ｎ−グリセリルイミノＮ、　
　Ｎ−二酢酸である、請求項１に記載の組成物。

８、　更に研磨剤を含有する、請求項１に記載の組成物
。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、９０℃よりも高い沸点を有する有機溶媒および式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは−ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯＨ；−ＣＨ
   ＿２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ＿３； −ＣＨ＿２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ＿２ＯＨ； −ＣＨ（ＣＨ＿２ＯＨ）＿２；−ＣＨ＿３；−ＣＨ＿２
   ＣＨ＿２ＯＣＨ＿３； ▲数式、化学式、表等があります▼；▲数式、化学式、
   表等があります▼； −ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯＣＨ＿３； −Ｃ（ＣＨ＿２ＯＨ）＿３ の群から選ばれ、Ｍは水素またはアルカリ金属イオンで
   ある） のキレート化剤を含有することを特徴とする硬質表面ク
   リーニング組成物。 ２、有機溶媒が全組成物の１％〜２０％の量で存在し、
   キレート化剤が全組成物の１％〜２０％の量で存在する
   、請求項１に記載の組成物。 ３、有機溶媒対キレート化剤の重量比が、 ２／３から２／１、好ましくは１／１から２／１である
   、請求項２に記載の組成物。 ４、有機溶媒が、ベンジルアルコール、グリコールエー
   テル、および分子構造中に６〜１６個の炭素原子を有す
   るジオールの群から選ばれる、請求項１に記載の組成物
   。 ５、有機溶媒が、ブトキシプロパノール、ブトキシプロ
   ポキシプロパノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エ
   タノール、ベンジルアルコール、２，２，４−トリメチ
   ル−１，３−ペンタンジオールの群から選ばれる、請求
   項４に記載の組成物。 ６、有機溶媒が、ブトキシプロポキシプロパノールであ
   る、請求項５に記載の組成物。 ７、キレート化剤が、Ｎ−グリセリルイミノＮ，Ｎ−二
   酢酸である、請求項１に記載の組成物。 ８、更に研磨剤を含有する、請求項１に記載の組成物。