JPH01244254A - 極低温冷凍装置の補助寒冷源制御方法 - Google Patents
極低温冷凍装置の補助寒冷源制御方法Info
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- JPH01244254A JPH01244254A JP6957388A JP6957388A JPH01244254A JP H01244254 A JPH01244254 A JP H01244254A JP 6957388 A JP6957388 A JP 6957388A JP 6957388 A JP6957388 A JP 6957388A JP H01244254 A JPH01244254 A JP H01244254A
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- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は補助寒冷源を有する極低温冷凍装置に係り、特
に大形の横形補助寒冷源熱交換器(以下、熱交と略称)
を有する装置に好適な極低温冷凍装置の補助寒冷源制御
方法に関するものである。
に大形の横形補助寒冷源熱交換器(以下、熱交と略称)
を有する装置に好適な極低温冷凍装置の補助寒冷源制御
方法に関するものである。
極低温冷凍装置(例えばヘリウム冷凍装置)では、装置
の小形化を図るために補助寒冷源(例えば液体窒素)を
一般的に使用している。この種に関するものとしては特
開昭62−134462号等が挙げられる。
の小形化を図るために補助寒冷源(例えば液体窒素)を
一般的に使用している。この種に関するものとしては特
開昭62−134462号等が挙げられる。
従来の装置は、例えば第32回低温工学研究発表会(1
984)予稿集B2−10に示されているように熱交換
後のガス窒素出口温度を一定にする補助寒冷源の制御方
法を採用していた。
984)予稿集B2−10に示されているように熱交換
後のガス窒素出口温度を一定にする補助寒冷源の制御方
法を採用していた。
」−記従来技術は予冷開始初期に液体窒素熱交の低温側
に急激な温度変化を与えることがある点について配慮さ
れておらず、特に大形の横形液体窒素熱交を使用する場
合には、急激に予冷を行なうと液体窒素が液体窒素熱交
の下側通路のみを通って高温側まで流入し、極端な場合
には熱交内の温度差によって液体窒素熱交を破壊させる
ことがあるという問題があった。
に急激な温度変化を与えることがある点について配慮さ
れておらず、特に大形の横形液体窒素熱交を使用する場
合には、急激に予冷を行なうと液体窒素が液体窒素熱交
の下側通路のみを通って高温側まで流入し、極端な場合
には熱交内の温度差によって液体窒素熱交を破壊させる
ことがあるという問題があった。
本発明の目的は補助寒冷源熱交に急激な温度変化を与え
ず装置の信頼性の向上を図ることのでき濱 る極低温冷凍装置の補助寒冷源制御方法を提供すること
にある。
ず装置の信頼性の向上を図ることのでき濱 る極低温冷凍装置の補助寒冷源制御方法を提供すること
にある。
上記目的は、熱交への補助寒冷源入口温度を検出し、該
温度が所定の温度に達したら、補助寒冷源の供給量の制
御を始め、熱交の高圧冷媒出口温度が所定の勾配で下降
するように熱交の高圧冷媒出口温度を見ながら制御する
ことにより、達成される。
温度が所定の温度に達したら、補助寒冷源の供給量の制
御を始め、熱交の高圧冷媒出口温度が所定の勾配で下降
するように熱交の高圧冷媒出口温度を見ながら制御する
ことにより、達成される。
補助寒冷源は通常配管によって極低温冷凍装置の熱交に
供給されているため、予冷開始直後は配管を冷却するこ
とになり、熱交には比較的温度の商いガスが流れる。こ
の間は補助寒冷源の供給弁は一定開度で保持する。その
後、配管が冷却され補助寒冷源が熱交に到達したことを
検出した後、熱交の高圧冷媒出口温度を予め決められた
温度勾配で下げるように補助寒冷源の供給弁を制御する
。
供給されているため、予冷開始直後は配管を冷却するこ
とになり、熱交には比較的温度の商いガスが流れる。こ
の間は補助寒冷源の供給弁は一定開度で保持する。その
後、配管が冷却され補助寒冷源が熱交に到達したことを
検出した後、熱交の高圧冷媒出口温度を予め決められた
温度勾配で下げるように補助寒冷源の供給弁を制御する
。
熱交の高圧冷媒出口温度が定常値に到達した後は、定値
制御を行なう。これにより、熱交に急激な温度変化を与
えることがなくなり、装置−の信頼性が向上する。
制御を行なう。これにより、熱交に急激な温度変化を与
えることがなくなり、装置−の信頼性が向上する。
以下、本発明の一実施例を第1図、および第2図により
説明する。
説明する。
第1図において、1は中圧タンク、2は圧縮機、3は低
圧ラインに設けた圧力調整弁、4は高圧ラインに設けた
圧力調整弁、1oはコールドボックス、11 a〜11
fは熱交(特に11 aは冷媒ガスであるヘリウムガ
スに補助寒冷を与える、この場合、液体窒素温度レベル
の熱交)、12は膨張機人口弁、13aおよび13 b
は膨張機、14はジュールトムソン弁(以下、JT弁と
略称)、頷は液化ヘリウム容器、21は液面計、nはヒ
ータ、乙は液面制御器、24は被冷却体、(9)は液体
窒素の導入管、31は液体窒素の供給弁、鵠は制御装置
、羽は熱交11 aの液体窒素入口部に設けた温度検出
器、Mは熱交11 aの高圧ヘリウム出口部に設けた温
度計である。
圧ラインに設けた圧力調整弁、4は高圧ラインに設けた
圧力調整弁、1oはコールドボックス、11 a〜11
fは熱交(特に11 aは冷媒ガスであるヘリウムガ
スに補助寒冷を与える、この場合、液体窒素温度レベル
の熱交)、12は膨張機人口弁、13aおよび13 b
は膨張機、14はジュールトムソン弁(以下、JT弁と
略称)、頷は液化ヘリウム容器、21は液面計、nはヒ
ータ、乙は液面制御器、24は被冷却体、(9)は液体
窒素の導入管、31は液体窒素の供給弁、鵠は制御装置
、羽は熱交11 aの液体窒素入口部に設けた温度検出
器、Mは熱交11 aの高圧ヘリウム出口部に設けた温
度計である。
次に、上記のように構成された極低温冷凍装置の動作に
ついて説明する。
ついて説明する。
圧縮機2で圧縮された高圧ヘリウムはコールドボックス
10に導入され、この高圧ヘリウムは第1の熱交11
aにて液体窒素と戻りの低圧ヘリウムで冷却され、更に
第2の熱交11 bで戻りの低圧ヘリウムで冷却される
。その後、一部の高圧ヘリウムは膨張機人口弁12を通
り第1の膨張a 13 aにて断熱膨張され温度降下し
て、第4の熱交11 dに入り。
10に導入され、この高圧ヘリウムは第1の熱交11
aにて液体窒素と戻りの低圧ヘリウムで冷却され、更に
第2の熱交11 bで戻りの低圧ヘリウムで冷却される
。その後、一部の高圧ヘリウムは膨張機人口弁12を通
り第1の膨張a 13 aにて断熱膨張され温度降下し
て、第4の熱交11 dに入り。
更に第2の膨張機13bで低圧まで断熱膨張されて温度
降下し、戻りの低圧ヘリウムに合流する。−方、残りの
高圧ヘリウムは茅3〜第6の熱交11 c〜11 fで
戻りの低圧ヘリウムによって冷却された後、JT弁14
で低圧まで膨張し、一部が液化する。
降下し、戻りの低圧ヘリウムに合流する。−方、残りの
高圧ヘリウムは茅3〜第6の熱交11 c〜11 fで
戻りの低圧ヘリウムによって冷却された後、JT弁14
で低圧まで膨張し、一部が液化する。
液化した液化ヘリウムは液化ヘリウム容器頷に貯液され
、必要に応じて被冷却体列に供給される。
、必要に応じて被冷却体列に供給される。
被冷却体列に導入された液化ヘリウムは被冷却体列を冷
却してガス化し、コールドボックス10に戻り、熱交1
1 f〜11 aで温度回復した後、圧縮機2の吸入側
に戻る。
却してガス化し、コールドボックス10に戻り、熱交1
1 f〜11 aで温度回復した後、圧縮機2の吸入側
に戻る。
液化ヘリウム容器m内の液化ヘリウムはコールドボック
ス10の液化量、被冷却体Uへの供給量との関係によっ
て変動することになるが、液面計21゜ヒータρ、液面
制御器りによって一定に保持される。また、ヘリウムの
高圧ライン、低圧ラインの圧力は、中圧タンクlを介し
て、高圧ラインの圧力調整弁4.低圧ラインの圧力調整
弁3によって制御される。
ス10の液化量、被冷却体Uへの供給量との関係によっ
て変動することになるが、液面計21゜ヒータρ、液面
制御器りによって一定に保持される。また、ヘリウムの
高圧ライン、低圧ラインの圧力は、中圧タンクlを介し
て、高圧ラインの圧力調整弁4.低圧ラインの圧力調整
弁3によって制御される。
以上の動作は定常時の動作であるが、定常時では第1の
熱交11aの高圧ヘリウム出口の温度は約−190℃で
、液化ヘリウムでの温度は約−270℃という極低温に
ある。従って、運転開始時には常温にある装置を上記の
ような極低温域まで予冷していく必要がある。この予冷
を行なう寒冷発生源としては膨張機13a、13bと、
補助寒冷源である液体窒素とがある。膨張機13a、1
3bは機構的に決められた寒冷発生能力で、かつ急激な
温度変化を発生させることはない。これに対し、液体窒
素は供給量によって非常に大きな寒冷を供給し得ると共
に、液体窒素到達と共に急激に温度低下を発生させるこ
とができる。
熱交11aの高圧ヘリウム出口の温度は約−190℃で
、液化ヘリウムでの温度は約−270℃という極低温に
ある。従って、運転開始時には常温にある装置を上記の
ような極低温域まで予冷していく必要がある。この予冷
を行なう寒冷発生源としては膨張機13a、13bと、
補助寒冷源である液体窒素とがある。膨張機13a、1
3bは機構的に決められた寒冷発生能力で、かつ急激な
温度変化を発生させることはない。これに対し、液体窒
素は供給量によって非常に大きな寒冷を供給し得ると共
に、液体窒素到達と共に急激に温度低下を発生させるこ
とができる。
第2図に上記装置の制御パターンを示す。
装置の運転開始時は、液体窒素を導入管間を介して熱交
11 aに供給し始めるが、最初は常温にある導入管I
を予冷することになるので、ガス窒素のみが熱交11
aに供給され、温度検出器33が設けられた液外窒素人
口の温度は比較的高くなる。このため液体窒素の供給弁
31の開度を太き(とらないと熱交11 aの予冷に長
時間を要することになる。
11 aに供給し始めるが、最初は常温にある導入管I
を予冷することになるので、ガス窒素のみが熱交11
aに供給され、温度検出器33が設けられた液外窒素人
口の温度は比較的高くなる。このため液体窒素の供給弁
31の開度を太き(とらないと熱交11 aの予冷に長
時間を要することになる。
したがって、温度検出器おによって、導入管間の熱交1
1 aの液体窒素入口部に液体窒素が到達するのを確認
するまで、すなわち、第2図における第1の設定値Xと
なるaまでは液体窒素の供給弁31の開度を比較的大き
い一定開度に保持させる。
1 aの液体窒素入口部に液体窒素が到達するのを確認
するまで、すなわち、第2図における第1の設定値Xと
なるaまでは液体窒素の供給弁31の開度を比較的大き
い一定開度に保持させる。
なお、液体窒素の到達を確認するための温度検出器環の
設定値Xは必ずしも液体窒素温度とする必要はなく1例
えば−100℃程度でも十分である。すなわち、導入管
(9)内での予冷効率は非常に良く、液体窒素が温度検
出器おの近くに到達すると、温度検出器環が設けられた
熱交11 aの液体窒素入口の温度は急激に低下するた
めである。
設定値Xは必ずしも液体窒素温度とする必要はなく1例
えば−100℃程度でも十分である。すなわち、導入管
(9)内での予冷効率は非常に良く、液体窒素が温度検
出器おの近くに到達すると、温度検出器環が設けられた
熱交11 aの液体窒素入口の温度は急激に低下するた
めである。
液体窒素の到達(設定値X)を確認したa点からは熱交
11 aの高圧ヘリウム出力の温度を予め設定された第
1の温度勾配(例えば−60℃/時間)で予冷するよう
に液体窒素の供給弁3Iを制御する。
11 aの高圧ヘリウム出力の温度を予め設定された第
1の温度勾配(例えば−60℃/時間)で予冷するよう
に液体窒素の供給弁3Iを制御する。
具体的には、而の工程で比較的大きい開度に設定してい
たのを、この段階で比較的小さい0口度に絞り、徐々に
開けていくように制御する。熱交11 aの高圧ヘリウ
ム出口の温度が第2の設定値(例えば−180℃)に到
達後(第2r:りのb点)は、第2の温度勾配(例えば
−30℃/時間)で熱交11aの高圧ヘリウム出口の温
度が降下するように液体窒素の供給弁31を制御する。
たのを、この段階で比較的小さい0口度に絞り、徐々に
開けていくように制御する。熱交11 aの高圧ヘリウ
ム出口の温度が第2の設定値(例えば−180℃)に到
達後(第2r:りのb点)は、第2の温度勾配(例えば
−30℃/時間)で熱交11aの高圧ヘリウム出口の温
度が降下するように液体窒素の供給弁31を制御する。
更に予冷が進み熱交11 aの高圧ヘリウム出口の温度
が定常時である第3の設定値2に到達後(第2図のC)
は第3の設定値2での定位制御を行なう。このような制
御は、熱交11 aの液体窒素入口部に設けた温度検出
器おによる検出信号を制御装置i’j 32に入力する
とともに、熱交1]、 aの高圧ヘリウム出口部に設け
た温度計あによる測定値を制御装置βに入力して設定値
と比較演算して、演算による制御量で供給弁31を制御
して行なわれる。
が定常時である第3の設定値2に到達後(第2図のC)
は第3の設定値2での定位制御を行なう。このような制
御は、熱交11 aの液体窒素入口部に設けた温度検出
器おによる検出信号を制御装置i’j 32に入力する
とともに、熱交1]、 aの高圧ヘリウム出口部に設け
た温度計あによる測定値を制御装置βに入力して設定値
と比較演算して、演算による制御量で供給弁31を制御
して行なわれる。
なお、運転パターンとしては、長期の停止後に起動した
場合と、停止の翌日等に起動した場合とが考えられるた
め、第1の温度勾配での制御を開始するa点での初期温
度Xは、例えば液体窒素温度以下で、運転開始前の熱交
11 aの高圧ヘリウム出口の温度を初期値として使う
のが望ましい。
場合と、停止の翌日等に起動した場合とが考えられるた
め、第1の温度勾配での制御を開始するa点での初期温
度Xは、例えば液体窒素温度以下で、運転開始前の熱交
11 aの高圧ヘリウム出口の温度を初期値として使う
のが望ましい。
また、一定勾配で予冷していく途中で、制御目標温度と
熱交11 aの高圧ヘリウム出口の温度のプロセス値と
の偏差が異常に大きくなった場合には。
熱交11 aの高圧ヘリウム出口の温度のプロセス値と
の偏差が異常に大きくなった場合には。
制御目標温度を変えていqのを中断し、上記の偏差が正
常復帰するのを待ってから制御目標温度を変える制御を
再開することにより、更に、運転制御の信頼性を高める
ことができる。この−例を第2図の1点鎖線dで示した
。
常復帰するのを待ってから制御目標温度を変える制御を
再開することにより、更に、運転制御の信頼性を高める
ことができる。この−例を第2図の1点鎖線dで示した
。
上記の説明では温度勾配を2段階で変えるようにしてい
るが、装置の特性によっては1段階のみでも良い場合も
あり、3段題以上必要とする場合もるるか、いずれも本
発明の主旨に含まれるのは明らかである。
るが、装置の特性によっては1段階のみでも良い場合も
あり、3段題以上必要とする場合もるるか、いずれも本
発明の主旨に含まれるのは明らかである。
以上、本−実施例によれば、液体窒素によって冷却され
る熱交11 aに急激な温度変化を与えることなく装置
の信頼性を高くできるとともに、円滑。
る熱交11 aに急激な温度変化を与えることなく装置
の信頼性を高くできるとともに、円滑。
適性な運転制御を行なうことができるという効果がある
。
。
本発明によれば、補助寒冷源の供給量制御を装置が許容
できる条件によって予め設定した制御パターンにより制
御するようにしているので、補助寒冷源熱交に急激な温
度変化を与えることな(、適正な予冷制御を行なうこと
ができ、装置の信頼性の向上を図ることができるという
効果がある。
できる条件によって予め設定した制御パターンにより制
御するようにしているので、補助寒冷源熱交に急激な温
度変化を与えることな(、適正な予冷制御を行なうこと
ができ、装置の信頼性の向上を図ることができるという
効果がある。
第1図は本発明の一実施例である極低温冷凍装置の補助
寒冷源制御方法を実施するための装置の構成図、第2図
は補助寒冷源制御の一実施例である制御パターンを示す
図である。 11 a・・・・・・熱交換器(補助寒冷源熱交)、凹
・・・・・・導入管、31・・・・・供給弁、n・・・
用制御装置、お・曲・温度検出器、讃・・・・・・温度
計 、−−へ\ 代理人 弁理士 小 川 勝 男、、j、’、 +−
’t\、、 1 32−−−−一制卯茅S 第2目 FtP/’f’l
寒冷源制御方法を実施するための装置の構成図、第2図
は補助寒冷源制御の一実施例である制御パターンを示す
図である。 11 a・・・・・・熱交換器(補助寒冷源熱交)、凹
・・・・・・導入管、31・・・・・供給弁、n・・・
用制御装置、お・曲・温度検出器、讃・・・・・・温度
計 、−−へ\ 代理人 弁理士 小 川 勝 男、、j、’、 +−
’t\、、 1 32−−−−一制卯茅S 第2目 FtP/’f’l
Claims (1)
- 1、極低温冷凍装置の補助寒冷源制御方法において、補
助寒冷源熱交換器(以下、「熱交」と呼ぶ。)への補助
寒冷源入口温度を検出し、該温度が所定の温度に達した
ら、前記補助寒冷源の供給量の制御を始め、前記熱交の
高圧冷媒出口温度が所定の勾配で下降するように前記熱
交の高圧冷媒出口温度を見ながら制御することを特徴と
する極低温冷凍装置の補助寒冷源制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6957388A JPH01244254A (ja) | 1988-03-25 | 1988-03-25 | 極低温冷凍装置の補助寒冷源制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6957388A JPH01244254A (ja) | 1988-03-25 | 1988-03-25 | 極低温冷凍装置の補助寒冷源制御方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01244254A true JPH01244254A (ja) | 1989-09-28 |
Family
ID=13406666
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6957388A Pending JPH01244254A (ja) | 1988-03-25 | 1988-03-25 | 極低温冷凍装置の補助寒冷源制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01244254A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0480558A (ja) * | 1990-07-23 | 1992-03-13 | Hitachi Ltd | ヘリウム液化冷凍機 |
JP2016503876A (ja) * | 2012-12-18 | 2016-02-08 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 冷凍及び/又は液化装置、並びにこれらに関連する方法 |
JP2016504558A (ja) * | 2013-01-03 | 2016-02-12 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 冷凍及び/又は液化装置、並びにこれらに対応する方法 |
-
1988
- 1988-03-25 JP JP6957388A patent/JPH01244254A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0480558A (ja) * | 1990-07-23 | 1992-03-13 | Hitachi Ltd | ヘリウム液化冷凍機 |
JP2016503876A (ja) * | 2012-12-18 | 2016-02-08 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 冷凍及び/又は液化装置、並びにこれらに関連する方法 |
US10465981B2 (en) | 2012-12-18 | 2019-11-05 | L'Air Liquide Societe Anonyme pour l'Etude et l'Exoloitation des Procedes Georqes Claude | Refrigeration and/or liquefaction device, and associated method |
JP2016504558A (ja) * | 2013-01-03 | 2016-02-12 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 冷凍及び/又は液化装置、並びにこれらに対応する方法 |
US10520225B2 (en) | 2013-01-03 | 2019-12-31 | L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Refrigeration and/or liquefaction device using selective pre-cooling, and corresponding method |
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