JPH01231082A - 体積立相ホログラムの製造方法 - Google Patents
体積立相ホログラムの製造方法Info
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Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野)
本発明は透明フィルム状の体積位相型ホログラムの製造
方法に関する。
方法に関する。
(従来の技術)
ホロクラフィーは、レーザーのように1−浮性良好な光
波を物体に照射し、振幅と位相とがその物体の形状に応
して変調され、反射又は透過した光波を記録(−ホログ
ラム)して、そのホログラムに71Gびレーザーを照射
して元の物体の光学像を再生する技術である。
波を物体に照射し、振幅と位相とがその物体の形状に応
して変調され、反射又は透過した光波を記録(−ホログ
ラム)して、そのホログラムに71Gびレーザーを照射
して元の物体の光学像を再生する技術である。
かかるホログラフィ−技術に関する研究の進展に伴ない
、現在ではその感材に対する要求もかなり明確なものと
なり、?5白処理銀塩、フォトレジスト、サーモプラス
チック、屯クロム酸セラチン、jHH機ガラス系材料、
強誘電体等多くの材料か提案され、その特性の研究が進
んでいる。
、現在ではその感材に対する要求もかなり明確なものと
なり、?5白処理銀塩、フォトレジスト、サーモプラス
チック、屯クロム酸セラチン、jHH機ガラス系材料、
強誘電体等多くの材料か提案され、その特性の研究が進
んでいる。
一方、ホログラフィ−技術の進歩に伴い、実用に耐え得
るホログラムの形成が可能となりつつあり、画像自体を
楽しんだり、種々の物品を装飾するために用いたりする
等、ホログラムの用途も種々の方面へ拡大されており、
それに応した各種の形態がホログラムにも要求されつつ
ある。
るホログラムの形成が可能となりつつあり、画像自体を
楽しんだり、種々の物品を装飾するために用いたりする
等、ホログラムの用途も種々の方面へ拡大されており、
それに応した各種の形態がホログラムにも要求されつつ
ある。
例えば2画像に応した凹凸を感剤層表面に形成し、その
凹凸ての光の反射或いは透過を利用して画像を+IT生
ずるタイプのホロクラフは、本の表紙として、或いは磁
気カートの偽造、変造防止用のマークとして既に利用さ
れている。
凹凸ての光の反射或いは透過を利用して画像を+IT生
ずるタイプのホロクラフは、本の表紙として、或いは磁
気カートの偽造、変造防止用のマークとして既に利用さ
れている。
(発明か解決しようとしている問題点)ト述の様な用途
の拡大に伴い、体積位相型ホログラムである?r%自処
理銀塩及び重クロム酸セラヂンの系においてもある程度
の実用化かみられている。しかしながら、面者はフィル
ム状に成形できるものの耐光性に問題点があり、後者は
耐湿性に問題があり実用的にはフィルム化することがで
きなかった。
の拡大に伴い、体積位相型ホログラムである?r%自処
理銀塩及び重クロム酸セラヂンの系においてもある程度
の実用化かみられている。しかしながら、面者はフィル
ム状に成形できるものの耐光性に問題点があり、後者は
耐湿性に問題があり実用的にはフィルム化することがで
きなかった。
これに対してカルバゾール系ポリマーを用いたホログラ
ム感材は、特公昭62−22152号公報に開示された
様に透明性、耐光性、耐熱性等に十分に優れたホロクラ
ムフィルムを与えることができる。
ム感材は、特公昭62−22152号公報に開示された
様に透明性、耐光性、耐熱性等に十分に優れたホロクラ
ムフィルムを与えることができる。
しかしなから、L記の感材はガラス板やプラスチックフ
ィルム等の基材トに形成され、その状態で露光されるた
め、露光工程において基板の及ぼ丁影う〒か大きい。例
えば、基板からの反射光による所Tのピッチとは異なる
干渉縞が形成されたり、又、反射型ホログラムでは基板
の光反射や吸収の結果5.+1(板側の光量か基板通過
後変化するものと考えられ、この様に基板側と感材側と
の光量比が回折効率と波長選択性に影響を与えることか
理論的にも実験的にも証明されている。この様な問題点
を解決する為に、空気層側にインデックスマツチング液
を介してガラス基板をおく方法か考えられる。しかしな
がら、インデックスマツチング液が感光層の一面にしか
用いられていない為に、基板側とインデックスマツチン
グ層側での干渉絹形成能に差か生し回折効率改看とはな
らない。又、現像工程においては、感材か厚くなるにつ
れて基板付近における感材フィルムの膨潤及び収縮か不
十分な為に所望の回折効率か得られないという問題かあ
った。
ィルム等の基材トに形成され、その状態で露光されるた
め、露光工程において基板の及ぼ丁影う〒か大きい。例
えば、基板からの反射光による所Tのピッチとは異なる
干渉縞が形成されたり、又、反射型ホログラムでは基板
の光反射や吸収の結果5.+1(板側の光量か基板通過
後変化するものと考えられ、この様に基板側と感材側と
の光量比が回折効率と波長選択性に影響を与えることか
理論的にも実験的にも証明されている。この様な問題点
を解決する為に、空気層側にインデックスマツチング液
を介してガラス基板をおく方法か考えられる。しかしな
がら、インデックスマツチング液が感光層の一面にしか
用いられていない為に、基板側とインデックスマツチン
グ層側での干渉絹形成能に差か生し回折効率改看とはな
らない。又、現像工程においては、感材か厚くなるにつ
れて基板付近における感材フィルムの膨潤及び収縮か不
十分な為に所望の回折効率か得られないという問題かあ
った。
従って、本発明の目的は、上記の如き従来技術の問題点
を解決し、所望の均一で高い回折効率を打し、更に耐光
性、耐湿性、透明性等に優れた体禎位4I已11ホログ
ラムフィルムを提供することである。
を解決し、所望の均一で高い回折効率を打し、更に耐光
性、耐湿性、透明性等に優れた体禎位4I已11ホログ
ラムフィルムを提供することである。
(問題点を解決するための手段)
」1旧」的は以ドの本発明により達成される。
すなわち、本発明は、感材フィルムに露光及び現像処理
を行って体積位相ホログラムを製造する方法において、
露光時、該感材フィルムをインデックスマツチング液を
介してガラス基板で挟持せしめたことを特徴とする体積
位相ホログラムの製造方法である。
を行って体積位相ホログラムを製造する方法において、
露光時、該感材フィルムをインデックスマツチング液を
介してガラス基板で挟持せしめたことを特徴とする体積
位相ホログラムの製造方法である。
(作 用)
感材フィルムをインデックスマツチング液を介してガラ
ス、+、r8板で挟持させて露光することにより、所望
の均一で高い回折効率を有し、更に屈曲自在で耐光性、
耐湿性、透明性等に優れたホログラムフィルムが提供さ
れる。
ス、+、r8板で挟持させて露光することにより、所望
の均一で高い回折効率を有し、更に屈曲自在で耐光性、
耐湿性、透明性等に優れたホログラムフィルムが提供さ
れる。
(好ましい実施、態様)
次に好ましい実施態様を挙げて本発明を更に詳細に説明
する。
する。
本発明で使用するホログラム感材は基材と感材層からな
るものであって、使用″4−る基材としては、カラス板
、プラスチックフィルム、例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ(4−メチル)ペンテン、ポリエーテ
ルエーテルケトン、ポリフッ化ビニリデン、ポリアクリ
ロニトリル、ポリエチレンテレフタレート等のポリエス
テル、ポリアミド等のからなるフィルムやシートを用い
ることができる。これらの基材は透明でも不透明でもよ
く5又、任意の厚みでよく特に限定されない。
るものであって、使用″4−る基材としては、カラス板
、プラスチックフィルム、例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ(4−メチル)ペンテン、ポリエーテ
ルエーテルケトン、ポリフッ化ビニリデン、ポリアクリ
ロニトリル、ポリエチレンテレフタレート等のポリエス
テル、ポリアミド等のからなるフィルムやシートを用い
ることができる。これらの基材は透明でも不透明でもよ
く5又、任意の厚みでよく特に限定されない。
本発明においてホログラム感材層の主体をなすものは増
感剤の存在下にて光反応を生ずるポリマーであって、好
適なものはポリビニルカルバゾール系ポリマーである。
感剤の存在下にて光反応を生ずるポリマーであって、好
適なものはポリビニルカルバゾール系ポリマーである。
ポリビニルカルバゾール系ポリマーとしては、ビニルカ
ルバゾール、そのアルキル置換誘導体又はそのへロケン
置換誘導体、カルバゾール基を側鎖に有するアクリル酸
誘導体や酢酸ビニル誘導体等の千ツマ−を主体とするポ
リマーであり、具体的には、例えば、ポリビニルカルバ
ゾール、3−クロルビニル力ルバゾールボリマー、3−
プロムビニル力ルハゾールボリマー、3−ヨートビニル
カルバゾールポリマー、3−メチルビニルカルバゾール
ポリマー、3−エチルビニルカルバゾールポリマー、ク
ロル化ポリビニルカルバゾール、ブロム化ポリビニルカ
ルバゾール及び下記の構造式で表される千ツマ−からな
るポリマー等が挙げられる。
ルバゾール、そのアルキル置換誘導体又はそのへロケン
置換誘導体、カルバゾール基を側鎖に有するアクリル酸
誘導体や酢酸ビニル誘導体等の千ツマ−を主体とするポ
リマーであり、具体的には、例えば、ポリビニルカルバ
ゾール、3−クロルビニル力ルバゾールボリマー、3−
プロムビニル力ルハゾールボリマー、3−ヨートビニル
カルバゾールポリマー、3−メチルビニルカルバゾール
ポリマー、3−エチルビニルカルバゾールポリマー、ク
ロル化ポリビニルカルバゾール、ブロム化ポリビニルカ
ルバゾール及び下記の構造式で表される千ツマ−からな
るポリマー等が挙げられる。
中でも未置換のポリビニルカルバゾールは、その人手か
容易でしかも得られるホログラムの性能も特に優れたも
のであるから事実上最適なものである。
容易でしかも得られるホログラムの性能も特に優れたも
のであるから事実上最適なものである。
上記ビニルカルバゾール系ポリマーは、例えばフィルム
とした際の強度や柔軟性等の特性の制御のために、必要
に応して、他の千ツマ−と共重合されていてもよい。そ
のような用途に用い得る他の千ツマ−としては、例えば
、」二記ビニルカルバゾール順に加えて、酢酸ビニル等
のビニルエステル、アクリル酸、メタアクリル酸のエス
テル、スチレン及びスチレン誘導体等のラジカル重合に
よる共■合法によって共重合し得るビニル系モノマーを
挙げることができる。又、例えば、ポリスチレン、スチ
レン−ブタジェンコポリマー、スチレン−水素化ブタジ
ェンコポリマー等の他のポリマーをホログラム像か記録
できる範囲でブレンドして用いることもできる。尚、こ
れらは所望の特性が得られるようにその添加割合が選択
して用いられる。
とした際の強度や柔軟性等の特性の制御のために、必要
に応して、他の千ツマ−と共重合されていてもよい。そ
のような用途に用い得る他の千ツマ−としては、例えば
、」二記ビニルカルバゾール順に加えて、酢酸ビニル等
のビニルエステル、アクリル酸、メタアクリル酸のエス
テル、スチレン及びスチレン誘導体等のラジカル重合に
よる共■合法によって共重合し得るビニル系モノマーを
挙げることができる。又、例えば、ポリスチレン、スチ
レン−ブタジェンコポリマー、スチレン−水素化ブタジ
ェンコポリマー等の他のポリマーをホログラム像か記録
できる範囲でブレンドして用いることもできる。尚、こ
れらは所望の特性が得られるようにその添加割合が選択
して用いられる。
上述の感材層の主体をなすポリマー成分は、本発明にお
いて予めハロゲン化合物、好ましくは沃素化合物及び/
又は臭素化合物によって輻射線に対して活性にされてい
る必要がある。
いて予めハロゲン化合物、好ましくは沃素化合物及び/
又は臭素化合物によって輻射線に対して活性にされてい
る必要がある。
かかるハロゲン化合物は、ポリマー成分中に共存して、
可視波長域にも充分な感度を持つ感材層を構成するもの
であり、好ましいものとして具体的には、四状化炭素、
ヨードホルム、四状化エチレン、トリヨードエタン、テ
トラヨードエタン、ペンタヨードエタン、ヘキサヨード
エタン、四臭化/FJ、四臭化エチレン等の沃素化合物
及び臭素化合物が挙げられる。これらのハロゲン化合物
は111記ビニルカルバゾール系ポリマーの1乃至20
0重量%、好ましくは5乃至50重量%の割合で上記ポ
リマーに添加する。
可視波長域にも充分な感度を持つ感材層を構成するもの
であり、好ましいものとして具体的には、四状化炭素、
ヨードホルム、四状化エチレン、トリヨードエタン、テ
トラヨードエタン、ペンタヨードエタン、ヘキサヨード
エタン、四臭化/FJ、四臭化エチレン等の沃素化合物
及び臭素化合物が挙げられる。これらのハロゲン化合物
は111記ビニルカルバゾール系ポリマーの1乃至20
0重量%、好ましくは5乃至50重量%の割合で上記ポ
リマーに添加する。
本発明で使用する感材は、上述のポリマー、ハロゲン化
合物及び他の必要な添加剤を所定の割合で適宜溶媒に溶
解させるか分散液とした後、前記の如き基材上に塗膜を
形成することによって得られる。
合物及び他の必要な添加剤を所定の割合で適宜溶媒に溶
解させるか分散液とした後、前記の如き基材上に塗膜を
形成することによって得られる。
未材として柔軟なプラスチックフィルムを使用する場合
には、ガラス基板と異なり、それ自体で平面性を保つこ
とか困難である為、均一な回折効率を与える均一な膜厚
を得る塗膜形成方法として、スピンナーを用いる場合に
は、ガラス基板上にマツチング液等を用いて基材フィル
ムをガラス基板に貼り合せる方法や平面性を保つことな
く均一+15Nを与えるデツピング法を用いることが好
ましい。このようにして形成する感材層は数μm乃至数
十μmの厚みが一般的であり且つ好ましい。
には、ガラス基板と異なり、それ自体で平面性を保つこ
とか困難である為、均一な回折効率を与える均一な膜厚
を得る塗膜形成方法として、スピンナーを用いる場合に
は、ガラス基板上にマツチング液等を用いて基材フィル
ムをガラス基板に貼り合せる方法や平面性を保つことな
く均一+15Nを与えるデツピング法を用いることが好
ましい。このようにして形成する感材層は数μm乃至数
十μmの厚みが一般的であり且つ好ましい。
又、感材層の形成に使用するポリマーかフィルム形成能
が乏しい場合には、ターフェニルやエポキシ樹脂等の可
塑剤を添加し、更にハロゲン化合物が安定性に欠ける場
合には置換フェノール類等の種々公知の酸化防止剤を別
途加えてもよい。
が乏しい場合には、ターフェニルやエポキシ樹脂等の可
塑剤を添加し、更にハロゲン化合物が安定性に欠ける場
合には置換フェノール類等の種々公知の酸化防止剤を別
途加えてもよい。
本発明では上記の如く成形した感材の感材フィルム層を
剥離して使用するものであり、又、剥離に際してはその
まま剥離してもよいが、水や適当な有機溶剤を用いて基
材とフィルム層との接着性を低下させて剥離するのが好
ましい。
剥離して使用するものであり、又、剥離に際してはその
まま剥離してもよいが、水や適当な有機溶剤を用いて基
材とフィルム層との接着性を低下させて剥離するのが好
ましい。
この剥離のために用いることのできる低沸点溶媒とは、
基板及び感材フィルム層を溶解することなく、両者の界
面に浸透し、その溶媒の界面張力によって両者を互いに
剥離させるものである。
基板及び感材フィルム層を溶解することなく、両者の界
面に浸透し、その溶媒の界面張力によって両者を互いに
剥離させるものである。
この工程で用いる溶媒は、上述の作用を果たすものであ
って、且つフィルム層を構成している成分(主にビニル
カルバゾール系ポリマー)に実質的な悪J)Z Wを及
ぼさないものならば何を用いてもさしつかえない。かか
る溶媒として、基板及び感材フィルム層を浸さないアル
コール類、飽和炭化水素類か特に好適に用いることかで
きるが、用いる基板の材質等によって、適宜選択すれば
よい。
って、且つフィルム層を構成している成分(主にビニル
カルバゾール系ポリマー)に実質的な悪J)Z Wを及
ぼさないものならば何を用いてもさしつかえない。かか
る溶媒として、基板及び感材フィルム層を浸さないアル
コール類、飽和炭化水素類か特に好適に用いることかで
きるが、用いる基板の材質等によって、適宜選択すれば
よい。
好ましい例としては、水、n−ヘプタン、n−ヘキtン
、タイフロン、n−ペンタン、n−オクタン、イソオク
タン、シクロヘキサン等のアルカン、シクロアルカン類
、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアル
コール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコー
ル、LerL−ブチルアルコール、n−アミルアルコー
ル、イソアミルアルコール等のアルコール、ジメチルエ
ーテル、メチルエチルエーテル等のエーテル等が挙げら
れる。
、タイフロン、n−ペンタン、n−オクタン、イソオク
タン、シクロヘキサン等のアルカン、シクロアルカン類
、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアル
コール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコー
ル、LerL−ブチルアルコール、n−アミルアルコー
ル、イソアミルアルコール等のアルコール、ジメチルエ
ーテル、メチルエチルエーテル等のエーテル等が挙げら
れる。
水、低融点有機溶媒を適度に加温したり、超斤彼等の物
理的刺激を与えることは、−Sに剥離を進める上に効果
的に作用し、好ましい傾向を示す。
理的刺激を与えることは、−Sに剥離を進める上に効果
的に作用し、好ましい傾向を示す。
尚、剥離された感材フィルム層は媒体中若しくは媒体ト
に浮き、容易に取り出すことができる。
に浮き、容易に取り出すことができる。
この剥離工程で、溶媒による剥離か困難であることか−
r測されるとき等は(例えば感材フィルム層の厚みが薄
く、強度が低くなる場合等)、予め基材上に先ず剥離層
を積層し、次に感材フィルム層を積層するとよい。
r測されるとき等は(例えば感材フィルム層の厚みが薄
く、強度が低くなる場合等)、予め基材上に先ず剥離層
を積層し、次に感材フィルム層を積層するとよい。
本発明にいう剥離層とは、ホログラムフィルム層の溶剤
による剥離をより容易にするためのものである。
による剥離をより容易にするためのものである。
このような目的で用いる剥離層としては、例えば、感材
フィルム層の表面張力(N−ビニルカルバゾール系ポリ
マーを用いた場合には、30乃至35 dyne/ c
m)よりも、良好な剥離状態を得るのに十分な程度に大
きい、又は小さい表面張力を有する、例えば、ポリマー
からなる層や、いわゆるシランカップリング剤やチタン
カップリング剤と呼ばれる低分子の表面改質剤からなる
層を用いることかできる。
フィルム層の表面張力(N−ビニルカルバゾール系ポリ
マーを用いた場合には、30乃至35 dyne/ c
m)よりも、良好な剥離状態を得るのに十分な程度に大
きい、又は小さい表面張力を有する、例えば、ポリマー
からなる層や、いわゆるシランカップリング剤やチタン
カップリング剤と呼ばれる低分子の表面改質剤からなる
層を用いることかできる。
剥離層を構成できる材料として具体的には、例えば、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリフッ
化エチレン−プロピレン、ポリ有機シロキサン等のポリ
マー;γ−グリシトキシプロビルトリメトキシシラン、
ビニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤:
イソプロピルトリステアリルチタネート、イソプロピル
トリオクチルチタネート等のチタンカップリング剤等を
挙げることかできる。
リビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリフッ
化エチレン−プロピレン、ポリ有機シロキサン等のポリ
マー;γ−グリシトキシプロビルトリメトキシシラン、
ビニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤:
イソプロピルトリステアリルチタネート、イソプロピル
トリオクチルチタネート等のチタンカップリング剤等を
挙げることかできる。
剥離層は、基材上に例えば上記ポリマーからなる層を積
層して、或いは基材表面をシランカップリング剤やチタ
ンカップリング剤を含む溶液にて処理して設けることか
できる。
層して、或いは基材表面をシランカップリング剤やチタ
ンカップリング剤を含む溶液にて処理して設けることか
できる。
以−にの如くして基材から剥離した感材フィルムに56
Or++n迄のコヒーレントな可視光である物体光と参
照光の2光束の可干渉性レーザーを用いて露光を行う。
Or++n迄のコヒーレントな可視光である物体光と参
照光の2光束の可干渉性レーザーを用いて露光を行う。
露光方法は第1図に示す様に感材フィルム層の両面にイ
ンデックスマツチング液を介してガラス基板により挟持
した状態で行う。ここで使用するインデックスマツチン
グ液は感材フィルムの屈折率に近いものが望ましいか、
一般に用いられるヌジョール、ローズオイル、シリコン
オイル等を用いてもよい。又、第2図に示す様にガラス
基板上に反射防止膜を設けて露光を行ってもよい。
ンデックスマツチング液を介してガラス基板により挟持
した状態で行う。ここで使用するインデックスマツチン
グ液は感材フィルムの屈折率に近いものが望ましいか、
一般に用いられるヌジョール、ローズオイル、シリコン
オイル等を用いてもよい。又、第2図に示す様にガラス
基板上に反射防止膜を設けて露光を行ってもよい。
以」二の如くして露光後、更に感材フィルム層を溶解し
ない溶媒による膨拐及び収縮現象を利用した現像工程を
経る方法によって高解像度及び高回折効率の体積位相型
透明ホログラムフィルムを形成することができる。
ない溶媒による膨拐及び収縮現象を利用した現像工程を
経る方法によって高解像度及び高回折効率の体積位相型
透明ホログラムフィルムを形成することができる。
露光工程に続いて、感材フィルム層を構成しているポリ
マーは勿論のこと光反応により生成するポリマー架橋物
を殆ど溶出させることのない溶媒中に浸漬して、感材フ
ィルム層中から未反応のハロゲン化合物のみをほぼ完全
に溶出除去して着色を除く。尚、この工程は下記の膨潤
工程を兼ねることができる。
マーは勿論のこと光反応により生成するポリマー架橋物
を殆ど溶出させることのない溶媒中に浸漬して、感材フ
ィルム層中から未反応のハロゲン化合物のみをほぼ完全
に溶出除去して着色を除く。尚、この工程は下記の膨潤
工程を兼ねることができる。
次いで行う現像工程は膨潤工程及び収縮工程の2ステツ
プからなる。
プからなる。
すなわち、上記露光工程によりホログラムd)像の形成
され、且つハロゲン化合物か除去された感材フィルム層
を、第一の溶媒である膨潤液で処理して、形成されたホ
ログラムパターンに応した膨潤を引き起1−ものであり
、その後の第二の溶媒による処理は、膨潤状態の感材層
を収縮させて、上記膨潤状態に応したホログラムの増幅
及び固定化を行うものである。
され、且つハロゲン化合物か除去された感材フィルム層
を、第一の溶媒である膨潤液で処理して、形成されたホ
ログラムパターンに応した膨潤を引き起1−ものであり
、その後の第二の溶媒による処理は、膨潤状態の感材層
を収縮させて、上記膨潤状態に応したホログラムの増幅
及び固定化を行うものである。
ホログラム現像工程における第一の溶媒である1彫潤7
夜とは、ポリビニルカルバゾールとハロゲン化合物との
光反応の結果生成されるポリマー架橋物に対し、短時間
で殆ど溶出させることのない溶媒である。かかる溶媒と
しては、感材フィルム層の材料に基ずいて、例えば、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン(オルト体、メタ体、パラ
体及びそれらの混合物)、エチルヘンゼン、n−プロビ
ルヘンゼン、クメン、フェノール、クレゾール、クロル
ヘンゼン、ジクロルエンゼン、ニトロベンゼン、ヘンシ
ルアルコール、ヘンシルクロライド、ヘンシルブロマイ
ド、α−メチルナフタリン、α−クロルナフタリン等の
ベンゼン及びナフタリンの誘導体、ジクロルメタン、ク
ロロホルム、トリクロルエチレン、トリクロルエタン、
ジクロルエタン、ブロモホルム等のハロゲン置換の飽和
又は不飽和の炭化水素、アセトン、メヂルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケト
ン類、酢酸エチル、蟻酸エチル等のエステル類、その他
のアミン類,アミド類等の中から適当なものを選択して
使用する。
夜とは、ポリビニルカルバゾールとハロゲン化合物との
光反応の結果生成されるポリマー架橋物に対し、短時間
で殆ど溶出させることのない溶媒である。かかる溶媒と
しては、感材フィルム層の材料に基ずいて、例えば、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン(オルト体、メタ体、パラ
体及びそれらの混合物)、エチルヘンゼン、n−プロビ
ルヘンゼン、クメン、フェノール、クレゾール、クロル
ヘンゼン、ジクロルエンゼン、ニトロベンゼン、ヘンシ
ルアルコール、ヘンシルクロライド、ヘンシルブロマイ
ド、α−メチルナフタリン、α−クロルナフタリン等の
ベンゼン及びナフタリンの誘導体、ジクロルメタン、ク
ロロホルム、トリクロルエチレン、トリクロルエタン、
ジクロルエタン、ブロモホルム等のハロゲン置換の飽和
又は不飽和の炭化水素、アセトン、メヂルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケト
ン類、酢酸エチル、蟻酸エチル等のエステル類、その他
のアミン類,アミド類等の中から適当なものを選択して
使用する。
又、第二の溶媒である収縮液は、感材フィルム層に対し
て膨潤又は溶解作用を有せず且つ上記膨−111液と相
溶性のある溶媒は全て使用可能であり、例えば、n−ペ
ンタン、n−ヘキサン、n−へブタン、n−オクタン、
イソオクタン、シクロヘキサン等のアルカン、シクロア
ルカン類、メチルアルコール、エチルアルコール、n−
プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブ
チルアルコール、LerL−ブチルアルコール、n−ア
ミルアルコール、イソアミルアルコール等のアルコール
類、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル等のエーテル類等か使用される。
て膨潤又は溶解作用を有せず且つ上記膨−111液と相
溶性のある溶媒は全て使用可能であり、例えば、n−ペ
ンタン、n−ヘキサン、n−へブタン、n−オクタン、
イソオクタン、シクロヘキサン等のアルカン、シクロア
ルカン類、メチルアルコール、エチルアルコール、n−
プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブ
チルアルコール、LerL−ブチルアルコール、n−ア
ミルアルコール、イソアミルアルコール等のアルコール
類、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル等のエーテル類等か使用される。
中でも炭素数5乃至7の飽和炭化水素は収縮効果に優れ
、単独或いは相互の混合或いは他の溶媒との混合によっ
て本工程に用いるのに好適である。
、単独或いは相互の混合或いは他の溶媒との混合によっ
て本工程に用いるのに好適である。
又、夫々の工程の温度や時間等の処理条件は夫々使用す
る感材層の種類及び溶媒の種類等によって変化し一概に
は規定できないが、一般的にはいずれの工程も10℃乃
至70℃程度の温度で数秒間乃至数分間の処理で十分な
効果を挙げることができる。
る感材層の種類及び溶媒の種類等によって変化し一概に
は規定できないが、一般的にはいずれの工程も10℃乃
至70℃程度の温度で数秒間乃至数分間の処理で十分な
効果を挙げることができる。
(効 果)
以上の如き本発明によれば、屈曲自在であり、無色で高
い透明性を有し、最大90%に達する均−且つ高い回折
効率及び高解像力を持ち,flつ耐光性や耐湿性等に優
れた透明ホログラムフィルムが提供される。
い透明性を有し、最大90%に達する均−且つ高い回折
効率及び高解像力を持ち,flつ耐光性や耐湿性等に優
れた透明ホログラムフィルムが提供される。
(実施例)
以下実施例により、本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
ポリビニルカルバゾール6g及び四状化炭素0、6gを
モノクロルベンセン30gに溶解した溶液を、ガラス基
板上にデイツプ法にて塗布した後乾燥させて、膜厚10
μmの膜を形成し、次にこの感材層を有するガラス基板
を水中に浸漬することにより感材フィルム層をガラス基
板から剥離した。次に感材フィルム層を両面からインデ
ックスマツチング液を介してガラス基板で挟持し、フィ
ルム層を488nmのアルゴンレーザー光で露光後、以
下の(+)及び(2)の工程で順次処理して所望の画像
が記録された透明ホログラムフィルムが得られた。
モノクロルベンセン30gに溶解した溶液を、ガラス基
板上にデイツプ法にて塗布した後乾燥させて、膜厚10
μmの膜を形成し、次にこの感材層を有するガラス基板
を水中に浸漬することにより感材フィルム層をガラス基
板から剥離した。次に感材フィルム層を両面からインデ
ックスマツチング液を介してガラス基板で挟持し、フィ
ルム層を488nmのアルゴンレーザー光で露光後、以
下の(+)及び(2)の工程で順次処理して所望の画像
が記録された透明ホログラムフィルムが得られた。
(1)28℃及び2分間のテトラヒドロフランに浸漬。
(2)28℃及び2分間のn−ヘキサンに浸γ11後、
乾燥。
乾燥。
得られたホログラムフィルムは488nmの波長の光に
対し、約3,000本101111の空間周波数をイf
し、回折効率が85%であり、透過率が80%の体積位
相型ホログラムであった。
対し、約3,000本101111の空間周波数をイf
し、回折効率が85%であり、透過率が80%の体積位
相型ホログラムであった。
実施例2
露光後、感材フィルム層を紙に挟んで現像工程を行う以
外は実施例1と同様の方法を用いてホログラムフィルム
を得た。
外は実施例1と同様の方法を用いてホログラムフィルム
を得た。
得られたホログラムフィルムは488nmのm長の光に
対し、約2.800本/rnrnの空間周波数を有し、
回折効率か80%であり、透過率か80%の体積位相型
ホログラムであった。
対し、約2.800本/rnrnの空間周波数を有し、
回折効率か80%であり、透過率か80%の体積位相型
ホログラムであった。
実施例3
剥離工程において、感材層が塗膜されたガラス基板をダ
イフロンに浸漬することにより感材フィルム層をガラス
基板から剥離した以外は、実施例1と同様の方法を用い
てホログラムフィルムが得られた。
イフロンに浸漬することにより感材フィルム層をガラス
基板から剥離した以外は、実施例1と同様の方法を用い
てホログラムフィルムが得られた。
得られたホログラムフィルム4880mの波長の光に対
し、約3,000本/IIl[I+の空間周波数を有し
、回折効率か79%であり、透過率か79%の体積位相
型ホログラムであった。
し、約3,000本/IIl[I+の空間周波数を有し
、回折効率か79%であり、透過率か79%の体積位相
型ホログラムであった。
実施例4
実施例1の露光時のガラス基板に反射防止膜を有するガ
ラス基板を用いる以外は実施例1と同様の方法を用いて
ホログラムを製造した。
ラス基板を用いる以外は実施例1と同様の方法を用いて
ホログラムを製造した。
得られたホログラムフィルムは488nmの波長の光に
対し、約3,900本/mrnの空間周波数を有し、回
折効率が85%であり、透過率が78%の体積位相型ホ
ログラムであった。
対し、約3,900本/mrnの空間周波数を有し、回
折効率が85%であり、透過率が78%の体積位相型ホ
ログラムであった。
第1図及び第2図は本発明の方法を図解的に示1−図で
ある。 1ニガラス基板 2、インデックスマツチング液 3:感材フィルム 4:反射防止層 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 吉 1)勝 広 第7図 第2図
ある。 1ニガラス基板 2、インデックスマツチング液 3:感材フィルム 4:反射防止層 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 吉 1)勝 広 第7図 第2図
Claims (3)
- (1)感材フィルムに露光及び現像処理を行って体積位
相ホログラムを製造する方法において、露光時、該感材
フィルムをインデックスマッチング液を介してガラス基
板で挟持せしめたことを特徴とする体積位相ホログラム
の製造方法。 - (2)感材フィルムがポリビニルカルバゾール系ポリマ
ーからなる請求項1に記載の体積位相ホログラムの製造
方法。 - (3)ガラス基板が反射防止膜を有する請求項1に記載
の体積位相ホログラムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5629888A JPH01231082A (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | 体積立相ホログラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5629888A JPH01231082A (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | 体積立相ホログラムの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01231082A true JPH01231082A (ja) | 1989-09-14 |
Family
ID=13023213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5629888A Pending JPH01231082A (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | 体積立相ホログラムの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01231082A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0585941A2 (en) * | 1992-09-03 | 1994-03-09 | Nippondenso Co., Ltd. | Process for making holograms and holography device |
US5313317A (en) * | 1991-10-09 | 1994-05-17 | Nippondenso Co., Ltd. | Hologram |
US5453338A (en) * | 1992-03-31 | 1995-09-26 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram and method of and apparatus for producing the same |
US5633100A (en) * | 1991-11-27 | 1997-05-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic imaging using filters |
US7244532B2 (en) * | 2002-10-07 | 2007-07-17 | Tdk Corporation | Holographic recording medium |
-
1988
- 1988-03-11 JP JP5629888A patent/JPH01231082A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5313317A (en) * | 1991-10-09 | 1994-05-17 | Nippondenso Co., Ltd. | Hologram |
US5604611A (en) * | 1991-10-09 | 1997-02-18 | Nippondenso Co., Ltd. | Hologram |
US5633100A (en) * | 1991-11-27 | 1997-05-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic imaging using filters |
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US5660954A (en) * | 1992-03-31 | 1997-08-26 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram and method of and apparatus for producing the same |
US5985490A (en) * | 1992-03-31 | 1999-11-16 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram and method of and apparatus for producing the same |
US6291109B1 (en) | 1992-03-31 | 2001-09-18 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram and method of and apparatus for producing the same |
EP0585941A2 (en) * | 1992-09-03 | 1994-03-09 | Nippondenso Co., Ltd. | Process for making holograms and holography device |
EP0585941A3 (en) * | 1992-09-03 | 1994-09-21 | Nippon Denso Co | Process for making holograms and holography device |
US5898511A (en) * | 1992-09-03 | 1999-04-27 | Nippondenso Co., Ltd. | Process for making holograms and holography device |
US7244532B2 (en) * | 2002-10-07 | 2007-07-17 | Tdk Corporation | Holographic recording medium |
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