JPH01225197A - プリント回路基板の製造方法 - Google Patents

プリント回路基板の製造方法

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JPH01225197A
JPH01225197A JP4977888A JP4977888A JPH01225197A JP H01225197 A JPH01225197 A JP H01225197A JP 4977888 A JP4977888 A JP 4977888A JP 4977888 A JP4977888 A JP 4977888A JP H01225197 A JPH01225197 A JP H01225197A
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JP
Japan
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chemical plating
printed circuit
insulating layer
circuit board
layer
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JP4977888A
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English (en)
Inventor
Yasushi Takeuchi
靖 竹内
Shigenobu Noujiyou
能條 重信
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は金属基材を用いて信頼性の高いプリント回路基
板を製造する方法に関する。
[従来の技術] 近年、プリント回路板として優れた放熱特性を利用した
金属ベース回路基板への期待が高まっているが、金属基
材と導体回路の絶縁化手法には様々な方法が提案されて
いるにもかかわらず、信頼性、経済性の点で充分満足の
いく方法は提案されていない。例えば松下電工(株)(
特許6O−214587)により提案されている方法で
は、高い信頼性を有する回路基板にはなりえるが、スル
ーホール形成基板を作成する場合には、スルーホール孔
を2度あけ直さなくてはならず、経済性の問題、高密度
回路基板を作製する場合の歩留り低下など多くの欠点を
有する。一方、従来その優れた経済性から、電着塗料を
用いて金属基板上に絶縁層形成がなされていたが、特に
化学めっきにより形成された導体回路と電着塗膜の絶縁
材料との密着力が弱いという欠点を有し、信頼性を充分
満足する基板は得られていなかった。
又、金属基板上に直接化学めっき用接着剤を用いて絶縁
槽を形成した場合は、特にピンホール等による絶縁性の
低下という欠点を有していた。
[発明が解決しようとする課題] 本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、電着
塗装のうえに化学めっき用接着剤を用いて、化学めっき
によって形成される導体とを高い密着力で接続させるこ
とにより、配線粒度ならびに、信頼性の高い金属ベース
プリント回路板の製造方法を提供することを目的とする
[課題を解決するための手段] 本発明は下記(1)〜(4)の工程、 (1)金属基材表面に電気泳動法による電着絶縁層を形
成する工程。
(2)上記電着絶縁層上の一部あるいは全面に、化学め
っき用接着剤による絶縁層を形成する工程。
(3)上記(1)、(2)の絶縁層表面を粗面化し、化
学めっきの為の触媒を付与する工程。
(4)触媒が付与された絶縁層表面を化学めっきにより
金属化する工程。
を順次実施することを特徴とするプリント回路基板の製
造方法である。
本発明方法によれば、基板上の電着膜の上にさらに化学
めっき用接着剤層を設けることにより化学めっきによる
金属導体が充分な強度を保って固定される。このような
効果と併せて、絶縁層の示す高い密着力と耐熱性の優れ
た接着材層の形成により、プリント基板において重要な
実装耐熱性が向トし、高信頼性が加えられる。
[実施例] 以下、実施例によりさらに本発明を説明する。
本発明を実施するに当り、前記(1)〜(4)の各工程
ならびに使用材料、実施条件などは公知の手法をそのま
ま適用できる。例えば金属ベース基材としては、アルミ
ニウム、鉄、銅などの単一組成又はそれらの合金が用い
られ、アルミニウムの場合は特に陽極酸化処理を併用す
ることも可能である。電着塗料液としてはエポキシ系、
ポリエステル系、アルキッド系の他にシリコンエマルジ
ョン系、アクリル系、スチレンブタジェン系、酢ビ系な
どのエマルジョンや、水溶性フェノール樹脂ワニス、水
溶性メラミン樹脂などを用いることができる。又、上記
各塗料液を2種以上混合した複合系の塗料液を用いる事
もできる。
化学、めっき用接着剤としては、エポキシ系、フェノー
ル系、メラミン系、ゴム系、又はそれらの複合系、さら
には各種充てん剤を加えた接着剤を用いることができる
。化学めっき用接着剤は電着絶縁層の所望の一部または
全面に、公知方法、例えばカーテンコート法などにより
塗布される。
絶縁層の粗面化の方法としては、硫酸、塩酸、クロム酸
、硝酸、過塩素酸、塩素酸、はう弗酸等の単独又は混酸
中に、絶縁層を形成した基板を浸漬する方法がとられる
化学めっきのための触媒は、めっき金属の種類に応じて
適宜選択されるが、代表的なものとしては塩化パラジウ
ムが挙げられる。
化学めっき液としては、化学銅、化学ニッケル等が用い
られる。この場合必要に応じて化学めっきの後電気めっ
きを併用して導電層の厚さを調節することも可能である
[実施例1] 第1図は本発明方法により製造したプリント回路基板の
1例を示す模式的断面図である。
アルミニウム基材1を10%硫酸中で陽極酸化して約1
0μmのアルマイト皮膜2を形成し、さらに、アクリル
−メラミン系アニオン電着塗装液(ハニー化成(株)製
:AL−80ON)を用いて150V−1分間型着し、
電着皮膜3の20μmを得た。この電着皮膜3を180
℃−30分で硬化させた後、この上の全面に化学めっき
用接着剤(ACIジャパン(株)製:工ヴアーグリップ
754)をカーテンコート法で塗布し、170℃−1時
間で硬化して化学めっき用接着剤層4(絶縁層)を形成
した。
上記絶縁層を形成した基板をクロム酸65g/2、硫酸
225 m l / 11の混酸に45℃−5分間浸漬
し、絶縁層を粗面化した後化学めっき用触媒液(日たち
化成(株)製:)ISIOIB)に10分間浸漬し、触
媒付与した。
続いて、めっきレジスト(東京応化(株)製:0BZ−
4000)をスクリーン印刷し、150”C−1時間硬
化させて所望の回路パターンを形成した後、硫酸銅10
g/fi、EDTA−4Na30g/立、ホルマリン3
 m n / uからなるpH=12.5の化学銅めっ
き液に浸漬し、70℃−10時間めっきを行ない化学め
っき皮膜5として銅箔厚30μmの導体回路をもつプリ
ント回路基板を作製した。
[実施例2] 化学めっき用接着剤として、エポキシ樹脂(油化シェル
(株)製:エピコート1007 ) 40 jli量部
、メラミン樹脂20重量部、NBR(グツドリッチ(株
)製:ハイカー1072)粉末シリカ20重は部をME
K、トルエンにフェス調合した物を用いた以外は実施例
1と同様にしてプリント回路基板を作製した。
[実施例3] 化学めっき用接着剤として、エポキシ樹脂■(東部化成
(株)製:YDCN701)10重量部、エポキシ樹脂
■(東部化成(株)製:YDOll)40重量部、NB
R(日本上オン(株)製:N1pol−1072)50
重量部、ジアミノジフェニルメタン1ffl量部、炭酸
カルシウム微粉末50重量部をMEK、MIBK、シク
ロヘキサノンにフェス調合した物を用いた以外は、実茄
例1と同様にしてプリント回路基板を作製した。
[比較例1] 化学めっき用接着剤による絶縁層を形成しなかった以外
は、実施例1と同様にしてプリント回路基板を作製した
以上述べた各個では、それぞれ5枚の回路基板を作製し
、導体のはく超強度、電気絶縁抵抗、はんだ耐熱試験を
行なった。評価結果を表1に示した。
表よりわかるように、本発明方法により製造したプリン
ト回路基板は、はく超強度、耐熱性、電気絶縁抵抗性に
優れている。
[実施例4] 本発明による絶縁層形成方法は、スルーホール孔、壁部
にも充分応用可能である。第2図は本発明方法により作
製した、スルーホールを有するプリント回路基板の1例
を示す模式的断面図である。
アルミニウム基材1の必要部にスルーホールをNCドリ
ルを用いてあけた後、実施例と同様にして10μmのア
ルマイト皮膜2を形成し、さらにその上に20μmの電
着皮膜3を形成した。その後化学めっき用接着剤をカー
テンコート法で塗布して化学めっき用接着剤層4を形成
し、続いて基材を減圧槽に投入し、スルーホール内壁に
も均一に化学めっき用接着剤を塗布した後、硬化して接
着剤層4を形成した。以下実施例1と同様に粗面化、触
媒処理、パターニング、化学めっきを施し、回路基板を
得た。
得られた回路基板は、スルーホール信頼性、電気絶縁性
、はんだ耐熱性、はく離強度に優れた基板であった。
[発明の効果] 以上説明したように基板上の電着膜の上にさらに化学め
っき用接着剤を形成することにより、■基材と導体金属
の密着力が向上し、はく離強度耐熱性、電気絶縁抵抗性
に優れたプリント回路基板を製造し得る。
■スルーホール基板においては2度孔あけする必要か無
く、製造コストを下げることが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明方法により作製したプリント回路基板
の1例を示す模式的断面図、第2図は、本発明方法によ
り作製したスルーホールを有するプリント回路基板の1
例を示す模式的断面図である。 1・・・アルミ基材、  2・・・アルマイト皮膜、3
・・・電着塗装皮膜、 4・・・化学めっき用接着剤層、 5・・・化学めっき皮11L

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.下記(1)から(4)の工程を順次実施することを
    特徴とするプリント回路基板の製造方法。 (1)金属基材表面に電気泳動法による電着絶縁層を形
    成する工程。
  2. (2)前記電着絶縁層の一部あるいは全面に、化学めつ
    き用接着剤による絶縁層を形成する工程。
  3. (3)前記電着絶縁層および化学めつき用接着剤による
    絶縁層の表面を粗面化し、化学めつきのための触媒を付
    与する工程。
  4. (4)触媒が付与された絶縁層表面を化学めつきにより
    金属化する工程。
JP4977888A 1988-03-04 1988-03-04 プリント回路基板の製造方法 Pending JPH01225197A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6266874B1 (en) 1994-07-19 2001-07-31 Tessera, Inc. Methods of making microelectronic components having electrophoretically deposited layers
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US7114250B2 (en) 1998-02-09 2006-10-03 Tessera, Inc. Method of making components with releasable leads
US6492201B1 (en) 1998-07-10 2002-12-10 Tessera, Inc. Forming microelectronic connection components by electrophoretic deposition
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