JPH01215591A - 平版印刷支持体の粗面化方法 - Google Patents
平版印刷支持体の粗面化方法Info
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- JPH01215591A JPH01215591A JP4100888A JP4100888A JPH01215591A JP H01215591 A JPH01215591 A JP H01215591A JP 4100888 A JP4100888 A JP 4100888A JP 4100888 A JP4100888 A JP 4100888A JP H01215591 A JPH01215591 A JP H01215591A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 238000007788 roughening Methods 0.000 title claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title description 2
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 claims abstract description 39
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 20
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001416149 Ovis ammon Species 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011328 necessary treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は平版印刷版支持体の製造に係り、より詳細には
、2段電解エツチング法によって大波、小波からなる2
重構造を有する粗面を備えた平版印刷版支持体を得る粗
面化方法に関する。
、2段電解エツチング法によって大波、小波からなる2
重構造を有する粗面を備えた平版印刷版支持体を得る粗
面化方法に関する。
(従来の技術)
平版印刷版支持体として用いられているAQ又はA2合
金板(以下、「アルミニウム板」という)は、印刷時の
湿し水に対する親水性や感光層との接着性を改善するた
めに、従来より、ブラシホーニングなどの機械的粗面化
法や酸又はアルガリ溶液による化学的エツチング法、或
いは電解エツチング法等々により、予め粗面化され、支
持体として使用されている。
金板(以下、「アルミニウム板」という)は、印刷時の
湿し水に対する親水性や感光層との接着性を改善するた
めに、従来より、ブラシホーニングなどの機械的粗面化
法や酸又はアルガリ溶液による化学的エツチング法、或
いは電解エツチング法等々により、予め粗面化され、支
持体として使用されている。
ところで、粗面化されたアルミニウム板の凹凸の形状は
、印刷版としての製版性能並びに印刷性能への影響が大
きく、その形状をコントロールすることか極めて重要で
ある。
、印刷版としての製版性能並びに印刷性能への影響が大
きく、その形状をコントロールすることか極めて重要で
ある。
すなわち、良好な画像再現性、解像力が要求される支持
体としては、比較的細かく、浅い凹み乃至ピット(孔径
2〜7μm、深さ1μm以下)が緻密に存在する形状の
ものが適しており、このようなピットはいわゆる小波と
称されている(第1図(b)参照)、一方、保水性や高
耐刷力等の優れた耐刷性が要求される支持体としては、
ピットが均一で。
体としては、比較的細かく、浅い凹み乃至ピット(孔径
2〜7μm、深さ1μm以下)が緻密に存在する形状の
ものが適しており、このようなピットはいわゆる小波と
称されている(第1図(b)参照)、一方、保水性や高
耐刷力等の優れた耐刷性が要求される支持体としては、
ピットが均一で。
比較的深いピット(孔径15〜35μm、深さ1〜5μ
m)が適しており、このようなピットはいわゆる大波と
称されている(第1図(a)参照)。
m)が適しており、このようなピットはいわゆる大波と
称されている(第1図(a)参照)。
このように、支持体に要求される性能によって形成すべ
き粗面形状の性状が異なるが、近年、大波に重畳して小
波を形成させたいわゆる2重構造の粗面とすることによ
り、耐刷性及び画像再現性の両者が共に優れた性能を兼
備した平版印刷版支持体が開発されるようになった。
き粗面形状の性状が異なるが、近年、大波に重畳して小
波を形成させたいわゆる2重構造の粗面とすることによ
り、耐刷性及び画像再現性の両者が共に優れた性能を兼
備した平版印刷版支持体が開発されるようになった。
この2重構造を有する粗面を得る方法としては様々な方
法が提案されているが、大別すると、■機械的粗面化を
図った後に電解エツチングを行う方法(例、特開昭53
−145701号、特公昭54−63902号、特開昭
59−18967号、特開昭60−36195号)、■
合金組成の改良による方法(例、特開昭59−1333
55〜6号)、02段電解エツチング法(例、特開昭6
0−190392号、特公昭56−51119号)など
がある。
法が提案されているが、大別すると、■機械的粗面化を
図った後に電解エツチングを行う方法(例、特開昭53
−145701号、特公昭54−63902号、特開昭
59−18967号、特開昭60−36195号)、■
合金組成の改良による方法(例、特開昭59−1333
55〜6号)、02段電解エツチング法(例、特開昭6
0−190392号、特公昭56−51119号)など
がある。
(発明が解決しようとする課題)
しかし、機械的粗面化の後に電解エツチングを行う上記
■の方法は、一般に製造プロセスが複雑となり、製造コ
ストが高くなるという問題がある。
■の方法は、一般に製造プロセスが複雑となり、製造コ
ストが高くなるという問題がある。
更には、ブラシ研磨、粗面化ロールによる圧延などで粗
面化する方法では、粗面化時に摩耗粉の発生が多く、摩
耗粉の埋込みなどを除去する必要が生じるほか、粗面化
に方向性が生じ、後の電解エツチングでしばしばエツチ
ングムラの発生原因となることがあり1品質上の安定性
に欠けるという問題がある。
面化する方法では、粗面化時に摩耗粉の発生が多く、摩
耗粉の埋込みなどを除去する必要が生じるほか、粗面化
に方向性が生じ、後の電解エツチングでしばしばエツチ
ングムラの発生原因となることがあり1品質上の安定性
に欠けるという問題がある。
また、上記■の方法に関しては、Mg、Cuなどの合金
元素の添加によるエツチング形態の改善は強度アップな
どの効果も期待されるというメリットはあるが、通常用
いられている1050.1100などの純アルミニウム
に比較すると、AQマトリックス中での合金元素の析出
や固溶状態によってエツチング性が変動し、エツチング
性の安定性に欠けるという問題がある。また、通常のエ
ツチング条件を適用するだけでは均一な2重構造が得に
くいので、前述の機械的粗面化法とエツチング法とを組
合せた方法が適用されている。
元素の添加によるエツチング形態の改善は強度アップな
どの効果も期待されるというメリットはあるが、通常用
いられている1050.1100などの純アルミニウム
に比較すると、AQマトリックス中での合金元素の析出
や固溶状態によってエツチング性が変動し、エツチング
性の安定性に欠けるという問題がある。また、通常のエ
ツチング条件を適用するだけでは均一な2重構造が得に
くいので、前述の機械的粗面化法とエツチング法とを組
合せた方法が適用されている。
一方、上記■の2段電解エツチングにより大波と小波か
らなる複合波の2重構造をもつ粗面を形成する方法とし
ては、例えば、塩酸を主成分として含む電解液中でエツ
チングして大波を形成した後、硝酸を主成分として含む
電解液中でエツチングして微小波を重畳して形成し、2
重構造を形成する方法が提案されている。しかし、この
方法では2種類の電解液を使用するために製造プロセス
が複雑となり、製造コストが高くなるという問題があり
、特に塩酸系電解液での電解エツチングでは比較的厚い
スマット皮膜を生じるのでデスマット処理を行うことが
必須となり、付加的工程が必要とされる。また2種類の
成分の電解液を管理することは困難であり、液の混合が
生じたり、エツチング形態が変動する等の開運もある。
らなる複合波の2重構造をもつ粗面を形成する方法とし
ては、例えば、塩酸を主成分として含む電解液中でエツ
チングして大波を形成した後、硝酸を主成分として含む
電解液中でエツチングして微小波を重畳して形成し、2
重構造を形成する方法が提案されている。しかし、この
方法では2種類の電解液を使用するために製造プロセス
が複雑となり、製造コストが高くなるという問題があり
、特に塩酸系電解液での電解エツチングでは比較的厚い
スマット皮膜を生じるのでデスマット処理を行うことが
必須となり、付加的工程が必要とされる。また2種類の
成分の電解液を管理することは困難であり、液の混合が
生じたり、エツチング形態が変動する等の開運もある。
また2段階に電流密度を分けてエツチングする方法も提
案されているが、装置上の制約があり、性能上必要な2
重構造が得られない場合がある。
案されているが、装置上の制約があり、性能上必要な2
重構造が得られない場合がある。
本発明は、電解エツチングによる2重構造の形成に関す
る上記従来技術の問題を解決するためになされたもので
あって、簡易な製造プロセスによって大波と小波からな
る均一な2重構造を有する粗面を安定して形成でき、ま
た種々の要求特性にも対応できる性状の粗面化が可能な
方法を提供することを目的とするものである。
る上記従来技術の問題を解決するためになされたもので
あって、簡易な製造プロセスによって大波と小波からな
る均一な2重構造を有する粗面を安定して形成でき、ま
た種々の要求特性にも対応できる性状の粗面化が可能な
方法を提供することを目的とするものである。
(課題を解決するための手段)
上記目的を達成するために、本発明者は、従来法による
異なった成分を含む2種類の電解液を用いる工程や、そ
の他各種電解条件を変更する方法では製造プロセスの簡
易化が困難であることから。
異なった成分を含む2種類の電解液を用いる工程や、そ
の他各種電解条件を変更する方法では製造プロセスの簡
易化が困難であることから。
同一成分を使用することを前提とし、この前提のもとで
大波及び小波を良好に形成できる粗面化方法を見い出す
べく鋭意研究を重ねた。
大波及び小波を良好に形成できる粗面化方法を見い出す
べく鋭意研究を重ねた。
その結果、同一種類成分からなる電解液を使用し、その
成分の濃度を2段階に区分することにより、均一な2重
構造を持つ粗面が容易に得られることを見い出し、ここ
に本発明をなしたものである。
成分の濃度を2段階に区分することにより、均一な2重
構造を持つ粗面が容易に得られることを見い出し、ここ
に本発明をなしたものである。
すなわち、本発明に係る平版印刷版支持体の粗面化方法
は、印刷版を電解エツチングにより粗面化するに際し、
電解エツチング液成分の種類を変えずに濃度を2段階に
区分し、まず第1次の電解エツチングにおいて比較的大
きな孔径15〜35μmのピットを形成し、引き続き第
2次の電解エツチングにおいて孔径2〜7μ謹の微小ピ
ットを前記ピットに重畳して形成することにより、2重
構造を有し、かつ、中心線平均粗さRa=0.5〜1.
5μmの粗面を得ることを特徴とするものである。
は、印刷版を電解エツチングにより粗面化するに際し、
電解エツチング液成分の種類を変えずに濃度を2段階に
区分し、まず第1次の電解エツチングにおいて比較的大
きな孔径15〜35μmのピットを形成し、引き続き第
2次の電解エツチングにおいて孔径2〜7μ謹の微小ピ
ットを前記ピットに重畳して形成することにより、2重
構造を有し、かつ、中心線平均粗さRa=0.5〜1.
5μmの粗面を得ることを特徴とするものである。
以下に本発明を更に詳細に説明する。
電解液エツチング液としては一般に用いられている硝酸
が好ましいが、他のエツチング液でも可能である。
が好ましいが、他のエツチング液でも可能である。
硝酸の場合を例にとり、第1次の大波の形成条件並びに
第2次の微小波の形成条件を説明するが、他のエツチン
グ液の場合も同様の要領で成分濃度を2段階に適宜調整
すればよい。
第2次の微小波の形成条件を説明するが、他のエツチン
グ液の場合も同様の要領で成分濃度を2段階に適宜調整
すればよい。
まず、第1次の大波の形成条件としては、0゜4〜1.
2%濃度のHNO3水溶液が望ましい、0゜4%以下の
低濃度であると大波が形成し易くなるが、エツチング形
成がむらになり易く、均一性にかけ、また、1.2%を
超えると小波が形成し易くなり、電解条件を種々変えて
も大波の形成が困難になるので、望ましくない。
2%濃度のHNO3水溶液が望ましい、0゜4%以下の
低濃度であると大波が形成し易くなるが、エツチング形
成がむらになり易く、均一性にかけ、また、1.2%を
超えると小波が形成し易くなり、電解条件を種々変えて
も大波の形成が困難になるので、望ましくない。
また、第2次の微小波の形成条件としては、1゜2〜5
.0%HNO,濃度の範囲が望ましい。1゜2%以下で
あると大波が形成し易くなり、電解条件を種々変えても
微小波の形成が困難になり、また5、0%以上のHNO
,濃度にしても、却ってエツチングむらが生じやすくな
るので、望ましくない。
.0%HNO,濃度の範囲が望ましい。1゜2%以下で
あると大波が形成し易くなり、電解条件を種々変えても
微小波の形成が困難になり、また5、0%以上のHNO
,濃度にしても、却ってエツチングむらが生じやすくな
るので、望ましくない。
この場合、第1次の電解エツチングにより形成する大波
としては、ピット孔径が15〜35μl、好ましくは2
0〜30μmの範囲とする。15μm以下であると保水
性や耐刷性が不充分であり、35μ鳳以上にしても保水
性や耐刷性に対して効果が飽和し、却って解像力に対し
て弊害を生じることになる。なお、深さは1〜5μmが
望ましい。
としては、ピット孔径が15〜35μl、好ましくは2
0〜30μmの範囲とする。15μm以下であると保水
性や耐刷性が不充分であり、35μ鳳以上にしても保水
性や耐刷性に対して効果が飽和し、却って解像力に対し
て弊害を生じることになる。なお、深さは1〜5μmが
望ましい。
また、第2次の電解エツチングにより形成する小波とし
ては、ピット孔径が2〜7μm、好ましくは3〜5μm
の範囲とする。7μm以上であると画像再現性が低下し
、解像力が劣り、2μm以下にしても画像再現性の向上
効果が飽和する。なお、深さは1μI以下が望ましい。
ては、ピット孔径が2〜7μm、好ましくは3〜5μm
の範囲とする。7μm以上であると画像再現性が低下し
、解像力が劣り、2μm以下にしても画像再現性の向上
効果が飽和する。なお、深さは1μI以下が望ましい。
中心線平均粗さRa(JIS BO601に従い測定
される表面粗さ)は0.5〜1.5μm、好ましくは0
.8〜1.2μ■の範囲とする。Raが0.5μm以下
であると保水性、耐刷性が不充分であり、また1、5μ
m以上であると画像再現性が低下する。
される表面粗さ)は0.5〜1.5μm、好ましくは0
.8〜1.2μ■の範囲とする。Raが0.5μm以下
であると保水性、耐刷性が不充分であり、また1、5μ
m以上であると画像再現性が低下する。
以上の如く、電解エツチング液の成分濃度だけを変化さ
せて、第1次電解エツチング、第2次電解エツチングを
行う態様が容易であり、好ましい。
せて、第1次電解エツチング、第2次電解エツチングを
行う態様が容易であり、好ましい。
なお、電解エツチング液の成分濃度を2段階に区分して
変える限りにおいては、電流密度、周波数、液温等の複
数の条件を適宜組合せて第1次及び第2次の各電解エツ
チングを行う態様も可能であることを云うまでもない。
変える限りにおいては、電流密度、周波数、液温等の複
数の条件を適宜組合せて第1次及び第2次の各電解エツ
チングを行う態様も可能であることを云うまでもない。
なお、平版印刷版支持体としては、この種の用途に用い
られている純AQ或いはAQ合金等の材質であればよく
、特に制限されない。また第1次電解エツチングを実施
するに先立って、必要に応じて脱脂処理、表面清浄化処
理などを行い、また粗面化処理後には陽極酸化処理等々
の所要の処理を施すことは、従来と同様である。
られている純AQ或いはAQ合金等の材質であればよく
、特に制限されない。また第1次電解エツチングを実施
するに先立って、必要に応じて脱脂処理、表面清浄化処
理などを行い、また粗面化処理後には陽極酸化処理等々
の所要の処理を施すことは、従来と同様である。
次に本発明の実施例を示す。
(実施例)
通常印刷版として使用されるアルミニウム冷間板(10
50)、板厚0.29mmのものを用い、これを前処理
として50℃の3%NaOH水溶液中に30秒間浸漬し
、表面を清浄にした後、30%HNO,にて中和水洗処
理を行った。
50)、板厚0.29mmのものを用い、これを前処理
として50℃の3%NaOH水溶液中に30秒間浸漬し
、表面を清浄にした後、30%HNO,にて中和水洗処
理を行った。
次いで、第1表に示す種々の電解エツチング条件により
第1次電解エツチングを行い、引き続き第2次電解エツ
チングを行った後、走査電子顕微鏡及び触針式表面粗さ
計によりエツチング表面状況を調査し、中心平均粗さR
aを調べ、更に複合波の有無を調べると共に均一性、大
波、小波の各平均ピット径を調べた。それらの結果を第
1表に併記する。
第1次電解エツチングを行い、引き続き第2次電解エツ
チングを行った後、走査電子顕微鏡及び触針式表面粗さ
計によりエツチング表面状況を調査し、中心平均粗さR
aを調べ、更に複合波の有無を調べると共に均一性、大
波、小波の各平均ピット径を調べた。それらの結果を第
1表に併記する。
なお、電解エツチングは定電流法にて行い、電流密度は
60A/dm”、液温25℃、周波数は正弦波形50H
z、通電時間は15秒といずれも一定にした。
60A/dm”、液温25℃、周波数は正弦波形50H
z、通電時間は15秒といずれも一定にした。
第1表より明らかなとおり、本発明例はいずれも、粗面
として所望性状の大波、小波からなる均一な複合波(第
1図(e)参照)を有し、良好な中心線平均粗さRaを
有している。一方、比較例のものは、複合波が得られな
かったり、複合波が得られても均一性に劣っている等の
問題がある。
として所望性状の大波、小波からなる均一な複合波(第
1図(e)参照)を有し、良好な中心線平均粗さRaを
有している。一方、比較例のものは、複合波が得られな
かったり、複合波が得られても均一性に劣っている等の
問題がある。
【以下余白1
(発明の効果)
以上詳述したように、本発明によれば、平版印刷版支持
体の粗面化に際し、同一成分からなる電解エツチング液
の成分濃度を2段階に区分し、第1次エツチングにより
大波を形成し、引き続く第2次エツチングにより微小波
を前記大波に重畳して形成するようにしたので、所望性
状の大波、小波からなる均一な2重構造を有し1、かつ
良好な中心線平均粗さを有する粗面を形成することがで
きる。
体の粗面化に際し、同一成分からなる電解エツチング液
の成分濃度を2段階に区分し、第1次エツチングにより
大波を形成し、引き続く第2次エツチングにより微小波
を前記大波に重畳して形成するようにしたので、所望性
状の大波、小波からなる均一な2重構造を有し1、かつ
良好な中心線平均粗さを有する粗面を形成することがで
きる。
しかも、濃度が異なった電解エツチング液を用いるだけ
であるので、装置上の制約もなく、製造プロセスが簡易
となり、またメンテナンス上の問題もないので、低コス
トで粗面化が可能であり、また種々の要求特性の粗面化
に対しても対応が容易である。
であるので、装置上の制約もなく、製造プロセスが簡易
となり、またメンテナンス上の問題もないので、低コス
トで粗面化が可能であり、また種々の要求特性の粗面化
に対しても対応が容易である。
第1図(a)、 (b)、(c)は電解エツチングによ
る粗面状況を示す図で、(a)は大波、(b)は小波、
(c)は複合波を示している。 第1図 子しI憂
る粗面状況を示す図で、(a)は大波、(b)は小波、
(c)は複合波を示している。 第1図 子しI憂
Claims (3)
- (1)印刷版を電解エッチングにより粗面化するに際し
、電解エッチング液成分の種類を変えずに濃度を2段階
に区分し、まず第1次の電解エッチングにおいて比較的
大きな孔径15〜35μmのピットを形成し、引き続き
第2次の電解エッチングにおいて孔径2〜7μmの微小
ピットを前記ピットに重畳して形成することにより、2
重構造を有し、かつ、中心線平均粗さRa=0.5〜1
.5μmの粗面を得ることを特徴とする平版印刷版支持
体の粗面化方法。 - (2)硝酸系エッチング液において、第1次電解エッチ
ング液の硝酸濃度を第2次電解エッチング液のそれより
も小さくなるように調整する特許請求の範囲第1項記載
の方法。 - (3)第1次電解エッチングの硝酸濃度を0.4〜1.
2%とし、第2次電解エッチングの硝酸濃度を1.2〜
5.0%の範囲に調整する特許請求の範囲第2項記載の
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4100888A JPH01215591A (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 平版印刷支持体の粗面化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4100888A JPH01215591A (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 平版印刷支持体の粗面化方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01215591A true JPH01215591A (ja) | 1989-08-29 |
Family
ID=12596361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4100888A Pending JPH01215591A (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 平版印刷支持体の粗面化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01215591A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0411259A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
WO2011055465A1 (ja) * | 2009-11-09 | 2011-05-12 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ、及び真空排気方法 |
CN102743894A (zh) * | 2011-04-20 | 2012-10-24 | 住友重机械工业株式会社 | 冷阱及真空排气装置 |
US8572988B2 (en) | 2010-02-19 | 2013-11-05 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Cold trap and vacuum evacuation apparatus |
-
1988
- 1988-02-24 JP JP4100888A patent/JPH01215591A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0411259A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
WO2011055465A1 (ja) * | 2009-11-09 | 2011-05-12 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ、及び真空排気方法 |
CN102686880A (zh) * | 2009-11-09 | 2012-09-19 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵及真空排气方法 |
JP5679218B2 (ja) * | 2009-11-09 | 2015-03-04 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ、クライオポンプの製造方法、及び真空排気方法 |
CN102686880B (zh) * | 2009-11-09 | 2015-05-13 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵及真空排气方法 |
US9032741B2 (en) | 2009-11-09 | 2015-05-19 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Cryopump and vacuum pumping method |
US8572988B2 (en) | 2010-02-19 | 2013-11-05 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Cold trap and vacuum evacuation apparatus |
CN102743894A (zh) * | 2011-04-20 | 2012-10-24 | 住友重机械工业株式会社 | 冷阱及真空排气装置 |
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