JPH01215021A - 位置合わせ方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 光学的位置合わせ方法の改良に関し、 簡単且つ容易に実施し得る方法により、精度の高い位置
合わせを行うことが可能な位置合わせ方法の提供を目的
とし、 光学的手段により行う位置合わせにおいて、ウェーハを
移動させて位置合ねせを行う場合に、該ウェーハの移動
が等速度の範囲内で位置合わせを行い、光学系に振動の
影響を与えないよう構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、位置合わせ方法に係り、特に光学的位置合わ
せ方法の改良に関するものである。

Ｘ線描画成いはレーザ光線描画等を行う工程において、
光学的手段を用いて位置合わせを行う場合に、光源を移
動せずに、例えば、リニアフレネルレンズを光学的に移
動して走査すると、光源からウェーハ面までの距離が変
化するので、光学的制約から走査範囲が小さくなり、マ
ークを捜すのが困難になる。

このため光学的制約を受けずに広範囲にわたってマーク
を捜すことができるようにウェーハを移動している。

しかしながら、この場合には、ウェーハを移動するため
にウェーハを載置したＸ−Ｙステージを移動することに
なるが、Ｘ−Ｙステージを移動すると、この移動に際し
雷発生する振動が、位置合わせの光学系に機械的振動を
与え、位置合わせ信号にノイズを発生させため、位置合
わせ精度が著しく低下している。

以上のような状況から、ウェーハを移動するための手段
により発生する機械的振動に起因する、位置合わせ信号
のノイズの発生を防止することが可能な、精度の高い位
置合わせ方法が要望されている。

〔従来の技術〕

従来の位置合わせ方法を第２図、第４図、第５図により
レーザ光線描画装置の場合について説明する。

第２図に示すように、レーザ光線描画装置は防振台ｌの
上に光源保持部３及びマスク保持部５とを設け、それぞ
れ光源２及びマスク４を保持している。

防振台ｌの中央部にはＸ−Ｙステージ６を設け、Ｘ−Ｙ
ステージ６の上にはウェーハ８を載置している。

位置合わせを行うには、第４図に示すように、光源２か
ら照射され、ハーフミラ−９を透過し、ミラーｌＯで反
射したレーザ光線は、ウェーハ８の面上に設けたマーク
８ａで反射し、照射路を逆進してミラー１０．ハーフミ
ラ−９及びミラー１１で反射し、検出器１２に到達して
検出されるようになっている。

位置合わせのために移動するｘ−Ｙステージ６のタイム
チャートは第５図に示すようなものであるが、従来の技
術においては図に示すように、位置合わせマークのある
範囲とこの微動Ｘ−Ｙステージ７の移動範囲が等しくな
るようＸ−Ｙステージ６を移動させている。

〔発明が解決しようとする課題〕

以上説明の従来の位置合わせ方法においては、Ｘ−Ｙス
テージの移動による機械的な振動に起因する位置合わせ
信号のノイズが発生するという問題点があった。

即ち、位置合わせマークのある範囲とＸ−Ｙステージの
移動範囲が等しくなるようＸ−Ｙステージを移動させて
いるので、Ｘ−Ｙステージの移動方向が逆方向になる部
分では加速度が生じ、それに対する反力がＸ−Ｙステー
ジに加わり、Ｘ−Ｙステージが機械的に振動し、そのた
めに位置合わせ信号にノイズが発生して位置合わせ精度
が低下するのである。

本発明は以上のような状況から簡単且つ容易に実施し得
る方法により、精度の高い位置合わせを行うことが可能
な位置合わせ方法の提供を目的としたものである。

〔課題を解決するための手段〕

上記問題点は、光学的手段により行う位置合わせにおい
て、ウェーハを移動させて位置合わせを行う場合に、こ
のウェーハの移動範囲の内、このウェーハの移動方向反
転時を除く移動速度が等速度の範囲を位置合わせマーク
のある範囲として用いて光学系に機械的振動を与えない
、このウェーハの粗の移動をｘ−Ｙステージで行い、微
小の移動を激動Ｘ−Ｙステージを用いて行う本発明によ
る位置合わせ方法によって解決される。

〔作用〕

即ち本発明においては、ウェーハを移動させて位置合わ
せを行う場合に、このウェーハの移動範囲の内、このウ
ェーハの移動方向反転時を除く移動速度が等速度の範囲
のみを、位置合わせマークのある範囲として用いて光学
系に振動を与えないようにし、このウェーハの移動の内
、粗の移動はＸ−Ｙステージを用いて行い、微小の移動
は微動Ｘ−Ｙステージを用いて行うので、精度の高い位
置合わせを行うことが可能となる。

〔実施例〕

以下第１図〜第４図について本発明の一実施例をレーザ
光線描画装置の場合について説明する。

第２図に示すように、レーザ米線描画装置は防振台ｌの
上に光源保持部３及びマスク保持部５とを設け、それぞ
れ光源２及びマスク４を保持している。

防振台ｌの中央部には第３図に示すように、微動Ｘ−Ｙ
ステージ７を内蔵するＸ−Ｙステージ６を設け、微動ｘ
−Ｙステージ７の上にはウェーハ８を載置している。

第３図に示すＸ−Ｙステージ６の移動はモータ６ａによ
りネジで行い、懸架部６ｂで保持される微動Ｘ−Ｙステ
ージ７の移動は圧電素子を用いて行っている。

位置合わせを行うには、第４図に示すように、光源２か
ら照射され、ハーフミラ−９を透過し、ミラー１０で反
射したレーザ光線は、ウェーハ８の面上に設けたマーク
８ａで反射し、照射路を逆進してミラー１０．ハーフミ
ラ−９及びミラー１１で反射し、検出器１２に到達して
検出されるようになっている。

位置合わせのために移動する微動Ｘ−Ｙステージ７のタ
イムチャートは第１図に示すようなものとなるが、本発
明においては図に示すように、位置合わせマークのある
範囲がこの　イムチャー１・の直線部になるよう微動Ｘ
−Ｙステージ７を大きな範囲に移動させている。

このように、位置合わせのためのＸ−Ｙステージ６に微
動Ｘ−Ｙステージ７を内蔵させ、Ｘ−Ｙステージ６の移
動範囲の内の等速度の部分をマーク８ａの位置合わせに
用いるようにＸ−Ｙステージ６の移動範囲を広くとるの
で、従来は０．５μｍであった位置精度が、本実施例で
は０．１μｍとなり、位置合わせ精度が著しく向上した
。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように本発明によれば極めて容
易に調達できる微動Ｘ−ＹステージをＸ−Ｙステージに
内蔵し、Ｘ−Ｙステージの等速移動部分を用いる位置合
わせを行うことができ、高精度の位置合わせが可能とな
る等の利点があり、著しい経済的及び、信顛性向上の効
果が期待でき工業的には極めて有用なものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による一実施例を示すタイムチャート、 第２図はレーザ光線描画装置の概略構成図、第３図はＸ
−Ｙステージ及び微動Ｘ−Ｙステージを示す平面図、 第４図はレーザ光線の照射及び反射状況を示す詳細図、 第５図は従来のステージの移動状態を示すタイムチャー
ト、 である。 図において、 ｌは防振台、 ２は光源、 ３は光源保持部、 ４はマスク、 ５はマスク保持部、 ６はＸ−Ｙステージ、 ６ａはモータ、 ６ｂは懸架部、 ７は微動Ｘ−Ｙステージ、 ７ａは圧電素子、 ８はウェーハ、 ８ａはマーク、 ９はハーフミラ−１ １０はミラー、 １１はミラー、 １２は検出器、 時　　間 本発明による一実施例を示すタイムチャート第１図 レーザ光線描画装置の概略構成図 第２図 ｘ−Ｙステージ及び微動Ｘ−Ｙステージを示す平面図第
３図 レーザ光線の照射及び反射状況を示す詳細図第４図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）光学的手段により行う位置合わせにおいて、ウェ
   ーハ（８）を移動させて位置合わせを行う場合に、該ウ
   ェーハ（８）の移動が等速度の範囲内で位置合わせを行
   い、光学系に振動の影響を与えないことを特徴とする位
   置合わせ方法。
2. （２）前記ウェーハ（８）の移動範囲の内、前記ウェー
   ハ（８）の移動方向反転時を除く移動速度が等速度の範
   囲を位置合わせマークのある範囲として用いる請求項１
   記載の位置合わせ方法。
3. （３）前記ウェーハ（８）の粗の移動をＸ−Ｙステージ
   （６）で行い、微小の移動を微動Ｘ−Ｙステージ（７）
   を用いて行う請求項１記載の位置合わせ方法。