JPH04299206A - 超高精度三次元測定機 - Google Patents
超高精度三次元測定機Info
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- JPH04299206A JPH04299206A JP6432791A JP6432791A JPH04299206A JP H04299206 A JPH04299206 A JP H04299206A JP 6432791 A JP6432791 A JP 6432791A JP 6432791 A JP6432791 A JP 6432791A JP H04299206 A JPH04299206 A JP H04299206A
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims abstract description 53
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 23
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、非球面レンズの形状や
超ＬＳＩの寸法等を測定する為に必要な、０．１μｍか
ら０．０１μｍの高精度で測定可能な、超高精度三次元
測定機に関する。
超ＬＳＩの寸法等を測定する為に必要な、０．１μｍか
ら０．０１μｍの高精度で測定可能な、超高精度三次元
測定機に関する。
【０００２】
【従来の技術】０．１μｍから０．０１μｍ程度の測定
精度が必要な場合には、従来から、測定用スケール設定
手段及び測定手段として、レーザ及び光干渉を利用した
各種の光学システムが使用されている。例えば、測定用
スケール設定手段としてはレーザが使用され、測定手段
としては光干渉計が使用されている。これらの測定用ス
ケール設定手段及び測定手段は、そのもの自体の測定精
度は、充分に、前記の０．１μｍから０．０１μｍ程度
の測定精度を満足する。しかし、測定用スケール設定手
段及び測定手段を取り付けた測定機の機構側に問題点が
あり、例えば、前記測定用スケール設定手段及び測定手
段をＸ、Ｙ、Ｚ軸方向に移動させる場合の真直度を１μ
ｍ以下にすることが困難であること、測定機の機械的歪
の影響を除去できないこと等のために誤差が生じ、これ
らの誤差の補正をしないと、測定用スケール設定手段及
び測定手段が有する優れた測定精度を充分に生かしきれ
ないという問題点があった。
精度が必要な場合には、従来から、測定用スケール設定
手段及び測定手段として、レーザ及び光干渉を利用した
各種の光学システムが使用されている。例えば、測定用
スケール設定手段としてはレーザが使用され、測定手段
としては光干渉計が使用されている。これらの測定用ス
ケール設定手段及び測定手段は、そのもの自体の測定精
度は、充分に、前記の０．１μｍから０．０１μｍ程度
の測定精度を満足する。しかし、測定用スケール設定手
段及び測定手段を取り付けた測定機の機構側に問題点が
あり、例えば、前記測定用スケール設定手段及び測定手
段をＸ、Ｙ、Ｚ軸方向に移動させる場合の真直度を１μ
ｍ以下にすることが困難であること、測定機の機械的歪
の影響を除去できないこと等のために誤差が生じ、これ
らの誤差の補正をしないと、測定用スケール設定手段及
び測定手段が有する優れた測定精度を充分に生かしきれ
ないという問題点があった。
【０００３】以下に、この誤差補正に関する従来例を説
明する。上記の測定機の機構に起因する、移動の真直度
不足と機械的歪の影響を除去する従来例として、特開平
１−７７５９５号、特開昭６０−１４８７１５号がある
。これら従来例において使用されている技術を説明する
と次のようになる。
明する。上記の測定機の機構に起因する、移動の真直度
不足と機械的歪の影響を除去する従来例として、特開平
１−７７５９５号、特開昭６０−１４８７１５号がある
。これら従来例において使用されている技術を説明する
と次のようになる。
【０００４】図５は、従来の超高精度三次元測定機の構
成を示す側面図ある。図において、定盤３１上に、Ｘ−
Ｙ軸基準平面ミラー３６が固定されている。定盤３１上
に設けられた支持台３４が、前記Ｘ−Ｙ軸基準平面ミラ
ー３６の上方に被測定物３５を支持している。架台３２
は自らＸ−Ｙ軸方向に移動すると共に、Ｚ軸方向に移動
するＺ軸移動台３３を上下方向に移動可能に支持してい
る。図示していないが、架台３２及びＺ軸移動台３３上
には、測定用スケール設定手段及び測定手段と、各種ミ
ラー、プリズム、偏光板が設けられ、これらによって、
Ｚ軸移動台３３上の特定点（図示せず）と被測定物３５
との距離Ｚ３ 及び、架台３２上の特定点（図示せず）
とＸ−Ｙ軸基準平面ミラー３６との距離Ｚ４ とが測定
される。
成を示す側面図ある。図において、定盤３１上に、Ｘ−
Ｙ軸基準平面ミラー３６が固定されている。定盤３１上
に設けられた支持台３４が、前記Ｘ−Ｙ軸基準平面ミラ
ー３６の上方に被測定物３５を支持している。架台３２
は自らＸ−Ｙ軸方向に移動すると共に、Ｚ軸方向に移動
するＺ軸移動台３３を上下方向に移動可能に支持してい
る。図示していないが、架台３２及びＺ軸移動台３３上
には、測定用スケール設定手段及び測定手段と、各種ミ
ラー、プリズム、偏光板が設けられ、これらによって、
Ｚ軸移動台３３上の特定点（図示せず）と被測定物３５
との距離Ｚ３ 及び、架台３２上の特定点（図示せず）
とＸ−Ｙ軸基準平面ミラー３６との距離Ｚ４ とが測定
される。
【０００５】この場合の測定方法は、次のようになる。
先ず、架台３２をＸ−Ｙ方向に移動して、架台３２に設
けたＺ軸移動台３３上にある測定手段（図示せず）を、
被測定物３５の上方に位置させる。この位置で測定した
Ｚ３ とＺ４ とを夫々Ｚ３０、Ｚ４０とする。そして
、Ｚ３０−Ｚ４０を被測定物３５の形状測定の原点のＺ
座標値とする。このＺ３０−Ｚ４０は、機械的移動の真
直度不足の影響を除去することができるので（真直度不
足によるＺ軸方向の誤差は、Ｚ３０とＺ４０に夫々プラ
ス、マイナス逆方向に作用するので、Ｚ３０−Ｚ４０に
おいては、この誤差が打ち消される。）、被測定物３５
の形状測定の原点のＺ座標値をＸ−Ｙ軸基準平面ミラー
３６を基準にして、機械的移動の真直度不足の影響を除
去して、測定できる。従って、架台３２とＺ軸移動台３
３に発生する機械的歪を無視できれば、前記原点のＺ座
標値を測定用スケール設定手段及び測定手段に固有の高
精度で測定できる。
けたＺ軸移動台３３上にある測定手段（図示せず）を、
被測定物３５の上方に位置させる。この位置で測定した
Ｚ３ とＺ４ とを夫々Ｚ３０、Ｚ４０とする。そして
、Ｚ３０−Ｚ４０を被測定物３５の形状測定の原点のＺ
座標値とする。このＺ３０−Ｚ４０は、機械的移動の真
直度不足の影響を除去することができるので（真直度不
足によるＺ軸方向の誤差は、Ｚ３０とＺ４０に夫々プラ
ス、マイナス逆方向に作用するので、Ｚ３０−Ｚ４０に
おいては、この誤差が打ち消される。）、被測定物３５
の形状測定の原点のＺ座標値をＸ−Ｙ軸基準平面ミラー
３６を基準にして、機械的移動の真直度不足の影響を除
去して、測定できる。従って、架台３２とＺ軸移動台３
３に発生する機械的歪を無視できれば、前記原点のＺ座
標値を測定用スケール設定手段及び測定手段に固有の高
精度で測定できる。
【０００６】次に、架台３２に設けたＺ軸移動台３３上
にある測定手段（図示せず）をＸ−Ｙ軸方向に移動して
、Ｚ３ 、Ｚ４ を測定すれば、Ｚ３ −Ｚ４ が、そ
のＸ−Ｙ位置で被測定物３５のＺ座標値となる。
にある測定手段（図示せず）をＸ−Ｙ軸方向に移動して
、Ｚ３ 、Ｚ４ を測定すれば、Ｚ３ −Ｚ４ が、そ
のＸ−Ｙ位置で被測定物３５のＺ座標値となる。
【０００７】但し、この場合、前記被測定物３５のＺ座
標値が、測定用スケール設定手段及び測定手段に固有の
高精度で測定できるためには、架台３２とＺ軸移動台３
３に発生する機械的歪が必要測定精度に比較して充分に
小さく無視できることが必要である。
標値が、測定用スケール設定手段及び測定手段に固有の
高精度で測定できるためには、架台３２とＺ軸移動台３
３に発生する機械的歪が必要測定精度に比較して充分に
小さく無視できることが必要である。
【０００８】しかし、従来技術では、図５に示すように
、Ｘ−Ｙ軸基準平面ミラー３６が、被測定物３５の下側
にあるので、架台３２及び、架台３２上の測定用スケー
ル設定手段及び測定手段と、各種ミラー、プリズム、偏
光板等の光学システム、即ち、測定機構全体が、被測定
物３５の上側から側面を通って下側まで回っている。
、Ｘ−Ｙ軸基準平面ミラー３６が、被測定物３５の下側
にあるので、架台３２及び、架台３２上の測定用スケー
ル設定手段及び測定手段と、各種ミラー、プリズム、偏
光板等の光学システム、即ち、測定機構全体が、被測定
物３５の上側から側面を通って下側まで回っている。
【０００９】そのため、被測定物３５を大きくしたり、
被測定物３５のＸ−Ｙ−Ｚ軸方向の移動量を大きくする
と、前記測定機構全体が大きくなる。測定機構全体が大
きくなると、撓みや振動が生じ易くなり、又、Ｘ−Ｙ軸
基準平面ミラー３６上に光を垂直に当てることが困難に
なり、測定誤差が大きくなる。
被測定物３５のＸ−Ｙ−Ｚ軸方向の移動量を大きくする
と、前記測定機構全体が大きくなる。測定機構全体が大
きくなると、撓みや振動が生じ易くなり、又、Ｘ−Ｙ軸
基準平面ミラー３６上に光を垂直に当てることが困難に
なり、測定誤差が大きくなる。
【００１０】従って、従来の技術では、測定誤差を、必
要測定精度が得られる範囲内に保つために、測定機構全
体の大きさに制限があり、図５に示すように、測定機構
全体に取り囲まれている形の、被測定物３５を固定する
スペースとＸ−Ｙ−Ｚ軸方向の移動測定範囲に制限が生
じ、小型の被測定物しか測定できない。例えば、１００
ｍｍ以上の被測定物を精度を落とさずに測定することは
困難であった。
要測定精度が得られる範囲内に保つために、測定機構全
体の大きさに制限があり、図５に示すように、測定機構
全体に取り囲まれている形の、被測定物３５を固定する
スペースとＸ−Ｙ−Ｚ軸方向の移動測定範囲に制限が生
じ、小型の被測定物しか測定できない。例えば、１００
ｍｍ以上の被測定物を精度を落とさずに測定することは
困難であった。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術が
有する、Ｘ−Ｙ軸基準平面ミラーが、被測定物の下側に
あるので、架台及び、架台上の測定用スケール設定手段
及び測定手段と、各種ミラー、プリズム、偏光板等の光
学システムからなる測定機構全体が、被測定物の上側か
ら側面を通って下側まで回っているため、被測定物を固
定するスペースとＸ−Ｙ−Ｚ軸方向の移動測定範囲に制
限が生じるという問題点を解決することをその課題とし
ている。
有する、Ｘ−Ｙ軸基準平面ミラーが、被測定物の下側に
あるので、架台及び、架台上の測定用スケール設定手段
及び測定手段と、各種ミラー、プリズム、偏光板等の光
学システムからなる測定機構全体が、被測定物の上側か
ら側面を通って下側まで回っているため、被測定物を固
定するスペースとＸ−Ｙ−Ｚ軸方向の移動測定範囲に制
限が生じるという問題点を解決することをその課題とし
ている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するために、定盤上に、Ｘ軸方向又はＸ−Ｙ軸方向
に水平移動する架台を設け、この架台に、Ｘ軸方向又は
Ｘ−Ｙ軸方向に垂直なＺ軸方向に上下移動するＺ軸移動
台を設け、前記定盤上に固定された被測定物の被測定面
とその上方に位置するＺ軸移動台上の特定点との距離Ｚ
１ を測定する測定手段を設け、前記定盤上に固定され
た支持体に、Ｚ軸に垂直なＸ−Ｙ軸基準面を前記Ｚ軸移
動台の上方に設け、前記Ｘ−Ｙ軸基準面とその下方に位
置するＺ軸移動台上の特定点との距離Ｚ２ を測定する
測定手段を設け、前記被測定物のＸＹ軸方向の各測定点
に対する前記距離Ｚ１ と前記距離Ｚ２ の各データに
基いて前記被測定物の形状を測定することを特徴とする
。
解決するために、定盤上に、Ｘ軸方向又はＸ−Ｙ軸方向
に水平移動する架台を設け、この架台に、Ｘ軸方向又は
Ｘ−Ｙ軸方向に垂直なＺ軸方向に上下移動するＺ軸移動
台を設け、前記定盤上に固定された被測定物の被測定面
とその上方に位置するＺ軸移動台上の特定点との距離Ｚ
１ を測定する測定手段を設け、前記定盤上に固定され
た支持体に、Ｚ軸に垂直なＸ−Ｙ軸基準面を前記Ｚ軸移
動台の上方に設け、前記Ｘ−Ｙ軸基準面とその下方に位
置するＺ軸移動台上の特定点との距離Ｚ２ を測定する
測定手段を設け、前記被測定物のＸＹ軸方向の各測定点
に対する前記距離Ｚ１ と前記距離Ｚ２ の各データに
基いて前記被測定物の形状を測定することを特徴とする
。
【００１３】又、定盤上に、Ｘ軸に垂直なＹ−Ｚ軸基準
面と、Ｙ軸に垂直なＺ−Ｘ軸基準面の少なくとも一方を
設け、Ｚ軸移動台上又は架台上の特定点から前記Ｙ−Ｚ
軸基準面までの距離Ｘ１ を測定する測定手段と、Ｚ軸
移動台上又は架台上の特定点から前記Ｚ−Ｘ軸基準面ま
での距離Ｙ１ を測定する測定手段の少なくとも一方を
Ｚ軸移動台又は架台上に設けることが好適である。
面と、Ｙ軸に垂直なＺ−Ｘ軸基準面の少なくとも一方を
設け、Ｚ軸移動台上又は架台上の特定点から前記Ｙ−Ｚ
軸基準面までの距離Ｘ１ を測定する測定手段と、Ｚ軸
移動台上又は架台上の特定点から前記Ｚ−Ｘ軸基準面ま
での距離Ｙ１ を測定する測定手段の少なくとも一方を
Ｚ軸移動台又は架台上に設けることが好適である。
【００１４】又、定盤上に、Ｘ軸に垂直なＹ−Ｚ軸基準
面と、Ｙ軸に垂直なＺ−Ｘ軸基準面の少なくとも一方を
設け、Ｚ軸移動台上の特定点から架台上の特定点までの
距離Ｘ２ を測定する測定手段と、架台上の特定点から
前記Ｙ−Ｚ軸基準面までの距離Ｘ３ を測定する測定手
段との組合せと、Ｚ軸移動台上の特定点から架台上の特
定点までの距離Ｙ２ を測定する測定手段と、架台上の
特定点から前記Ｚ−Ｘ軸基準面までの距離Ｙ３ を測定
する測定手段との組合せの少なくとも一方を設け、前記
距離Ｘ２ と前記距離Ｘ３ の各データに基づいて前記
被測定点のＸ座標値Ｘを求める手段と、前記距離Ｙ２
と前記距離Ｙ３ の各データに基づいて前記被測定点の
Ｙ座標値Ｙを求める手段の少なくとも一方を設けること
が好適である。
面と、Ｙ軸に垂直なＺ−Ｘ軸基準面の少なくとも一方を
設け、Ｚ軸移動台上の特定点から架台上の特定点までの
距離Ｘ２ を測定する測定手段と、架台上の特定点から
前記Ｙ−Ｚ軸基準面までの距離Ｘ３ を測定する測定手
段との組合せと、Ｚ軸移動台上の特定点から架台上の特
定点までの距離Ｙ２ を測定する測定手段と、架台上の
特定点から前記Ｚ−Ｘ軸基準面までの距離Ｙ３ を測定
する測定手段との組合せの少なくとも一方を設け、前記
距離Ｘ２ と前記距離Ｘ３ の各データに基づいて前記
被測定点のＸ座標値Ｘを求める手段と、前記距離Ｙ２
と前記距離Ｙ３ の各データに基づいて前記被測定点の
Ｙ座標値Ｙを求める手段の少なくとも一方を設けること
が好適である。
【００１５】
【作用】本発明は、上記構成により、図１に示すように
、定盤上に固定された支持体を介して、前記Ｚ軸移動台
の上方に、Ｚ軸に垂直なＸ−Ｙ軸基準面を設けているの
で、スペース的に、大型の被測定物を固定し、測定手段
Ｚ１ を設けたＺ軸移動台を、Ｘ−Ｙ−Ｚ軸方向に大き
く移動できる余地を確保しながら、架台及び、架台上の
測定用スケール設定手段及び測定手段と、各種ミラー、
プリズム、偏光板等の光学システムの配置をコンパクト
にして、この架台及び光学システムを撓みや振動がなく
、且つ、Ｘ−Ｙ軸基準平面ミラー上に光を垂直に当てる
構造にすることが容易である。
、定盤上に固定された支持体を介して、前記Ｚ軸移動台
の上方に、Ｚ軸に垂直なＸ−Ｙ軸基準面を設けているの
で、スペース的に、大型の被測定物を固定し、測定手段
Ｚ１ を設けたＺ軸移動台を、Ｘ−Ｙ−Ｚ軸方向に大き
く移動できる余地を確保しながら、架台及び、架台上の
測定用スケール設定手段及び測定手段と、各種ミラー、
プリズム、偏光板等の光学システムの配置をコンパクト
にして、この架台及び光学システムを撓みや振動がなく
、且つ、Ｘ−Ｙ軸基準平面ミラー上に光を垂直に当てる
構造にすることが容易である。
【００１６】従って、本発明は、定盤上に、Ｘ軸方向又
はＸ−Ｙ軸方向に水平移動する架台を設け、この架台に
、Ｘ軸方向又はＸ−Ｙ軸方向に垂直なＺ軸方向に上下移
動するＺ軸移動台を設け、前記定盤上に固定された被測
定物の被測定面とその上方に位置するＺ軸移動台上の特
定点との距離Ｚ１ を測定する測定手段を設け、前記定
盤上に固定された支持体に、Ｚ軸に垂直なＸ−Ｙ軸基準
面を前記Ｚ軸移動台の上方に設け、前記Ｘ−Ｙ軸基準面
とその下方に位置するＺ軸移動台上の特定点との距離Ｚ
２ を測定する測定手段を設け、前記被測定物のＸＹ軸
方向の各測定点に対する前記距離Ｚ１ と前記距離Ｚ２
の各データに基いて前記被測定物の形状を測定するこ
とによって、従来技術では測定できなかった大型の被測
定物についても、歪による測定誤差がなく、且つ、Ｚ軸
方向の機械的移動の真直度不足の影響を除去した測定を
することができる。
はＸ−Ｙ軸方向に水平移動する架台を設け、この架台に
、Ｘ軸方向又はＸ−Ｙ軸方向に垂直なＺ軸方向に上下移
動するＺ軸移動台を設け、前記定盤上に固定された被測
定物の被測定面とその上方に位置するＺ軸移動台上の特
定点との距離Ｚ１ を測定する測定手段を設け、前記定
盤上に固定された支持体に、Ｚ軸に垂直なＸ−Ｙ軸基準
面を前記Ｚ軸移動台の上方に設け、前記Ｘ−Ｙ軸基準面
とその下方に位置するＺ軸移動台上の特定点との距離Ｚ
２ を測定する測定手段を設け、前記被測定物のＸＹ軸
方向の各測定点に対する前記距離Ｚ１ と前記距離Ｚ２
の各データに基いて前記被測定物の形状を測定するこ
とによって、従来技術では測定できなかった大型の被測
定物についても、歪による測定誤差がなく、且つ、Ｚ軸
方向の機械的移動の真直度不足の影響を除去した測定を
することができる。
【００１７】又、同じ原理を利用することによって、Ｘ
、Ｙ軸方向についても機械的移動の真直度不足の影響を
除去することができる。
、Ｙ軸方向についても機械的移動の真直度不足の影響を
除去することができる。
【００１８】
【実施例】本発明の実施例を図面を参照して説明する。
図１は、本発明の第１の実施例の構成を示す斜視図、図
２は、図１のＺ軸方向の真直性誤差補正の原理図である
。
２は、図１のＺ軸方向の真直性誤差補正の原理図である
。
【００１９】図において、定盤１上に、ＸＹテーブル２
が設けられる。ＸＹテーブル２上に架台３を設ける。架
台３上に、発信周波数安定化Ｈｅ −Ｎｅ ゼーマンレ
ーザからなる測定用スケール設定手段４と、垂直方向に
上下移動するＺ軸移動台５と、干渉計とレンズを含む光
学系からなる測定手段Ｚ１ ６１ 及び測定手段Ｚ２
６２ と、各種ミラー、プリズム、偏光板等の光学シス
テムとを設ける。更に、定盤１上に、支持体８を設け、
この支持体８を介して、前記Ｚ軸移動台５の上方に、水
平ミラーをＸ−Ｙ軸基準面９として設ける。そして、被
測定物７は、定盤１上の、前記測定手段Ｚ１ ６１ の
下方に位置する場所に固定する。
が設けられる。ＸＹテーブル２上に架台３を設ける。架
台３上に、発信周波数安定化Ｈｅ −Ｎｅ ゼーマンレ
ーザからなる測定用スケール設定手段４と、垂直方向に
上下移動するＺ軸移動台５と、干渉計とレンズを含む光
学系からなる測定手段Ｚ１ ６１ 及び測定手段Ｚ２
６２ と、各種ミラー、プリズム、偏光板等の光学シス
テムとを設ける。更に、定盤１上に、支持体８を設け、
この支持体８を介して、前記Ｚ軸移動台５の上方に、水
平ミラーをＸ−Ｙ軸基準面９として設ける。そして、被
測定物７は、定盤１上の、前記測定手段Ｚ１ ６１ の
下方に位置する場所に固定する。
【００２０】次に、第１の実施例の動作を説明する。先
ず、発信周波数安定化Ｈｅ −Ｎｅ ゼーマンレーザか
らなる測定用スケール設定手段から、周波数Ｆ１ の測
定光と、周波数Ｆ２ の参照光とを発信する。測定光Ｆ
１ と参照光Ｆ２ の周波数の差は、数百ＫＨｚから数
ＭＨｚ程度で、互いに垂直な直線偏光になっている。前
記各種ミラー、プリズム、偏光板等の光学システムによ
って、周波数Ｆ１ の測定光Ｆ１ と、周波数Ｆ２ の
参照光Ｆ２ とが分離される。
ず、発信周波数安定化Ｈｅ −Ｎｅ ゼーマンレーザか
らなる測定用スケール設定手段から、周波数Ｆ１ の測
定光と、周波数Ｆ２ の参照光とを発信する。測定光Ｆ
１ と参照光Ｆ２ の周波数の差は、数百ＫＨｚから数
ＭＨｚ程度で、互いに垂直な直線偏光になっている。前
記各種ミラー、プリズム、偏光板等の光学システムによ
って、周波数Ｆ１ の測定光Ｆ１ と、周波数Ｆ２ の
参照光Ｆ２ とが分離される。
【００２１】測定光Ｆ１ は、前記各種ミラー、プリズ
ム、偏光板等の光学システムによって、２つに分けられ
、その１つは、前記Ｚ軸移動台５上に設けられた前記測
定手段Ｚ１ ６１ のレンズによって、前記被測定物７
上に集光され、反射されて、架台３上に設けた前記測定
手段Ｚ２ ６２ に入射する。他の１つは、前記各種ミ
ラー、プリズム、偏光板等の光学システムによって、直
接、架台３上に設けた前記測定手段Ｚ２ ６２ に入射
する。この測定手段Ｚ２ ６２ は、内蔵している干渉
計によって、これら２つの測定光Ｆ１ から前記被測定
物の被測定点と前記Ｚ軸移動台５上の特定点Ｚ１ （図
示せず）との距離Ｚ１ を測定する。参照光Ｆ２ は前
記各種ミラー、プリズムによって、２つに分けられ、そ
の一方の参照光Ｆ２ が、前記各種ミラー、プリズム、
偏光板等の光学システムによって前記Ｘ−Ｙ軸基準面９
のミラー上に集光され、反射され、前記各種ミラー、プ
リズム、偏光板等の光学システムによって前記測定手段
Ｚ２ ６２ に集光されると共に、他方の参照光Ｆ２
が前記各種ミラー、プリズム、偏光板等の光学システム
によって、直接、前記測定手段Ｚ２ ６２ に集光され
、前記測定手段Ｚ２ ６２ に内蔵されている干渉計に
よって前記Ｘ−Ｙ軸基準面９と、前記Ｚ軸移動台５上に
あると共に、前記特定点Ｚ１ （図示せず）とのＺ軸方
向の距離が特定できる特定点Ｚ２ との距離Ｚ２ が測
定される。
ム、偏光板等の光学システムによって、２つに分けられ
、その１つは、前記Ｚ軸移動台５上に設けられた前記測
定手段Ｚ１ ６１ のレンズによって、前記被測定物７
上に集光され、反射されて、架台３上に設けた前記測定
手段Ｚ２ ６２ に入射する。他の１つは、前記各種ミ
ラー、プリズム、偏光板等の光学システムによって、直
接、架台３上に設けた前記測定手段Ｚ２ ６２ に入射
する。この測定手段Ｚ２ ６２ は、内蔵している干渉
計によって、これら２つの測定光Ｆ１ から前記被測定
物の被測定点と前記Ｚ軸移動台５上の特定点Ｚ１ （図
示せず）との距離Ｚ１ を測定する。参照光Ｆ２ は前
記各種ミラー、プリズムによって、２つに分けられ、そ
の一方の参照光Ｆ２ が、前記各種ミラー、プリズム、
偏光板等の光学システムによって前記Ｘ−Ｙ軸基準面９
のミラー上に集光され、反射され、前記各種ミラー、プ
リズム、偏光板等の光学システムによって前記測定手段
Ｚ２ ６２ に集光されると共に、他方の参照光Ｆ２
が前記各種ミラー、プリズム、偏光板等の光学システム
によって、直接、前記測定手段Ｚ２ ６２ に集光され
、前記測定手段Ｚ２ ６２ に内蔵されている干渉計に
よって前記Ｘ−Ｙ軸基準面９と、前記Ｚ軸移動台５上に
あると共に、前記特定点Ｚ１ （図示せず）とのＺ軸方
向の距離が特定できる特定点Ｚ２ との距離Ｚ２ が測
定される。
【００２２】次に、前記被測定物７上に、測定の原点を
定め、この原点と前記Ｚ軸移動台５上の特定点Ｚ１ （
図示せず）との距離Ｚ１０と、そのときの、前記Ｘ−Ｙ
軸基準面と、前記Ｚ軸移動台５上にあると共に、前記特
定点Ｚ１ （図示せず）とのＺ軸方向の距離が特定でき
る特定点Ｚ２ との距離Ｚ２０とを測定し、距離Ｚ１０
と距離Ｚ２０との和を前記原点のＺ座標値Ｚ０ とす
る。
定め、この原点と前記Ｚ軸移動台５上の特定点Ｚ１ （
図示せず）との距離Ｚ１０と、そのときの、前記Ｘ−Ｙ
軸基準面と、前記Ｚ軸移動台５上にあると共に、前記特
定点Ｚ１ （図示せず）とのＺ軸方向の距離が特定でき
る特定点Ｚ２ との距離Ｚ２０とを測定し、距離Ｚ１０
と距離Ｚ２０との和を前記原点のＺ座標値Ｚ０ とす
る。
【００２３】次に、ＸＹテーブル２上の架台３に設けら
れた前記測定手段Ｚ１ ６１ をＸ−Ｙ方向に移動して
、被測定点のＺ座標値Ｚ１ と、Ｘ−Ｙ軸基準面のＺ座
標値Ｚ２ とを測定し、加算手段（図示せず）によって
その被測定点のＸ−Ｙ軸基準面に対するＺ座標値Ｚ１
＋Ｚ２ を求める。この場合、測定光Ｆ１ は、前記被
測定物７の厚さの変化と、前記測定手段Ｚ１ ６１ の
Ｘ−Ｙ方向の移動の真直度の誤差との和に応じて測定光
Ｆ１ の光路長が変化するためのドプラーシフトによっ
て周波数が変化し、測定光Ｆ１ の反射光の周波数はＦ
１ ＋Δとなる。一方、参照光Ｆ２ はＸ−Ｙ軸基準面
９のミラーから反射するので、Ｘ−Ｙ軸基準面９のミラ
ーの１０ｎｍ以内の面精度による光路長の変化と、前記
測定手段Ｚ２ ６２ のＸ−Ｙ方向の移動の真直度の誤
差との和に応じて参照光Ｆ２ の光路長が変化するため
のドプラーシフトによって周波数が変化し、参照光Ｆ２
の反射光の周波数はＦ２ ＋δとなる。
れた前記測定手段Ｚ１ ６１ をＸ−Ｙ方向に移動して
、被測定点のＺ座標値Ｚ１ と、Ｘ−Ｙ軸基準面のＺ座
標値Ｚ２ とを測定し、加算手段（図示せず）によって
その被測定点のＸ−Ｙ軸基準面に対するＺ座標値Ｚ１
＋Ｚ２ を求める。この場合、測定光Ｆ１ は、前記被
測定物７の厚さの変化と、前記測定手段Ｚ１ ６１ の
Ｘ−Ｙ方向の移動の真直度の誤差との和に応じて測定光
Ｆ１ の光路長が変化するためのドプラーシフトによっ
て周波数が変化し、測定光Ｆ１ の反射光の周波数はＦ
１ ＋Δとなる。一方、参照光Ｆ２ はＸ−Ｙ軸基準面
９のミラーから反射するので、Ｘ−Ｙ軸基準面９のミラ
ーの１０ｎｍ以内の面精度による光路長の変化と、前記
測定手段Ｚ２ ６２ のＸ−Ｙ方向の移動の真直度の誤
差との和に応じて参照光Ｆ２ の光路長が変化するため
のドプラーシフトによって周波数が変化し、参照光Ｆ２
の反射光の周波数はＦ２ ＋δとなる。
【００２４】しかし、反射光Ｆ１ ＋Δによって前記測
定手段Ｚ１６１ で測定された被測定点のＺ座標値Ｚ１
と、反射光Ｆ２ ＋δによって前記測定手段Ｚ２ ６
２ で測定されたＸ−Ｙ軸基準面のＺ座標値Ｚ２ には
、図２から明らかなように、Ｘ−Ｙ方向の移動真直度不
足による誤差が夫々プラス、マイナス逆方向に作用して
いるので、前記被測定点のＺ座標値Ｚ１ と前記Ｘ−Ｙ
軸基準面９のＺ座標値Ｚ２ との和では、この真直度不
足の誤差が打ち消されている。
定手段Ｚ１６１ で測定された被測定点のＺ座標値Ｚ１
と、反射光Ｆ２ ＋δによって前記測定手段Ｚ２ ６
２ で測定されたＸ−Ｙ軸基準面のＺ座標値Ｚ２ には
、図２から明らかなように、Ｘ−Ｙ方向の移動真直度不
足による誤差が夫々プラス、マイナス逆方向に作用して
いるので、前記被測定点のＺ座標値Ｚ１ と前記Ｘ−Ｙ
軸基準面９のＺ座標値Ｚ２ との和では、この真直度不
足の誤差が打ち消されている。
【００２５】従って、本発明の第１の実施例では、測定
手段Ｚ１ ６１ と測定手段Ｚ２ ６２ のＺ軸方向の
移動の真直度不足による誤差を補正することができる。
手段Ｚ１ ６１ と測定手段Ｚ２ ６２ のＺ軸方向の
移動の真直度不足による誤差を補正することができる。
【００２６】尚、本発明の第１の実施例では、ＸＹテー
ブル２の移動は、移動真直度５０ｎｍ以下のエアースラ
イドを使用している。従って、Ｘ−Ｙ軸方向の測定誤差
は充分小さい。
ブル２の移動は、移動真直度５０ｎｍ以下のエアースラ
イドを使用している。従って、Ｘ−Ｙ軸方向の測定誤差
は充分小さい。
【００２７】しかし、エアースライドは比較的大きく重
いので、Ｘ−Ｙ軸方向の移動に、軽いクロスローラガイ
ドを使用することもできる。この場合、クロスローラガ
イドは移動真直度が不足する。本発明の第２の実施例は
、この移動真直度不足を補正している。
いので、Ｘ−Ｙ軸方向の移動に、軽いクロスローラガイ
ドを使用することもできる。この場合、クロスローラガ
イドは移動真直度が不足する。本発明の第２の実施例は
、この移動真直度不足を補正している。
【００２８】図１は、本発明の第１の実施例だけでなく
、更に、本発明の第２の実施例の構成を示す斜視図であ
る。図において、定盤１上に、Ｙ−Ｚ軸基準面１０と、
Ｚ−Ｘ軸基準面１１と、測定手段Ｘ１ ６Ｘ と、測定
手段Ｙ１ ６Ｙ とを設ける。本発明の第２の実施例の
動作を説明する。本発明の第１の実施例の場合と同様に
して、測定用スケール設定手段４からの測定光Ｆ１ と
参照光Ｆ２ を使用して、Ｙ−Ｚ軸基準面１０と測定手
段Ｘ１ ６Ｘ と各種ミラー、プリズム、偏光板等の光
学システムによって、被測定物７の被測定点のＸ座標値
Ｘを測定し、Ｚ−Ｘ軸基準面１１と測定手段Ｙ１ ６Ｙ
と各種ミラー、プリズム、偏光板等の光学システムに
よって、被測定物７の被測定点のＹ座標値Ｙを測定する
ことができる。
、更に、本発明の第２の実施例の構成を示す斜視図であ
る。図において、定盤１上に、Ｙ−Ｚ軸基準面１０と、
Ｚ−Ｘ軸基準面１１と、測定手段Ｘ１ ６Ｘ と、測定
手段Ｙ１ ６Ｙ とを設ける。本発明の第２の実施例の
動作を説明する。本発明の第１の実施例の場合と同様に
して、測定用スケール設定手段４からの測定光Ｆ１ と
参照光Ｆ２ を使用して、Ｙ−Ｚ軸基準面１０と測定手
段Ｘ１ ６Ｘ と各種ミラー、プリズム、偏光板等の光
学システムによって、被測定物７の被測定点のＸ座標値
Ｘを測定し、Ｚ−Ｘ軸基準面１１と測定手段Ｙ１ ６Ｙ
と各種ミラー、プリズム、偏光板等の光学システムに
よって、被測定物７の被測定点のＹ座標値Ｙを測定する
ことができる。
【００２９】図３、図４は、本発明の第２の実施例の構
成を示す側面図である。図には、Ｘ座標値の測定精度を
向上するための構成のみを示しているが、Ｙ座標値につ
いても同様である。図において、１は定盤、３はＸ−Ｙ
軸方向に移動する架台、５は垂直方向に上下移動するＺ
軸移動台、６１ は測定手段Ｚ１ 、７は被測定物、１
０、１２はＹ−Ｚ軸基準面である。架台３上には、図示
していないが、測定用スケール設定手段と、各種ミラー
、プリズム、偏光板等の光学システムと、２個のＸ軸方
向の距離測定手段と、２個のＹ軸方向の距離測定手段と
、Ｘ座標値の加算又は減手段と、Ｙ座標値の加算又は減
手段とが設けられている。
成を示す側面図である。図には、Ｘ座標値の測定精度を
向上するための構成のみを示しているが、Ｙ座標値につ
いても同様である。図において、１は定盤、３はＸ−Ｙ
軸方向に移動する架台、５は垂直方向に上下移動するＺ
軸移動台、６１ は測定手段Ｚ１ 、７は被測定物、１
０、１２はＹ−Ｚ軸基準面である。架台３上には、図示
していないが、測定用スケール設定手段と、各種ミラー
、プリズム、偏光板等の光学システムと、２個のＸ軸方
向の距離測定手段と、２個のＹ軸方向の距離測定手段と
、Ｘ座標値の加算又は減手段と、Ｙ座標値の加算又は減
手段とが設けられている。
【００３０】図３において、図１の本発明の第１の実施
例の場合と同様にして、Ｙ−Ｚ軸基準面１０と架台３上
の特定点（図示せず）との距離Ｘ２ と、Ｙ−Ｚ軸基準
面１２と架台３上の特定点（図示せず）との距離Ｘ３
とが測定され、Ｘ２ とＸ３ との和Ｘが求められる。 この和Ｘは、被測定物の被測定点のＹ−Ｚ軸基準面１２
に対するＸ座標値で、Ｘ−Ｙ軸方向に移動する架台３の
移動真直度不足による誤差は、図１の本発明の第１の実
施例のＺ軸方向の移動真直度不足による誤差の補正と同
様にして、補正されている。
例の場合と同様にして、Ｙ−Ｚ軸基準面１０と架台３上
の特定点（図示せず）との距離Ｘ２ と、Ｙ−Ｚ軸基準
面１２と架台３上の特定点（図示せず）との距離Ｘ３
とが測定され、Ｘ２ とＸ３ との和Ｘが求められる。 この和Ｘは、被測定物の被測定点のＹ−Ｚ軸基準面１２
に対するＸ座標値で、Ｘ−Ｙ軸方向に移動する架台３の
移動真直度不足による誤差は、図１の本発明の第１の実
施例のＺ軸方向の移動真直度不足による誤差の補正と同
様にして、補正されている。
【００３１】図４において、図１の本発明の第１の実施
例の場合と同様にして、Ｙ−Ｚ軸基準面１０と架台３上
の特定点（図示せず）との距離Ｘ２ と、Ｙ−Ｚ軸基準
面１２と架台３上の特定点（図示せず）との距離Ｘ３
とが測定され、Ｘ２ とＸ３ との差Ｘが求められる。 この差Ｘは、被測定物の被測定点のＹ−Ｚ軸基準面１２
に対するＸ座標値で、Ｘ−Ｙ軸方向に移動する架台３の
移動真直度不足による誤差は、図１の本発明の第１の実
施例のＺ軸方向の移動真直度不足による誤差の補正と同
様にして、補正されている。Ｙ座標値については、Ｘ座
標値と同様なので、説明を省略する。
例の場合と同様にして、Ｙ−Ｚ軸基準面１０と架台３上
の特定点（図示せず）との距離Ｘ２ と、Ｙ−Ｚ軸基準
面１２と架台３上の特定点（図示せず）との距離Ｘ３
とが測定され、Ｘ２ とＸ３ との差Ｘが求められる。 この差Ｘは、被測定物の被測定点のＹ−Ｚ軸基準面１２
に対するＸ座標値で、Ｘ−Ｙ軸方向に移動する架台３の
移動真直度不足による誤差は、図１の本発明の第１の実
施例のＺ軸方向の移動真直度不足による誤差の補正と同
様にして、補正されている。Ｙ座標値については、Ｘ座
標値と同様なので、説明を省略する。
【００３２】本発明は、上記の実施例に限らず種々の態
様が可能である。例えば、測定用スケール設定手段と測
定手段は、本実施例の光学システムに限らず、例えば、
マイクロメータのような機械的な測定用スケール設定手
段と測定手段でも良く、又、その設置場所も自由である
。各種ミラー、プリズム、偏光板等の光学システムは自
由に設計できる。各種の機械的構造も自由に設計できる
。
様が可能である。例えば、測定用スケール設定手段と測
定手段は、本実施例の光学システムに限らず、例えば、
マイクロメータのような機械的な測定用スケール設定手
段と測定手段でも良く、又、その設置場所も自由である
。各種ミラー、プリズム、偏光板等の光学システムは自
由に設計できる。各種の機械的構造も自由に設計できる
。
【００３３】
【発明の効果】従来の超高精度三次元測定機では、測定
機の構造が、被測定物の設置スペースと被測定物のＸ−
Ｙ−Ｚ方向の測定移動スペースを大きくすると、歪が起
こり易い構造なので、この歪による誤差を避けるために
、被測定物の設置スペースと被測定物のＸ−Ｙ−Ｚ方向
の測定移動スペースに制限があり、例えば１００ｍｍ以
上の被測定物を測定できないという問題点があったのに
対して、請求項１に記載の本発明の超高精度三次元測定
機は、測定機を、被測定物の設置スペースと被測定物の
Ｘ−Ｙ−Ｚ方向の測定移動スペースを大きくしても、歪
が起こり難い構造にすることによって、被測定物の設置
スペースと被測定物のＸ−Ｙ−Ｚ方向の測定移動スペー
スを充分に確保することができ、１００ｍｍ以上の大き
な被測定物の測定を可能にするという効果を奏する。
機の構造が、被測定物の設置スペースと被測定物のＸ−
Ｙ−Ｚ方向の測定移動スペースを大きくすると、歪が起
こり易い構造なので、この歪による誤差を避けるために
、被測定物の設置スペースと被測定物のＸ−Ｙ−Ｚ方向
の測定移動スペースに制限があり、例えば１００ｍｍ以
上の被測定物を測定できないという問題点があったのに
対して、請求項１に記載の本発明の超高精度三次元測定
機は、測定機を、被測定物の設置スペースと被測定物の
Ｘ−Ｙ−Ｚ方向の測定移動スペースを大きくしても、歪
が起こり難い構造にすることによって、被測定物の設置
スペースと被測定物のＸ−Ｙ−Ｚ方向の測定移動スペー
スを充分に確保することができ、１００ｍｍ以上の大き
な被測定物の測定を可能にするという効果を奏する。
【００３４】請求項２に記載の本発明の超高精度三次元
測定機は、請求項１に記載の本発明の超高精度三次元測
定機の効果に加えて、Ｘ−Ｙ軸方向の座標値をＺ座標値
の測定と同じ光学的手段で測定することによって、Ｘ座
標値とＹ座標値の測定精度を向上させることができると
いう効果を奏する。
測定機は、請求項１に記載の本発明の超高精度三次元測
定機の効果に加えて、Ｘ−Ｙ軸方向の座標値をＺ座標値
の測定と同じ光学的手段で測定することによって、Ｘ座
標値とＹ座標値の測定精度を向上させることができると
いう効果を奏する。
【００３５】請求項３に記載の本発明の超高精度三次元
測定機は、請求項１に記載の本発明の超高精度三次元測
定機の効果に加えて、Ｘ−Ｙ軸方向の座標値の測定に、
請求項１に記載の本発明の超高精度三次元測定機のＺ座
標値の測定における、Ｚ軸方向の移動の真直度不足によ
る誤差の補正手段を採用することによって、Ｘ−Ｙ軸方
向の座標値の測定における、Ｘ−Ｙ軸方向の真直度不足
による誤差を補正できるという効果を奏する。
測定機は、請求項１に記載の本発明の超高精度三次元測
定機の効果に加えて、Ｘ−Ｙ軸方向の座標値の測定に、
請求項１に記載の本発明の超高精度三次元測定機のＺ座
標値の測定における、Ｚ軸方向の移動の真直度不足によ
る誤差の補正手段を採用することによって、Ｘ−Ｙ軸方
向の座標値の測定における、Ｘ−Ｙ軸方向の真直度不足
による誤差を補正できるという効果を奏する。
【図１】本発明の第１及び第２の実施例の構成を示す斜
視図である。
視図である。
【図２】図１のＺ軸方向の真直性誤差補正の原理図であ
る。
る。
【図３】本発明の第３の実施例の構成を示す側面図であ
る。
る。
【図４】本発明の第３の実施例の構成を示す側面図であ
る。
る。
【図５】従来の超高精度三次元測定機の構成を示す斜視
図である。
図である。
１ 定盤
２ ＸＹテーブル
３ 架台
４ 測定用スケール設定手段
５ Ｚ軸移動台
６１ 測定手段Ｚ１
６２ 測定手段Ｚ２
６Ｘ 測定手段Ｘ１
６Ｙ 測定手段Ｘ２
７ 被測定物
８ 支持体
９ Ｘ−Ｙ軸基準面
１０ Ｙ−Ｚ軸基準面
１１ Ｚ−Ｘ軸基準面
１２ Ｙ−Ｚ軸基準面
Claims (3)
- 【請求項１】 定盤上に、Ｘ軸方向又はＸ−Ｙ軸方向
に水平移動する架台を設け、この架台に、Ｘ軸方向又は
Ｘ−Ｙ軸方向に垂直なＺ軸方向に上下移動するＺ軸移動
台を設け、前記定盤上に固定された被測定物の被測定面
とその上方に位置するＺ軸移動台上の特定点との距離Ｚ
１ を測定する測定手段を設け、前記定盤上に固定され
た支持体に、Ｚ軸に垂直なＸ−Ｙ軸基準面を前記Ｚ軸移
動台の上方に設け、前記Ｘ−Ｙ軸基準面とその下方に位
置するＺ軸移動台上の特定点との距離Ｚ２ を測定する
測定手段を設け、前記被測定物のＸＹ軸方向の各測定点
に対する前記距離Ｚ１ と前記距離Ｚ２ の各データに
基いて前記被測定物の形状を測定することを特徴とする
超高精度三次元測定機。 - 【請求項２】 定盤上に、Ｘ軸に垂直なＹ−Ｚ軸基準
面と、Ｙ軸に垂直なＺ−Ｘ軸基準面の少なくとも一方を
設け、Ｚ軸移動台上又は架台上の特定点から前記Ｙ−Ｚ
軸基準面までの距離Ｘ１ を測定する測定手段と、Ｚ軸
移動台上又は架台上の特定点から前記Ｚ−Ｘ軸基準面ま
での距離Ｙ１ を測定する測定手段の少なくとも一方を
Ｚ軸移動台又は架台上に設けた請求項１に記載の超高精
度三次元測定機。 - 【請求項３】 定盤上に、Ｘ軸に垂直なＹ−Ｚ軸基準
面と、Ｙ軸に垂直なＺ−Ｘ軸基準面の少なくとも一方を
設け、Ｚ軸移動台上の特定点から架台上の特定点までの
距離Ｘ２ を測定する測定手段と、架台上の特定点から
前記Ｙ−Ｚ軸基準面までの距離Ｘ３ を測定する測定手
段との組合せと、Ｚ軸移動台上の特定点から架台上の特
定点までの距離Ｙ２ を測定する測定手段と、架台上の
特定点から前記Ｚ−Ｘ軸基準面までの距離Ｙ３ を測定
する測定手段との組合せの少なくとも一方を設け、前記
距離Ｘ２ と前記距離Ｘ３ の各データに基づいて前記
被測定点のＸ座標値Ｘを求める手段と、前記距離Ｙ２
と前記距離Ｙ３ の各データに基づいて前記被測定点の
Ｙ座標値Ｙを求める手段の少なくとも一方を設けた請求
項１に記載の超高精度三次元測定機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3064327A JP3046635B2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 超高精度三次元測定機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3064327A JP3046635B2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 超高精度三次元測定機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04299206A true JPH04299206A (ja) | 1992-10-22 |
| JP3046635B2 JP3046635B2 (ja) | 2000-05-29 |
Family
ID=13255033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3064327A Expired - Lifetime JP3046635B2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 超高精度三次元測定機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3046635B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6763319B2 (en) | 2001-06-04 | 2004-07-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Profilometer and method for measuring, and method for manufacturing object of surface profiling |
| JP2012511158A (ja) * | 2008-12-08 | 2012-05-17 | アイメック | 物体の表面形状を決定するための方法および装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4291849B2 (ja) | 2006-12-20 | 2009-07-08 | パナソニック株式会社 | 三次元測定プローブ |
-
1991
- 1991-03-28 JP JP3064327A patent/JP3046635B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6763319B2 (en) | 2001-06-04 | 2004-07-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Profilometer and method for measuring, and method for manufacturing object of surface profiling |
| JP2012511158A (ja) * | 2008-12-08 | 2012-05-17 | アイメック | 物体の表面形状を決定するための方法および装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3046635B2 (ja) | 2000-05-29 |
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