JPH01212791A - 帯状被処理物に対する部分めっき装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 部分めっき装置に係り、特に連続し帯状被処理物に厚さ
の異なるめっき膜を同時に形成することが可能な部分め
っき装置に関し、 同時に３段階以上の厚さを有するめっき膜を帯状被処理
物に連続して形成することが可能な部分めっき装置を提
供することを目的とし、回転軸を水平にした略円筒形の
回転めっきドラムと、　回転めっきドラムの内部に設け
られ、被処理物に下からめっき液を噴射するノズルと、
めっき液噴出口と、該めっき液噴出口から離れるに従っ
て浅くなる複数段の階段状のめっき液溜りと、該めっき
液溜りの底に補助電極とめっき液排出口とを有し、前記
回転めっきドラムの円周に周設されたマスク板と、　前
記マスク板の外周に密設され、前記被処理物のめっきエ
リアを規定するめっきマスクと、　該めっきマスクに被
処理物を押圧する押さえベルトとから構成される。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、部分めっき装置に係り、特に連続して形成さ
れた帯状被処理物に厚さの異なるめっき膜を同時に連続
して形成することが可能な部分めっき装置に関する。

電子部品のリードフレームや、コネクタのコンタクトな
どにおいて、一部分だけに金めつきや半田めっきなどの
部分めっきを施して、コスト低減と特性改善を図ってい
るが、これらをさらに効果有らしめるため、連続プレス
加工された帯状被処理物の状態で、用途名じて場所によ
って厚さを異ならしめて複数の厚さとした部分めっきを
連続して施すことのできる部分めっき装置の出現が望ま
れている。

〔従来の技術〕

帯状被処理物の表面のメンキエリア内の中央部を厚く、
周辺部を薄くするためのめっき装置として第４図に示す
部分めっき装置がｋ　’！−さている。

これは半導体装置用のり一トフレーム１などに対して中
央の半導体搭載部１ａには厚く、周辺のワイヤボンディ
ング部１ｂには薄く、厚さが２段階の部分めっきを行う
ための装置で、被めっき材ｌに下方からめっき液２１を
噴射するノズル２２と、被めっき材１へ密着してめっき
エリアを設定するマスク２３と、被めっき材ｌを上方か
ら押さえる押圧板２４と、めっきエリアより小さい開口
２５とめっきエリアの４隅に対応する個所に小孔２６を
有するマスク板２７を、マスク２３内に被めっき材ｌに
近接するように配置した部分めっき装置である。

この装置では、厚さが２段階の部分めっきを施すことが
でき、開口に対応する個所番二対してその周辺部のめっ
き厚さを約１／２にすることができる。

（発明が解決しようとする課題〕 上記従来の部分めっき装置では、中央部と周辺部とでめ
っき厚さが異なる２段階の差厚部分めっきしかできず、
最近のコネクタ用コンタクトなどで要求される厚さが階
段状に３段階以上に変化する部分めっきを同時に、しか
も帯状被処理物の状態で連続して施すことは不可能であ
った。

本発明は上記問題点に鑑み創出されたもので、３段階以
上の厚さを有するめっき膜を帯状被処理物に同時に連続
して形成することが可能な部分めっき装置を提供するこ
とを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記問題点は、 回転軸を水平にした略円筒形の回転めっきドラムと、 回転めっきドラムの内部に設けられ、被処理物に下から
めっき液を噴射するノズルと、めっき液噴出口と、該め
っき液噴出口から離れるに従って浅くなる複数段の階段
状のめっき液溜りと、該めっき液溜りの底に補助電極と
めっき液排出口とを有し、前記回転めっきドラムの円周
に周設されたマスク板と、 前記マスク板の外周に密設され、前記被処理物のめっき
エリアを規定するめっきマスクと、該めっきマスクに被
処理物を押圧する押さえベルトと、 から構成されることを特徴とする本発明の帯状被処理物
に対する部分めっき装置により解決される。

〔作用〕

被処理物は回転めっきドラムの外周上のマスクと押さえ
ベルトとの間に挟持されて移動する間に、めっきマスク
のめっき液噴出口を介して、ノズルからめっき液が噴射
され、該めっき液流は四方に分散し被処理物を浸漬しな
がら階段状のめっき液溜りを経由して排出口から排出さ
れる。

そしてこの際、めっき液流の流速は噴出口から離れるに
従って小さくなること、及び各めっき液溜り補助電極を
個別に制御して各段ごとにめっき電流を適切に設定する
ことにより、各めっき溜りに対向する被処理物の表面に
厚さの異なる複数段のめっきを施すことができる。そし
て回転めっきドラムを回転することにより、帯状の被処
理物に連続して上記のめっき処理を連続して行うことが
可能となる。

〔実施例〕

以下添付図により本発明の詳細な説明する。

第１図は本発明に係る部分めっき装置の全体構成を示す
模式図、第２図は第１図のＡ部を示す拡第１図は全体構
成を示すもので、（ａ）は側面図、（ｂ）は一部を切欠
いた正面図である。

第１図において、３は中空円筒形の回転めっきドラムで
図示しない駆動手段で水平な回転軸３１の回りに回転す
るようになっており、円周には開口３２を有している。

そしてその内部にはめっきの主電極を兼ね、上向きにめ
っき液４を噴出する扇形の金属製のノズル３３が配設さ
れている。

５はシリコンゴムなどの弾性部材よりなるマスク板で、
めっき液噴出口３２を備えた回転めっきドラム３の全周
を取り巻いて取付けられている。

６はめっきマスクで、被処理物上のめっきエリアを規制
するもので前記マスク板５の外側に密着して、回転めっ
きドラムの外周に周設されている。

７は帯状の被処理物（正面図では省略）で、テンション
ローラでガイドされて回転めっきトラム３の外周に半周
にわたって巻きつけられ、矢印方向に連続して移動する
。

８は押さえベルトで、緊張手段により、被処理物に密着
して回転めっきドラム３の外周を半円周にわたって押圧
しつつ被処理物７とともに矢印方向へ移動する。

そして上記の装置は外槽９Ｉ内に配置され、ポンプ９２
によりめっき液４は白矢印の如くノズル３３を通って循
環するようになっている。

次に第２図によりマスク板６の詳細を説明する。

マスク板６はめっき液噴出口６１と、該めっき液噴出口
６１から離れるに従って浅くなる複数段の階段状のめっ
き液溜り６２ａ、　６２ｂが形成され、該めっき液溜り
６２ａ　、　６２ｂには入り口側に収部６３ａ、６３ｂ
が噴出口から遠い側には所定の大きさの排出口６４ａ。

６４ｂが適宜設けられている。まためっき液溜り６２ａ
、６２ｂの底部にはめっき電流供給用の補助電極６５ａ
、６５ｂが互いに絶縁されて設けられており、対向する
被処理物７との間に流れるめっき電流を、めっき溜りの
各段で独立に制御できるようになっている。

以上の構成になる部分めっき装置の、回転めっきドラム
３の外周のめっきマスク６に被処理物７を押さえベルト
８で押圧して密着せしめ、ノズル３３からめっき液４を
被処理物７の下面に噴射させると、ノズル４の直上部は
めっき液の流速と電流密度も大きいので大きな電着速度
でめっき被膜が形成される。そして噴射されためっき液
は四方へ分散し、収部５３ａを越えて第１のめっき液溜
り５２ａへ流入し、一部は排出口５４ａから排出され、
残りは収部５３ｂを越えて第２のめっき液溜り５２ｂへ
流入し排出口５４ａから排出される。

そしてこの際、めっき液流の流速は噴出口から離れるに
従って小さくなること、各めっき液溜りの補助電極を個
別に制御して各段ごとにめっき電流を適切に設定するこ
と及び各段の排出口の大きさと位置を適切に設定するこ
とにより、各めっき溜りに対向する被処理物の表面に厚
さの異なる複数段のめっきを施すことが容易である。

そして回転めっきドラムを回転することにより、帯状の
被処理物に連続して上記のめっき処理を連続して行うこ
とが可能点なる。

第３図は、第２図で示す横断面を有するマスク板を用い
て部分め仮を用いて部分めっきを施した被処理物７上の
めっき厚さの分布を模式的に示したもので、（ａ）は　
マスク板全周にねたて噴出口を設けて被処理物の移動方
向に連続した帯状部分めっきした場合を、また（ｂ）は
マスク板に所定のピッチで間歇的に噴射口を設けて、ス
ポット状に部分めっきした場合をそれぞれ示す。

いずれの場合も、ノズルから直接めっき液の噴肘を受け
る中央部７０が最も厚く、以下端部へ向かってめっき液
溜りの段数（２段）に対応して薄くなる３段の階段状の
段差を有する部分めっきが施されたことを表している。

以トの実施例においては、めっき液溜りを２段有するマ
スク仮について説明したが、段数を増加させることによ
り、めっき厚さを所望の段数で異ならしめた階段状の部
分めっきを得ることは容易である。

〔発明の効果〕

以上説明した如く、本発明の部分めっき装置によれば、
個所によりめっき膜の厚さが３段階以上界なる部分めっ
きを帯状被処理物に対して、同時に連続して行うことが
でき、コネクタのコンタクトや半Ｗ体集積回路のリード
フレームの品質向上と製造コストの削減に効果が顕著で
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の部分めっぎ装置の全体構成を示す図
、 第２図は、第１図のＡ部を示す拡大断面図、第３図は、
めっき後の被処理物を示す斜視図、である。 図において、 ３一回転めっきドラム、　３１−回転軸、３２・−開口
、　　　　　　　　３３−　ノズル、４−めっき液、　
　　　　５・−マスク板、５１−噴出口、　　　　　　
５２ａ、５２ｈ−めっき液溜り、　　　　　　　　　　
　５４ａ、５４ｂ　−排出口、５５ａ、５５ｂ　−一補
助電極、　　　６−めっきマスク、７−被処理物、　　
　　　８−押さえヘルド、である。 て、°パ′・ １９、−′ （の側面図 （ｂ＞正面図 従来の部◇ｒ、ぎ投置（７）要部１示す眸面図単４図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 回転軸（３１）を水平にした略円筒形の回転めっきドラ
   ム（３）と、 該回転めっきドラム（３）の内部に設けられ、被処理物
   （７）に下からめっき液（４）を噴射するノズル（３３
   ）と、 めっき液噴出口（５１）と、該めっき液噴出口（５１）
   から離れるに従って浅くなる複数段の階段状のめっき液
   溜り（５２ａ、５２ｂ）と、該めっき液溜り（５２ａ、
   ５２ｂ）の底に補助電極（５５ａ、５５ｂ）とめっき液
   の排出口（５４ａ、５４ｂ）とを有し、前記回転めっき
   ドラム（３）の円周に周設されたマスク板（５）と、前
   記マスク板（５）の外周に密設され、前記被処理物（７
   ）のめっきエリアを規定するめっきマスク（６）と、 該めっきマスク（６）に被処理物を押圧する押さえベル
   ト（８）と、 から構成されることを特徴とする帯状被処理物に対する
   部分めっき装置。