JPH01210424A - ポリアリールエーテルケトン - Google Patents
ポリアリールエーテルケトンInfo
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- JPH01210424A JPH01210424A JP63323793A JP32379388A JPH01210424A JP H01210424 A JPH01210424 A JP H01210424A JP 63323793 A JP63323793 A JP 63323793A JP 32379388 A JP32379388 A JP 32379388A JP H01210424 A JPH01210424 A JP H01210424A
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-
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- C08G65/34—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
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- C08G65/4012—Other compound (II) containing a ketone group, e.g. X-Ar-C(=O)-Ar-X for polyetherketones
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明はボリアリールエーテルに関し、特に芳香環の幾
つかの間にケトン結合を含むそのようなポリマーに関す
る。
つかの間にケトン結合を含むそのようなポリマーに関す
る。
ボリアリールb・トンは多年にわたり公知であり、例え
ばイギリス特許971227明細書及び米国特許466
8744明細書から公知である。しかし後者は特にボリ
アリールエーテルケトン及び液体の結晶質のポリエステ
ルから形成されるブロック共重合エステルに関する。
ばイギリス特許971227明細書及び米国特許466
8744明細書から公知である。しかし後者は特にボリ
アリールエーテルケトン及び液体の結晶質のポリエステ
ルから形成されるブロック共重合エステルに関する。
本発明の目的は、予期に反した有利な性質を示すボリア
リールエーテルケトンを提供することにある。
リールエーテルケトンを提供することにある。
省略記号rPhjは、本明細書において「1,4−フェ
ニレン」を示す為に用いられる。
ニレン」を示す為に用いられる。
本発明の第一の面によれば、構造式I及び■:八へ
II(式中Arは
4.4′−ビフェニレン又は4′。
II(式中Arは
4.4′−ビフェニレン又は4′。
4″−ターフェニレンである)
で表わされる繰り返し単位単独又は他の繰り返し単位と
共に有し、この繰り返し単位はエーテル結合によって接
続されている。ポリアリールエーテルケトンは又構造式
■: ph co ph co ph mで表わ
される繰り返し単位を含む。
共に有し、この繰り返し単位はエーテル結合によって接
続されている。ポリアリールエーテルケトンは又構造式
■: ph co ph co ph mで表わ
される繰り返し単位を含む。
構造式■のモル量は、構造式1及び■の一緒になったモ
ル量の90%まで、好ましくは75%まで、より好まし
くはその一緒になった四の50%までである。
ル量の90%まで、好ましくは75%まで、より好まし
くはその一緒になった四の50%までである。
本発明のポリマーは、更に次の繰り返し単位、例えば1
,4−フェニレン;2.6−ナフチレン;4.4′−ジ
フェニルスルホンi4,4’−ジフェニルケトン;1.
4−ビス(4−フェニルスルホニル)ベンゼン; 4
、4’−ビス(4−ベンゾイル)ビフェニル;及び4.
4′−ビス(4−フェニルスルホニル)ビフェニルの少
量ヲ含むことができる。
,4−フェニレン;2.6−ナフチレン;4.4′−ジ
フェニルスルホンi4,4’−ジフェニルケトン;1.
4−ビス(4−フェニルスルホニル)ベンゼン; 4
、4’−ビス(4−ベンゾイル)ビフェニル;及び4.
4′−ビス(4−フェニルスルホニル)ビフェニルの少
量ヲ含むことができる。
芳香族ポリエーテルにおいて用いられるこれ等の又は他
の繰り返し単位は、ポリマーの本質的特質を落さないモ
ル割合で存在することができ例えば50%までであるが
一般に20%以下である。
の繰り返し単位は、ポリマーの本質的特質を落さないモ
ル割合で存在することができ例えば50%までであるが
一般に20%以下である。
式■の化合物が存在する場合、構造式I (又は構造式
I及び■)の繰り返し単位は、好ましくはポリマーの5
0モル%に達し更に好ましくはポリマーの20モル%未
満に達する。式■の構造単位は、好ましくはポリマーの
50モル%であり、更に好ましくはポリマーの20モル
%未満である。
I及び■)の繰り返し単位は、好ましくはポリマーの5
0モル%に達し更に好ましくはポリマーの20モル%未
満に達する。式■の構造単位は、好ましくはポリマーの
50モル%であり、更に好ましくはポリマーの20モル
%未満である。
本発明は予期しない高程度の結晶度を示す新規なポリマ
ーを提供する。1.3−フェニレン結合を導入している
公知のポリアリールエーテルケトンは、商業的に有用で
ある十分な結晶度は見い出されなかった。
ーを提供する。1.3−フェニレン結合を導入している
公知のポリアリールエーテルケトンは、商業的に有用で
ある十分な結晶度は見い出されなかった。
本発明のポリマーは、アニール後、典型的には相当に高
程度の結晶度、例えば30〜60%、°−喰には約40
%の結晶度を示す。高程度の結晶度は、溶融二次加工の
前に合成されたポリマーにおいて観察される。これ等の
高程度の結晶度は、耐溶剤性が必要とされているか又は
フィルムもしくは繊維の製造において配向が必要とされ
ているポリマーに対して多(の用途を与える。
程度の結晶度、例えば30〜60%、°−喰には約40
%の結晶度を示す。高程度の結晶度は、溶融二次加工の
前に合成されたポリマーにおいて観察される。これ等の
高程度の結晶度は、耐溶剤性が必要とされているか又は
フィルムもしくは繊維の製造において配向が必要とされ
ているポリマーに対して多(の用途を与える。
好ましいポリマーにおいて、ArはPhzである。
これ等のポリマーは高度に結晶質である。ポリマーは通
常の冷却条件、例えば20°/分では結晶しないけれど
も、ポリマーは、例えば270°で数分間のアニールに
より結晶化する。この性質はフィルムの二次加工及びシ
ートの熱形成を促進する。
常の冷却条件、例えば20°/分では結晶しないけれど
も、ポリマーは、例えば270°で数分間のアニールに
より結晶化する。この性質はフィルムの二次加工及びシ
ートの熱形成を促進する。
本発明に係るポリマーの幾つかの融点(’I’m)及び
ガラス転移温度(Tg)の割合は、特に前記の結晶性と
一緒になって予期に反した有利性を与えることがわかっ
た。結晶質の熱可塑性プラスチックは、規則Tg(’K
) / Tm(’K)が1/2〜2/3(ビルメラー、
FW、ポリマー科学のテキスト、ライレイインターサイ
エンス、1962.212参照)に従うことが既に知ら
れていた。しかし、本発明の幾つかのポリマーは、Tg
(氷)77m(’K)の割合は0.70以上で約0.7
5に達している。
ガラス転移温度(Tg)の割合は、特に前記の結晶性と
一緒になって予期に反した有利性を与えることがわかっ
た。結晶質の熱可塑性プラスチックは、規則Tg(’K
) / Tm(’K)が1/2〜2/3(ビルメラー、
FW、ポリマー科学のテキスト、ライレイインターサイ
エンス、1962.212参照)に従うことが既に知ら
れていた。しかし、本発明の幾つかのポリマーは、Tg
(氷)77m(’K)の割合は0.70以上で約0.7
5に達している。
軟化点(即ちガラス転移温度)は、ポリアリールケトン
PEEK (’rg = 143°C; Tn+ =
334°C)及びPEに (Tg = 150″(:
;Tm = 365°C)のそれよりもより高く更に融
点(この温度で加工は行うことができる)は実質的によ
り低い。
PEEK (’rg = 143°C; Tn+ =
334°C)及びPEに (Tg = 150″(:
;Tm = 365°C)のそれよりもより高く更に融
点(この温度で加工は行うことができる)は実質的によ
り低い。
本発明に係るポリマーの合成において使用する為の特に
有用なモノマーは、1.3−ビス(4−フルオロベンゾ
イル)ベンゼンであり、経済的な前駆体からのその手軽
な製造は更に有利である。
有用なモノマーは、1.3−ビス(4−フルオロベンゾ
イル)ベンゼンであり、経済的な前駆体からのその手軽
な製造は更に有利である。
本発明の第二の面によれば、フィルム、繊維もしくは耐
溶剤製品もしくは複合材料は第一の面に従ってボリアリ
ールエーテルケトンを含んでなる。
溶剤製品もしくは複合材料は第一の面に従ってボリアリ
ールエーテルケトンを含んでなる。
多くの適用に対し、本発明のポリマーは安定剤以外に任
意の少数の添加剤と共に使用することができるけれども
、それ等は例えば以下の一種又はそれ以上の添加剤を含
有するポリマー組成物として使用できる;種々のレベル
の相容性での無機及び有機繊維充填剤例えばガラス、炭
素もしくはボリーバラフェニレンチレフタールアミド;
有機充填剤例えばポリスルホン、ポリケトン、ポリイミ
ド、ポリエステル及びポリテトラフルオロエチレン;並
びにヴアーミキュライト;成核剤;及び安定化剤例えば
ホスフェート及びそれ等の組み合わせ。
意の少数の添加剤と共に使用することができるけれども
、それ等は例えば以下の一種又はそれ以上の添加剤を含
有するポリマー組成物として使用できる;種々のレベル
の相容性での無機及び有機繊維充填剤例えばガラス、炭
素もしくはボリーバラフェニレンチレフタールアミド;
有機充填剤例えばポリスルホン、ポリケトン、ポリイミ
ド、ポリエステル及びポリテトラフルオロエチレン;並
びにヴアーミキュライト;成核剤;及び安定化剤例えば
ホスフェート及びそれ等の組み合わせ。
添加剤の合計含量は典型的には、全組成物の0.1〜8
0重量%、好ましくはせいぜい70重量%である。組成
物は、例えば5〜30重量%の窒化ホウ素、又は少なく
とも20重量%の短ガラスもしくは炭素繊維、又は50
〜70容量%、好ましくは約60容量%の連続ガラスも
しくは炭素繊維(例えば[!P−A 56703.10
2158及び102159参照)、又はフッ素含有ポリ
マー、グラファイト及び有機もしくは無機繊維充填剤を
含有することができ、更にこれ等の添加物の合計割合は
、全組成物の好ましくは20〜50重量%である。本発
明の第三の面によれば、ポリアリールケトンの製造方法
は、実質的に無水条件下、塩基の存在のもと 次式 ■: で表わされる少なくとも1種の化合物を、構造式: %式% で表わされる少なくとも1種の化合物E重縮合させる工
程を含んでなり; 前記式中、Arおよびphは先に定義した意味であり、
YI 、 Yz 、 Y3およびY4は各々独立にハロ
ゲン又はOHであり、Y、および/又はY4がハロゲン
の場合、5Arはハロゲンに対し〇−位又はP−位の少
なくとも1つの位置において不活性電子吸引基によって
活性化されているような基であり、更に、弐■および式
■の各化合物の割合並びにYI 、 Yz 、 Y3お
よびY4はハロゲンおよび基OHが実質的に当モル量で
あるように選ばれている。
0重量%、好ましくはせいぜい70重量%である。組成
物は、例えば5〜30重量%の窒化ホウ素、又は少なく
とも20重量%の短ガラスもしくは炭素繊維、又は50
〜70容量%、好ましくは約60容量%の連続ガラスも
しくは炭素繊維(例えば[!P−A 56703.10
2158及び102159参照)、又はフッ素含有ポリ
マー、グラファイト及び有機もしくは無機繊維充填剤を
含有することができ、更にこれ等の添加物の合計割合は
、全組成物の好ましくは20〜50重量%である。本発
明の第三の面によれば、ポリアリールケトンの製造方法
は、実質的に無水条件下、塩基の存在のもと 次式 ■: で表わされる少なくとも1種の化合物を、構造式: %式% で表わされる少なくとも1種の化合物E重縮合させる工
程を含んでなり; 前記式中、Arおよびphは先に定義した意味であり、
YI 、 Yz 、 Y3およびY4は各々独立にハロ
ゲン又はOHであり、Y、および/又はY4がハロゲン
の場合、5Arはハロゲンに対し〇−位又はP−位の少
なくとも1つの位置において不活性電子吸引基によって
活性化されているような基であり、更に、弐■および式
■の各化合物の割合並びにYI 、 Yz 、 Y3お
よびY4はハロゲンおよび基OHが実質的に当モル量で
あるように選ばれている。
ハロゲン原子は塩素又は特にフッ素であるのが好ましい
。ハロゲンと水酸基の実質的に当モル量を使用するのが
好ましい。何故ならば何れか一方の過剰量は、得られる
ポリマーの分子量の減少をもたらすからである。ハロゲ
ン又は水酸基の何れかを幾分過剰、例えば5モル%まで
、特に2モル%まで更に特に過剰のハロゲンは最も安定
なポリマーを得る為に使用できる。
。ハロゲンと水酸基の実質的に当モル量を使用するのが
好ましい。何故ならば何れか一方の過剰量は、得られる
ポリマーの分子量の減少をもたらすからである。ハロゲ
ン又は水酸基の何れかを幾分過剰、例えば5モル%まで
、特に2モル%まで更に特に過剰のハロゲンは最も安定
なポリマーを得る為に使用できる。
Yl及び’Itが同じであり、例えば両方ともハロゲン
、特に双方ともフッ素又は塩素であり、Y3及びY4が
同じであり、例えば双方とも水酸基であるような化合物
を用いるのが好都合である。しかし数種の化合物におい
てY、及びY2、又はY3もしくはY4が共にハロゲン
であり更に他の化合物においてYI及びYts又はY、
及びY4が双方とも水酸基であるような化合物の混合物
を使用することができる。
、特に双方ともフッ素又は塩素であり、Y3及びY4が
同じであり、例えば双方とも水酸基であるような化合物
を用いるのが好都合である。しかし数種の化合物におい
てY、及びY2、又はY3もしくはY4が共にハロゲン
であり更に他の化合物においてYI及びYts又はY、
及びY4が双方とも水酸基であるような化合物の混合物
を使用することができる。
次式
%式%
の少なくとも一種の化合物として使用される化合物には
、特に4,4′−ジヒドロキシビフェニル−更に4 、
4 ”’−ジヒドロキシパラーターフ工ニルが含まれる
。
、特に4,4′−ジヒドロキシビフェニル−更に4 、
4 ”’−ジヒドロキシパラーターフ工ニルが含まれる
。
次の付加的試剤を少量用いることができる;ヒドロキノ
ン; 4.4′−ジヒドロキシベンゾフェノン;4.4′−ジ
フルオロベンゾフェノン;4.4′−ジクロロジフェニ
ルスルホン;4.4′−ジヒドロキシジフヱニルスルフ
ォン;ヒフ、−1、4−(4−フルオロベンゾイル)ベ
ンゼン; ビス−1,4−(4−クロロベンゾイル)ベンゼン; ビス−1,4−(4−ヒドロキシベンゾイル)ベンゼン
; ビス−1,4−(4−クロロフェニルスルホニル)ベン
ゼン; ビス−4,4’−(4−クロロフェニルスルホニル)ビ
フェニル; 1−(4−’Fロロフェニルスルホニル)−4−(4−
フルオロベンゾイル)ベンゼン;4−(4−クロロフェ
ニルスルホニル)フェノール;及び 4−(4−フルオロベンゾイル)フェノール。
ン; 4.4′−ジヒドロキシベンゾフェノン;4.4′−ジ
フルオロベンゾフェノン;4.4′−ジクロロジフェニ
ルスルホン;4.4′−ジヒドロキシジフヱニルスルフ
ォン;ヒフ、−1、4−(4−フルオロベンゾイル)ベ
ンゼン; ビス−1,4−(4−クロロベンゾイル)ベンゼン; ビス−1,4−(4−ヒドロキシベンゾイル)ベンゼン
; ビス−1,4−(4−クロロフェニルスルホニル)ベン
ゼン; ビス−4,4’−(4−クロロフェニルスルホニル)ビ
フェニル; 1−(4−’Fロロフェニルスルホニル)−4−(4−
フルオロベンゾイル)ベンゼン;4−(4−クロロフェ
ニルスルホニル)フェノール;及び 4−(4−フルオロベンゾイル)フェノール。
説明したように、ポリマーの分子量は過剰量のハロゲン
もしくは水酸基の使用によって影響されるが、しかし僅
かに過剰のハロゲンもしくは水酸基、例えば5モル%ま
での過剰量、特に2モル%までの過剰量は使用でき更に
ポリマーの分子量を調節するのに用いることができる。
もしくは水酸基の使用によって影響されるが、しかし僅
かに過剰のハロゲンもしくは水酸基、例えば5モル%ま
での過剰量、特に2モル%までの過剰量は使用でき更に
ポリマーの分子量を調節するのに用いることができる。
別に、分子量は又反応混合物に少量割合、例えば1モル
%未満、特に0.1モル%(七ツマ−に対する)の単官
能性化合物例えばフェノールもしくは、好ましくは活性
アリールモノハロゲン化物を導入することにより調整す
ることができる。
%未満、特に0.1モル%(七ツマ−に対する)の単官
能性化合物例えばフェノールもしくは、好ましくは活性
アリールモノハロゲン化物を導入することにより調整す
ることができる。
重合反応は不活性溶剤の存在中又は溶剤の非存在下で行
うことができる。
うことができる。
好ましくは溶剤が用いられ、次式;
%式%
(ここでαは1又は2であり;更にRもしくはR′は同
一でも又は異なっていてもよく、アルキルもしくはアリ
ール基であり、更に一緒になって二価の基を形成する) で表わされる脂肪族もしくは芳香族スルホキシド又はス
ルホンである。このタイプの溶剤には、ジメチルスルホ
キシド、ジメチルスルホン及びスルホン(1,1−ジオ
キソチラン)が含まれるが、好ましい溶剤は次式: こ\でTは直接結合、酸素原子もしくは二個の水素原子
(一種は各ベンゼン環に結合しているであり、更にZ及
びZ′同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキ
ル、アルカリール、アルアルキル又はアリール基である
) で表わされる芳香族スルホンである。
一でも又は異なっていてもよく、アルキルもしくはアリ
ール基であり、更に一緒になって二価の基を形成する) で表わされる脂肪族もしくは芳香族スルホキシド又はス
ルホンである。このタイプの溶剤には、ジメチルスルホ
キシド、ジメチルスルホン及びスルホン(1,1−ジオ
キソチラン)が含まれるが、好ましい溶剤は次式: こ\でTは直接結合、酸素原子もしくは二個の水素原子
(一種は各ベンゼン環に結合しているであり、更にZ及
びZ′同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキ
ル、アルカリール、アルアルキル又はアリール基である
) で表わされる芳香族スルホンである。
このような芳香族スルホン酸の例には、ジフェニルスル
ホン、ジトリルスルホン、ジベンゾチオフェンジオキシ
ド、フェノキサチンジオキシド及び4−フェニルスルホ
ニルビフェニルが含まれる。
ホン、ジトリルスルホン、ジベンゾチオフェンジオキシ
ド、フェノキサチンジオキシド及び4−フェニルスルホ
ニルビフェニルが含まれる。
ジフェニルスルホンは、好ましい溶剤である。使用でき
る他の溶剤には、N、N’ −ジメチルホルムアミドN
−メチル−2−ピロリドン及びベンゾフェノンが含まれ
る。
る他の溶剤には、N、N’ −ジメチルホルムアミドN
−メチル−2−ピロリドン及びベンゾフェノンが含まれ
る。
重合は、少なくとも一種の塩基、アルカリ金属水酸化物
、炭酸塩もしくは炭酸水素塩の存在下で行われる。
、炭酸塩もしくは炭酸水素塩の存在下で行われる。
もしもアルカリ金属水酸化物を用いる場合、これは好ま
しくは重縮合中用いられるハロフェノールもしくはビス
フェノール化合物のフェノール基で予備処理されアルカ
リ金属ハロフェネートもしくはビスフェネートを形成す
る。塩は好ましくは微細に分割された形で存在すべきで
あり、例えば1mm未満の粒径を有し、好ましくは50
0ミクロン未満の粒径を有する。
しくは重縮合中用いられるハロフェノールもしくはビス
フェノール化合物のフェノール基で予備処理されアルカ
リ金属ハロフェネートもしくはビスフェネートを形成す
る。塩は好ましくは微細に分割された形で存在すべきで
あり、例えば1mm未満の粒径を有し、好ましくは50
0ミクロン未満の粒径を有する。
もしも塩基がアルカリ金属炭酸塩もしくは炭酸水素塩で
ある場合、これ等は好ましくは無水物質として用いられ
る。しかし、もしも水和塩を用いる場合、これ等は、十
分に高い重合温度を用いる場合重合温度までに加熱する
期間の間脱水され得る。
ある場合、これ等は好ましくは無水物質として用いられ
る。しかし、もしも水和塩を用いる場合、これ等は、十
分に高い重合温度を用いる場合重合温度までに加熱する
期間の間脱水され得る。
アルカリ金属水酸化物、炭酸塩もしくは炭酸水素塩は、
出発化合物のフェノール性基に関し少なくとも化学量論
的割合で用いられるべきである。
出発化合物のフェノール性基に関し少なくとも化学量論
的割合で用いられるべきである。
僅かに過剰の塩基を用いるのが好ましく、これは、化合
物中に存在するフェノール性基の割合に対し1〜25モ
ル%、特に1〜5モル%の範囲内で過剰に存在する。
物中に存在するフェノール性基の割合に対し1〜25モ
ル%、特に1〜5モル%の範囲内で過剰に存在する。
固有粘度(m は、25 ’C−<’ 100a100
a 98%硫酸100−に溶解した0、10g+aのポ
リマー溶液中で測定された。TII+及びTgを、DS
C法により測定した。こ−でTgは、非晶質フィルムを
加熱したプロセスでの開始Tgであり、一方Tmは溶融
吸熱のピークである。
a 98%硫酸100−に溶解した0、10g+aのポ
リマー溶液中で測定された。TII+及びTgを、DS
C法により測定した。こ−でTgは、非晶質フィルムを
加熱したプロセスでの開始Tgであり、一方Tmは溶融
吸熱のピークである。
本発明を更に次の実施例により説明するが本発明はこれ
に限定されないことはもとよりである。
に限定されないことはもとよりである。
例1
250 dの三つ日丸底フラスコに、1.3−ビス−(
4−フルオロベンゾイル)−ベンゼン(16,28g、
0.0505モル)、4.4’−ジヒドロキシビフェ
ニル(9,31g、0.0500モル)及びジフェニル
スルホン(60,0g )を投入した。フラスコは、窒
素導入口、サーモカップル、撹拌機及びスチールヘッド
/レシーバ−を備えており、更に加熱液体金属浴に浸し
た。
4−フルオロベンゾイル)−ベンゼン(16,28g、
0.0505モル)、4.4’−ジヒドロキシビフェ
ニル(9,31g、0.0500モル)及びジフェニル
スルホン(60,0g )を投入した。フラスコは、窒
素導入口、サーモカップル、撹拌機及びスチールヘッド
/レシーバ−を備えており、更に加熱液体金属浴に浸し
た。
内部温度が約160°Cに達し、フラスコ内容物が液体
になった時、炭酸ナトリウム(5,30g、0.050
モル)及び炭酸カリウム(0,14g、0.001モル
)を、撹拌しつ、\かつ窒素を導入しながら添加した。
になった時、炭酸ナトリウム(5,30g、0.050
モル)及び炭酸カリウム(0,14g、0.001モル
)を、撹拌しつ、\かつ窒素を導入しながら添加した。
これ等の添加を行いながら、フラスコ内容物を次の如く
加熱した:175°Cで0.5時間、200°Cで0.
52時間、250℃で0.5時間更に300″Cで0.
66時間。
加熱した:175°Cで0.5時間、200°Cで0.
52時間、250℃で0.5時間更に300″Cで0.
66時間。
変性のポリマー溶液である生成物を、アルミニウムシー
ト上に注ぎ、冷却せしめ次いで回転ハンマーミル内で3
I1mのスクリーンを通して粉砕した。
ト上に注ぎ、冷却せしめ次いで回転ハンマーミル内で3
I1mのスクリーンを通して粉砕した。
粉砕生成物を、ジフェニルスルホン及び無機塩を除く為
ガラス焼結管内で20°Cのアセトン(21)で更に8
0°Cの水(21)で抽出した。ポリマーを140°C
で乾燥し次いでポリマーは次式の構造:を有する式IV
1.27であることが判明した。
ガラス焼結管内で20°Cのアセトン(21)で更に8
0°Cの水(21)で抽出した。ポリマーを140°C
で乾燥し次いでポリマーは次式の構造:を有する式IV
1.27であることが判明した。
差動走査針(DSC)により、ガラス転移温度(Tg)
160°C並びに結晶融点(Tm) 305°Cを得
た。
160°C並びに結晶融点(Tm) 305°Cを得
た。
毎分20°Cでメルトを冷却口だ場合結晶を導くことは
できなかったが、毎分0.5°Cで冷却したら38%の
結晶化度を得た(DSCにより更にポリマーはポリアリ
ールエーテルケトン、PEf!にと同じ融解熱を有して
いる)、270℃で5分間アニールすると30%の結晶
化度が得られた。
できなかったが、毎分0.5°Cで冷却したら38%の
結晶化度を得た(DSCにより更にポリマーはポリアリ
ールエーテルケトン、PEf!にと同じ融解熱を有して
いる)、270℃で5分間アニールすると30%の結晶
化度が得られた。
例2
例1に記載したプロセスと同様のプロセスを用いてコポ
リマーを調製した。但しこの例においては1,3−ビス
−(4−フルオロベンゾイル)ベンゼンの代りに、1.
3−ビス−(4−フルオロベンゾイル)ベンゼン(8,
14g 、 0.02525モル)及び1.4−ビス−
(4−フルオロベンゾイル)ベンゼン(8,14g、0
.02525モル)の混合物、即ちメタ及びバラ異性体
の50 : 50混合物を用いた。
リマーを調製した。但しこの例においては1,3−ビス
−(4−フルオロベンゾイル)ベンゼンの代りに、1.
3−ビス−(4−フルオロベンゾイル)ベンゼン(8,
14g 、 0.02525モル)及び1.4−ビス−
(4−フルオロベンゾイル)ベンゼン(8,14g、0
.02525モル)の混合物、即ちメタ及びバラ異性体
の50 : 50混合物を用いた。
生成物は式IV0.88を有し、更に当モル中、構造及
び を含有していた。
び を含有していた。
’rgは162℃であり更に二種のT−が337°C及
び378℃で得られた。
び378℃で得られた。
結晶化度のレベルは、メルトから毎分0.5°Cで冷却
し39%であった。
し39%であった。
例3
例2におけると同様に操作したが、但し1,3−ビス−
(4−フルオロベンゾイル)ベンゼン(4,03g 、
0.0125モル)及び1.4−ビス−(4−フルオ
ロベンゾイル)−ベンゼン(12,08g 。
(4−フルオロベンゾイル)ベンゼン(4,03g 、
0.0125モル)及び1.4−ビス−(4−フルオ
ロベンゾイル)−ベンゼン(12,08g 。
0.0375モル)、即ちメタ及びパラ異性体の25
: 75混合物を用いてコポリマーを調製した。
: 75混合物を用いてコポリマーを調製した。
生成物は0.33の■、7g154℃及びTm 405
℃及び融点から毎分0.5°Cで冷却した場合結晶化度
59%を有していた。
℃及び融点から毎分0.5°Cで冷却した場合結晶化度
59%を有していた。
例4
例1におけると同様に操作したが、1.3−ビス−(4
−クロロベンゾイル)−ベンゼン(17,94g、0.
0505モル)を対応するフッ素化合物の代りに用いて
ポリマーを調製した。重合は300°Cで4時間40分
行った。
−クロロベンゾイル)−ベンゼン(17,94g、0.
0505モル)を対応するフッ素化合物の代りに用いて
ポリマーを調製した。重合は300°Cで4時間40分
行った。
コノポリマーは[V=1.05、Tg = 152°C
及びTm = 300°Cを有し、更に380℃で成形
後靭性(折り目形成適性)フィルムを得た。毎分0.5
°Cで冷却した結晶化度は38%であった。
及びTm = 300°Cを有し、更に380℃で成形
後靭性(折り目形成適性)フィルムを得た。毎分0.5
°Cで冷却した結晶化度は38%であった。
比較例
(この例は求電子ルートによるメタ結合ポリマーの調製
を示し、これはメルトからの結晶化が行われない) ■ヤンソン及びHCゴースの方法(PCT 84103
891)により、次の構造式: を有するポリマーをイソフタロイルクロリド及びジフェ
ニルエーテルから得た。
を示し、これはメルトからの結晶化が行われない) ■ヤンソン及びHCゴースの方法(PCT 84103
891)により、次の構造式: を有するポリマーをイソフタロイルクロリド及びジフェ
ニルエーテルから得た。
製造したま−の生成物は、’rg 155°及びTll
1262°を有し、結晶化度31%を有していた。しか
しこのポリマーはメルトから結晶化せず更に230℃で
保持しても結晶化しなかった。
1262°を有し、結晶化度31%を有していた。しか
しこのポリマーはメルトから結晶化せず更に230℃で
保持しても結晶化しなかった。
請求の範囲第1項で記載したボリアリールエーテルケト
ンは単独で又は任意の組み合わせにより次の好ましい特
性を有している: 1、更に付加的に構造■の繰り返し単位を含む;ph
co ph co ph at ;2、
本発明のボリアリールエーテルケトンは次の群から選
ばれる繰り返し単位の小割合を含む;2.6−ナフチレ
ン、4.4′−ジフェニルスルホン、4.4’−ジフェ
ニルケトン、1.4−ビス(4−フェニルスルホニル)
ベンゼン、4.4′−ビス(4−ベンゾイル)ビフェニ
ル及び4.4′−ビス(4−フェニルスルホニル)ビフ
ェニル; 3、 ArがPhiである;更に 4、本発明のボリアリールエーテルケトンは少なくとも
30%の結晶化度を示す。
ンは単独で又は任意の組み合わせにより次の好ましい特
性を有している: 1、更に付加的に構造■の繰り返し単位を含む;ph
co ph co ph at ;2、
本発明のボリアリールエーテルケトンは次の群から選
ばれる繰り返し単位の小割合を含む;2.6−ナフチレ
ン、4.4′−ジフェニルスルホン、4.4’−ジフェ
ニルケトン、1.4−ビス(4−フェニルスルホニル)
ベンゼン、4.4′−ビス(4−ベンゾイル)ビフェニ
ル及び4.4′−ビス(4−フェニルスルホニル)ビフ
ェニル; 3、 ArがPhiである;更に 4、本発明のボリアリールエーテルケトンは少なくとも
30%の結晶化度を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、構造式 I およびII: ▲数式、化学式、表等があります▼ I ArII (式中、Phは1,4−フェニレンであり、Arは4,
4′−ビフェニレン又は4,4″−ターフェニレンであ
る) で表わされる構造単位単独又は他の繰り返し単位と共に
有し、この繰り返し単位がエーテル結合によって接続さ
れていることを特徴とする、ポリアリールエーテルケト
ン。 2、請求の範囲第1項記載のポリアリールエーテルケト
ンを含んでなるフィルム、繊維又は耐溶剤性製品又は複
合材料製品。 3、請求の範囲第1項記載のポリアリールエーテルケト
ンの製造方法であって、実質的に無水条件下、塩基の存
在のもと 次式IV: ▲数式、化学式、表等があります▼IV で表わされる少なくとも1種の化合物を、構造式V: Y_3ArY_4V で表わされる少なくとも1種の化合物ヒ重縮合させるこ
とを含んでなる前記製造方法; 前記式中、ArおよびPhは先に定義した意味であり、
Y_1,Y_2,Y_3およびY_4は各々独立にハロ
ゲン又はOHであり、Y_3および/又はY_4がハロ
ゲンの場合、基Arはハロゲンに対しO−位又はP−位
の少なくとも1つの位置において不活性電子吸引基によ
って活性化されているような基であり、更に式IVおよび
式Vの各化合物の割合並びにY_1,Y_2,Y_3お
よびY_4はハロゲンおよび基OHが実質的に当モル量
であるように選ばれている。
Applications Claiming Priority (2)
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- 1988-12-13 EP EP88311788A patent/EP0323076A3/en not_active Withdrawn
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- 1988-12-23 US US07/288,866 patent/US4970284A/en not_active Expired - Fee Related
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