JPH01204916A - 放射線硬化性塗料 - Google Patents
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Landscapes
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- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
して、磁気テープ、磁気ディスク等の611気記録媒体
を製造する際に使用される磁性塗料として好適に用いら
れる放射線硬化性塗料に関するものである。
持体上に、磁性粉、重合体、溶剤および各種の添加剤か
らなる磁性塗料を塗布して磁性層を形成したものである
。
ル系二重結合を有する放射線硬化性重合体を用い、これ
を磁性粉、溶剤等と共に混合した放射線硬化性磁性塗料
の塗膜を放射線照射によって硬化する方法が知られてい
る。
を高めるために、第3級アミノ基等を始めとして種々の
親水性基を導入した放射線硬化性ポリウレタン樹脂を用
いることが示されている(特開昭57−92421号公
報)。
アミノ基等を有する放射線硬化性樹脂を用いて製造した
磁性塗料は、その磁性粉分散性能において十分に満足で
きるものではなかった。また、このような第3級アミノ
基等を有する放射線硬化性樹脂を用いて製造した磁気記
録媒体は、特に高温高湿度(50℃、90%相対湿度)
下および低温度(−10℃)下、さらには温度サイクル
(−10〜40℃)下での実走行耐久性に劣るという欠
点を有していた。
性能を有することに加え、常温下での優れた実走行耐久
性はいうに及ばず、高温高湿度(50℃、90%相対湿
度)下および低温j[(−10℃)下、更には温度サイ
クル条件(−10〜40℃)下といった幅広い使用環境
下での優れた実走行耐久性を有する磁気記録媒体を与え
る放射線硬化性塗料を提供することにある。
ィスク等の磁気記録媒体の基板フィルムとして汎用され
ているポリエステルフィルムに対する優れた密着性を持
ち、かつ機械的強度に優れた磁性塗膜を有する磁気記録
媒体を与える放射線硬化性塗料を提供することにある。
クリル系二重結合を有し、かつ下記−数式(1) (式中、nlは第2級アミン残基、R2は水素原子また
はメチル基を示す。〕 で表わされる基を、ポリウレタン1グラムあたりlXl
0−’〜5X10−’グラム当量有するポリウレタンを
含有することを特徴とする放射線硬化性塗料を1是供す
るものである。
で表わされる基のII′は第25級アミン残基である。
Nil−構造部分から水素原子を除去したものである。
れる化合物(R3およびR4は同一でも異なってもよく
、メチル基、エチル基、プロピル基、ペンチル基、ヘプ
チル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基;フェニ
ル基、ベンジル基等のアリール基;シクロヘキシル基等
のシクロアルキル基;ジプロパルギル基等のアルケニル
基、または水酸基やカルボキシル基を含む基等を示す)
、例えばN−メチルアニリン、N−n−ブチルアニリン
、3−クロロジフェニルアミン、ジアリルアミン、ジ−
ローアミルアミン、ジイソアミルアミン、ジイソブチル
アミン、ジベンジルアミン、ジ−n−デシルアミン、ジ
イソプロピルアミン、ジ−ローブチルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、ジフェニルアミン、ジアリルアミン、
ジブロバルギルアミン、p−イソプロピルベンジルアミ
ン、N−メチルアントラニル酸、N−メチルベンジルア
ミン、N−メチルエタノールアミン、N−メチル−m−
)ルイジン、N−フェニルアントラニル酸、N−フェニ
ルベンジルアミン、N−フェニルグリシン、フルフェナ
ミン酸、2−n−デシルアミノエタンチオール、イシノ
ニ酢酸等、および環状第2級アミン、例えばカルボキシ
メチルメルカプトプリン、2.6−シメチルビベリジン
、3.5−ジメチルピラゾール、ヘキサメチレンイミン
、し−ヒドロキシプロリン、イミダゾール、インドール
等を挙げることができる。これらの第2級アミンのうち
、特にジ−n−ブチルアミン、N−n−ブチルアニリン
、ジ−n−デシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N
−メチルベンジルアミン、ジイソブチルアミン等が好ま
しい。
(I)で表わされる基をポリウレタン1グラム当たりt
xto−’〜5X10−3グラム当量、好ましくは、t
xio−6〜5X10−3グラム当量有する必要がある
。上記−数式(I)で表わされる基の含有量がポリウレ
タン1グラム当たり5X10−3グラム当量を超えると
、本発明の放射線硬化性塗料を1iil性塗料として用
いる場合に使用される汎用溶媒、例えば、トルエン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等に対する
溶解度が低下し、1×10−7グラム当量未満であると
磁性粉の分散性能が不十分となり、磁気記録特性の低下
を招く。
により製造することができる。
表わされるジオールから選ばれる少なくとも1 fff
lと、必要に応じて前記以外のジオールとを、下記−能
代(j)で表わされるジイソシアネートと反応させる。
ラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等
の62〜C6、好ましくは62〜C4のアルキレン基で
あり、「2は、 −CII 2− Ctl −CII −CII 2−
、− CIf −CII −C113−C−CII −
。
2h−1←CII 2 h−、←C11,)7− 、−
CミC−等の62〜C6の2価の脂肪族基、脂環式基
または芳香族であり、qは、1〜50の数である。〕 110−(IIIO2、−It”−011川・・・・・
−(b)〔式中、1目は、−1’J2式(a)と同じで
あり、Sは1〜50の数である。) (式中、nll は、−能代(a)と同じであり、tお
よびUは同一でも異なってもよく、それぞれ1〜20の
数である。) 〔式中、11′3は、 CI+2−0→C112CII 2− Ohr−−CI
f 2−1C112−0−+C11i−Cll−0ト−
CH2−1C11゜ −C1h = 0−−→CII 2 CII x CH
x C)l 20 h−−C; H2−1に H,CH
2CHp H (式中aは、0〜20、好ましくは1から10の整数で
あり、Xはフッ素原子、塩素原子または臭素原子を意味
する)等の置換基を有していてもよいC2〜coo s
好ましくは64〜C48の2価の脂肪族基、脂環式基は
または芳香族基を意味し、前記例示のようにこれらの脂
肪族基、脂環式基および芳香族基は、その構造中に (n14は水素原子、水酸基または、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、アシル基、フェニル基、ベ
ンジル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等の置
換基を有していてもよいC3〜C6の脂肪族基、脂環式
基もしくは芳香族基を意味する。)を有していてもよい
)等の脂肪族基、脂環式基または芳香族基であり、ヘテ
ロ原子を含んでいてもよく、■およびWは同一でも異な
ってもよく、それぞれ1〜20の数である。〕 (式中、IN+5は−C112CII 20 h−1H
3 R3 R3 または、 で表わされる基であり、Xは1〜20の数であり、R9
は水素原子またはメチル基である。〕〔式中、R6およ
びn?は同一でも異なってもよく、それぞれメチル基、
エチル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシ
ル基、ペンタデシル基、エイコシル基等のC3〜C20
のアルキル基、好ましくはメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ヘキシル基、オクチル基等のC8〜C1゜のアル
キル基であり、口3はメチレン基、エチレン基、プロピ
レン基、ペンタメチレン基等の61〜C6のアルキレン
基であり、R4およびR5は同一でも異なってもよく、
エチレン基、プロピレン基、ヘキサメチレン基、オクタ
メチレン基、デカメチレン基等の直鎖状または分岐状の
アルキレン基、好ましくはエチレン基、プロピレン基、
テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等のC7〜CQの
アルキレン基であり、nおよびAは同一でも異な)ても
よく、それぞれ0〜19の数である。〕 (ここで、Il’、11’、II’、 nおよび℃は
一般式(f)と同様である。〕 ・・・・・・(h) 〔式中、R1は、−能代(a)と同じ゛であり、yおよ
びZは、゛同一でも異なってもよく、それぞれ1〜30
の数であり、n′は1〜5の数であり、Mはカリウム、
ナトリウム等のアルカリ金属である。〕 (式中、R11は、−能代(a)と同じでありSおよび
Soは、同一でも異なってもよく、それぞれ1〜50の
数であり、lI′6は、CII2−CII C112
−CIl −CII2−1等で示される62〜C40、
好ましくは62〜C2゜、特に好ましくはC2〜cpf
fの4価の脂肪族基、脂環式基はまたは芳香族基である
。) OCN−11”−NCO・・・・・・(j)(式中、1
117は →cll辻「等の66〜C20の2価の炭化水素基であ
る。〕 この第1工程の反応においては、式(j)で表わされる
ジイソシアネートを上記のジオールの総量に対して、化
学量論的に過剰に使用し、ウレタン結合を介して各反応
成分を結合させ、分子末端にインシアネート基を有する
重合体(以下、「重合体A」という)を生成させる。
ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、ポリエー
テルジアミン等を用いてもよい。これらの鎖延長剤の具
体例としては、エヂレンジアミン、デトラメチレンジア
ミン、ヘキサメチレンジアミン、シクロへキシルジアミ
ン、バラフェニレンジアミン、ポリオキシエチレンジア
ミン、ポリプロピレンジアミン等を挙げろことができる
。
k)〜(■); CJ−CCOR” Oll ・・・・・・(k)〔式
中、R9は水素原子またはメチル基であり、RIGはエ
チレン基、プロピレン基、ヘキサメチレン基、オクタメ
ヂレン基等の62〜Caのアルキレン基を示す、) 〔式中、R9は一般式(k) と同じである。)〔式
中、R9は一般式(k) と同じである。)等で表わ
される水酸基を有する(メタ)アクリレートから選ばれ
る少なくとも1稲を、重合体Aのイソシアネート基に対
して化学量論的にほぼ当量で反応させることによって、
重合体Aの分子末端に(メタ)アクリル系二重結合がウ
レタン結合を介して結合した、ポリウレタンプレポリマ
ーを得ることができる。
法を用いることができる。
酸基を有する(メタ)アクリレートを、重合体Aのイソ
シアネート基に対して化学量論的にほぼ%当量で反応さ
せることによって、重合体A分子の二つの末端の一方に
(メタ)アクリル系二重結合をウレタン結合を介して結
合させ、他方の末端にはイソシアネート基が残存した重
合体(以下、「重合体B」という)を生成させる。次に
、重合休日に下記−能代(n):〔式中、Qは、4価の
有機基である。〕で表わされる4価のアルコールを反応
させることにより、前記重合体Bの残存イソシアネート
基を4価のアルコールにウレタン結合を介して結合させ
ることができ、この方法によフてもポリウレタンプレポ
リマーを得ることができる。
1工程の反応においてジオールをジイソシアネートのM
”1Kに対して化学量論的に過剰に使用し、分子末端
に水酸基を有する重合体を生成させ、これをポリウレタ
ンプレポリマーとすることもできる。ただしこの場合は
、ジオールとして一般式(e)であられされるジオール
を含むことを必須とする。
ーは上記の様に第1工程と第2工程に分割して行なうこ
となく一括してこれらの反応を行なわせることにより製
造することもできる。
製造される(メタ)アクリル系二重結合を有するポリウ
レタンプレポリマーに、第3工程としてポリウレタンプ
レポリマー中の(メタ)アクリル系二重結合の1部に第
2級アミンを付加させることにより製造することができ
る。
の(メタ)アクリル系二重結合に対して第2級アミンを
用い、下記反応式で示される様な付加反応を行ない、ポ
リウレタンプレポリマーに第3級アミノ基を生成させる
。
同様のものを挙げることができる。
13. R+はそれぞれ一般式 (1)および(11)
と同じである。) 上記第1工程の反応は、通常、ナフテン酸銅、ナフテン
酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラウリル酸n−ブチルス
ズ、トリエチルアミン等の触媒を用いて実施される。こ
れらの触媒は、第1工程に用いる出発原料の総量100
重量部に対して0.01〜1ffI量部程度用いるのが
好ましい。
在下に実施することができる。触媒は重合体Atoom
z部に対して、好ましくは0.01〜1重量部用いられ
る。
塩化第2スズ、金属アルコラード等の触媒を用いて実施
することもできる。これらの触媒は、第3工程に用いる
出発原料の総量100重量部に対して0.01−1重量
部程度用いるのが好ましい。
をIIi、離せずに、逐次的に実施することができ、い
ずれの工程においても、反応温度は30〜80℃とする
のか好ましい。
例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラ
ヒドロフラン、トルエン、メチルイソブチルケトン、ジ
オキサン等が挙げられる。
アミンの使用割合は、ポリウレタンプレポリマー中の(
メタ)アクリル系二重結合に対して通常、5〜95当量
%、好ましくは10〜80当量%である。
般式(e)で表わされるジオールおよび一般式(k)〜
(ml等で表わされる水酸基を有する(メタ)アクリレ
ートの総量の使用割合は、得られるポリウレタンに対し
て、好ましくは0.2〜601量%、特に好ましくは0
.5〜50重二%である。使用割合が60重量%を超え
ると放射線によって硬化した塗膜の柔軟性が失われ、塗
膜の機械的特性が損なわれ、ポリウレタンに対して0.
2重量%未満であると放射線による塗膜の硬化が不十分
となり、磁性塗料として使用した場合、その実走行耐久
性が低下する。
表わされるジオールを用いる場合、それらの総量の使用
割合は、得られるポリウレタンに対して、好ましくは2
0〜95重二%、特に好ましくは20〜90重二%であ
り、その使用割合が20m二%未満であると放射線によ
って硬化した塗膜の柔軟性が失われ、塗膜の機械的特性
が損なわれる。一方、−能代(a)〜(d)で表わされ
るジオールがポリウレタンに対して95重量%を超える
と(メタ)アクリル系二重結合の含量が少なくなるため
放射線による硬化が不十分となる。
ルを用いる場合、その使用割合は得られるポリウレタン
に対して、好ましくは60重ユ%以下であり、特に好ま
しくは50重量%以下であり、その使用割合が60重量
%を超えると放射線で硬化した塗膜の柔軟性が損なわれ
易い。
i)で表わされるジオールを用いる場合、それらの総量
の使用割合は、得られるポリウレタンに対して、好まし
くは20重量%以下、特に好ましくはlO重2%以下で
あり、その使用割合か、20重重二を超えると得られる
ポリウレタンの極性が高くなり、トルエン、メチルエチ
ルケトン等の汎用の溶剤への溶解度が低下し、また放射
線によって硬化した塗膜の吸湿性が増加し塗膜強度の低
下を招きやすくなる。
成分化合物の具体例を示す。
グリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレング
リコール、ポリテトラメヂレングリコール、1.6−ヘ
キサンジオール、ネオペンチルグリコール、1.4−シ
クロヘキサンジメタツール等の多価アルコールとフタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマー
ル酸、アジピン酸、セパチン酸等の多塩基酸とを反応し
て得られるポリエステルジオールが挙げられる。
レングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテト
ラメヂレングリコール等のポリエステルジオールが挙げ
られる。
フェノールAのエチレンオキサイドまたはプロピレンオ
キサイドのアルキレンオキサイド付加物等のポリエーテ
ルジオールが挙げられる。
ラクトンの開環反応等によって得られるポリカプロラク
トンジオールを挙げることができる。
中にエポキシ基を2個含むジェポキシ化合物1モルに対
して、カルボキシル基を有する(メタ)アクリル系化合
物ならびに水酸基を有する(メタ)アクリル系化合物か
ら選ばれる少なくとも1種類の化合物1モル以上を反応
させ合成されるジオールを挙げることができる。ここに
おけるジェポキシ化合物としては、例えばビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリンとを反応させて得られる多価
フェノールのグリシジルエーテル:エチレングリコール
、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポ
リプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、
ポリテトラメチレングリコール等の多価アルコールとエ
ピクロルヒドリンとを反応させて得られる多価アルコー
ルのグリシジルエーテル等を挙げることができる。
般式(b)で示されるポリエーテルジオール化合物とス
ルホイソフタル酸類とを反応させることによって合成さ
れるジオールを挙げることかできる。ここで、スルホイ
ソフタル酸類としては、例えば5−ナトリウム−スルホ
−イソフタル酸、5−カリウム−スルポーイソフタル酸
、5−ナトリウム−スルポーイソフタル酸無水物、5−
ナトリウム−スルポーイソフタル酸ジ低級アルギル、5
−カリウム−スルホ−イソフタル酸ジ低級アルキル等を
挙げることができる。
般式(d)で表わされるポリエーテルジオ−1モルに対
して、1モル未満のテトラカルボン酸二無水物を反応さ
せエステル化またはアミド化して、合成されるジオール
を挙げることができる。
2.4−1−ルエンジイソシアネート、2.6−トルエ
ンジイソシアネート、1.3−キシレンジイソシアネー
ト、1.4−キシレンジイソシアネート、1.5−ナフ
タレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネ
ート、p−フェニレンジイソシアネート、3.3′ −
ジメチル−4,4’ −ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、4.4 ’ −ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、:l、:l’−ジメチルフェニレンジイソシアネー
ト、4.4′−ビフエニレンジイソシアネート、ヘキサ
メチレンジイソシアネート、イソフオロンジイソシアネ
ート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等が挙
げられる。
リレートとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アク
リレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート等が
挙げられる。
リレートとしては、グリセリンジ(メタ)アクリレート
が挙げられる。
リレートとしては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレートが挙げられる。
例えばペンタエリスリトール、N、N、N′、N’ −
テトラヒドロキシプロピルエチレンジアミン、エヂレン
ジアミンアルキレンオキサイト付加物、ジグリセリンア
ルキレンオキサイト付加物等を挙げることができる。
ことができるが、該ポリウレタンの製法はこれに限定さ
れるものではない。
,000〜lQQ、OQQ 、好ましくは4.000〜
60.000である。この分子量が2,000未満の場
合は、放射線によって硬化した塗膜の強度が低下しやす
く、分子量力月oo、oooを超えると塗料を調製する
際、溶液の粘度が高くなりその取り扱いが困ff1f[
となるだけでなく、特に磁性塗料として調製する際には
粘度低減のために必要な溶剤がS量となり不経済である
。
をはじめとする配合成分を適当な有m溶媒を媒体として
混合することにより調製される。用いられる有m 溶媒
としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、テトラヒドロフラン、トルエン、メチルイソブチ
ルケトン、ジオキサン等が挙げられる。
いられるポリウレタン以外の放射線重合性二重結合を有
する重合体および/または放射線重合性二重結合を有す
る。f!’−ffi体を含有す・ることもできる。
タン以外に必要に応してポリビニルブチラール、ポリビ
ニルアセタール、ポリウレタン、ポリエステル、スルポ
ン酸および/またはスルホン酸金属塩を有するポリエス
テル、エポキシ樹脂、エポキシウレタン樹脂、ポリ塩化
ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、水酸基含有
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−プロピ
オン酸ビニル共重合体、水酸基含有塩化ビニル−プロピ
オン酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−アク
リル酸エステル共重合体、水酸基含有塩化ビニル−酢酸
ビニル−アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニリ
デン、マレイン酸含有塩化ビニル−塩化ビニリデン共重
合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニ
リデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリデン−
メタクリル酸エステル共重合体、フェノキシ樹脂、ニト
ロセルローズ、硝化綿、ケトン樹脂、(メタ)アクリル
酸重合体または共重合体、(メタ)アクリル酸エステル
重合体または共重合体ポリイミド樹脂、1.3−ペンタ
ジェン樹脂、エポキシ化1.3−ペンタジェン樹脂、ヒ
ドロキシル化1.3−ペンタジェン樹脂、(メタ)アク
リロニトリル重合体または共重合体、(メタ)アクリル
酸エステル−アクリロニトリル共重合体、フェノール−
ホルマリン樹脂、フェノール−フルフラール樹脂、キシ
レン−ホルマリン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アル
キッド樹脂、アクリロニトリルーブタジエンスヂレン共
重合体等を配合してもよい。
000〜50,000(cps) 、好ましくは2.0
00〜30.000 (cps)であり、固形分濃度は
、通常、20〜80重量%、好ましくは30〜60rr
Xff1%である。
放射線としては、例えば電子線、γ−線、中性子線、β
−線、X線等が挙げられる。これらのうちで放射線量の
制御および放射線照射装置の設置の容易性の点から、電
子線が好ましい。電子線の加速電圧は、好ましくは10
0〜750kv、特に好ましくは150〜300kVで
あり、その照射量は塗膜の吸収線量が0.5〜20メガ
ラツトになる様に+lI制御するのか好ましい。
には、本発明の放射線硬化性塗料にy Fe2O3、
Fe=04* y−Fe2(1+とFe3O4の中間の
酸化状態の酸化鉄、CO含含有−Fe20s、Go含有
Fe3O4、Go金含有y −Fe2O,とFe50.
の中間の酸化状態の酸化鉄、前記酸化鉄をざらにぷ移金
属元素等の金属元素を含有させたもの、前記酸化鉄にC
o酸化物または水酸化物、を主体とした被覆層を形成し
たちの、CrO2、CrO2の表面を還元処理して(:
r20.、層を形成したもの、Fe、Go、 Ni等の
金属もしくはこれらの合金またはこれらに金属元素もし
くは通移金属元素等の金属元素を含有させたもの、バリ
ウムフェライト等の磁性粉を木発明の放射線硬化性塗料
に対して、通常、75〜85重量%配合して用いる。
オイル等の潤滑剤を使用してもよい。
布材(基体二ベースフィルム)、例えばポリエチレンテ
レフタレート等のポリエステル;ポリプロピレン等のポ
リオレフィン;セルローストリアセテート、セルロース
ジアセテート等のセルロース誘導体:ボリカーボネート
;ポリ塩化ビニル;ポリイミド;アルミニウム、銅等の
非磁性金属;紙等に塗布し、6!l場配向処理を行ない
乾燥した後、放射線を照射し、磁性塗料の塗膜を硬化さ
せることにより優れた磁気記録媒体を作成することがで
きる。
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
て求めた値である。
2.4−1−ルエンジイソシアネート100.7g 、
ジブチルスズジラウレーl−1,2gおよびメチルエチ
ルケトンとシクロヘキサノンの混合溶媒(容量比50
: 50)200gを加え60℃に加温したのち、滴下
ロートより系の温度が上昇しない様注意しながらアジピ
ン酸とブタンジオールの共重合体であるポリニスデルジ
オール(日本ポリウレタン社製、ニラポラン4009)
109.1g、ポリオキシビエチレンビスフェノール
Aエーテル(ロ木油脂社製、Dへ−350F)99.3
g 、ビスフェノールAプロピレンオキサイド誘導体の
アクリル酸付加物(共栄社油脂社製、エポキシエステル
:1n02A ;以下特定ヒドロキシル化合物(1)と
呼ぶ) 88.2g 、およびメチルエチルケトンとシ
クロヘキサノンの混合溶媒(容量比50:、50)40
0gを均一に混合したものを滴下し、滴下終了後60℃
で4時間反応させた0次いでこれに2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート2.7gを加え、さらに60℃で2時間
反応させた。さらに、これにジ−n−ブチルアミン10
.3gを加え、60℃で2時間反応させた1反応終了後
、赤外吸収スペクトルにより系中にイソシアネート基が
残存していないことを確認した。この様にして得た重合
体を重合体(A)とする0重合体(A)の分子量と、−
能代(1)で表わされる基含量を第1表に示す。
2のフラスコに、2.4−トルエンジイソシアネー)−
74,1g、ジブチルスズジラウレート1.2gおよび
メチルエチルケトンとシクロヘキサノンの混合溶媒(容
量比40・60)200gを加え60℃に加温したのち
、滴下ロートより糸の温度が上Z−L/ない様注意しな
がらアジピン酸とエチレングリコールの共重合体である
ポリエステルジオール(日本ポリウレタン社製、ニラポ
ラン4002) 184.8g、ポリオキシプロピレン
ビスフェノールAエーテル(日本油脂社製、0A−40
0)31.6g 、特定ヒドロキシル化合物(1)77
.6gおよびメチルエチルケトンとシクロヘキサノンの
混合溶媒(容量比40 : 60)400gを均一に混
合したものを滴下し、滴下終了後60℃で4時間反応さ
せた。次いでこれに2−とドロキシエチルアクリレート
2.5gを加え、さらに60℃で2時間反応させた。さ
らにこれにジ−n−ブチルアミン24.6gを加え60
℃で2時間反応させた0反応終了後赤外吸収スペクトル
により系中にイソシアネート基が残存していないことを
確認した。この様にして得た重合体を重合体(B)とす
る。重合体(B)の分子量と、−能代(1)で表わされ
る基含量を第1表に示す。
イソホロンジイソシアネート105.6g、ジブチルス
ズジラウレート12g、およびメチルエチルケトンとシ
クロヘキサノンの混合溶媒(容量比60 : 40)2
00gを加え60℃に加温したのち、滴下ロートより系
の温度が上昇しない様注意しながらポリテトラメチレン
グリコール(デュポン社製、テラタン650)52.6
g 、ポリオキシプロピレンビスフェノールAエーテル
(日本油脂社製、 DB−900) 170.1g、エ
チレングリコールジグリシジルエーテルのメタクリル酸
付加物(共栄社油脂社製、エポキシエステル40EM、
以下特定ヒドロキシル化合物(II)と呼ぶ) 67.
8gおよびメチルエチルケトンとシクロヘキサノンの混
合溶媒(容量比60: 40)400gを均一に混合し
たものを滴下し、滴下終了後60℃で4時間反応させた
。次いでこれに、2−ヒドロキシエチルアクリレ−1−
2,3gを加えさらに60℃で2時間反応させた。さら
に、これにシーm−ブチルアミン1.6gを加え60℃
で2時間反応させた。反応終了後、赤外吸収スペクトル
により系中にインシアネート基か残存していないことを
確認した。この様にして得た重合体を重合体(C)とす
る。
を第1表に示す。
イソホロンジイソシアネート96.0g 、ジブチルス
ズジラウレートl、2g、およびシクロへキサノン20
0gを加え60℃に加温したのち、滴下ロートより系の
温度が上ff−L/ない様7主意しながらポリテトラメ
チレングリコール(三菱化成工業社製、 I”Tl1l
G20(10) 45.23、特定ヒドロキシル化合物
(o ) 134.9gおよびシクロへキサノン400
gを均一に混合したものを滴下し、滴下終了後60℃で
4時間反応させた。次いでこれに、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレ−)−4,6gを加えさらに60℃で2時間
反応させた。さらに、これにN−11−ブチルアニリン
119.2gを加え60℃で2時間反応させた。反応終
了後、赤外吸収スペクトルにより系中にイソシアネート
基が残存していないことを確認した。この様にして得た
重合体を重合体(D)とする。重合体(D)の分子量と
一般式(I)で表わされる基金ユを第1表に示す。
4.4’ −ジフェニルメタンジイソシアネート14
1.9g、ジブチルスズジラウレート1.2g、および
メチルエチルケトン200gを加え60℃に加温したの
滴下ロートより系の温度が上昇しない様注意しながらポ
リカプロラクトンジオール(ダイセル化学工粟製、プラ
クセル205八L) 153.1g、ポリオキシブロビ
レンヒ゛スフェ/−ルAL−テ)’v(日本油脂社製、
Dtl−400)81.7g 、ポリプロピレングリ
コール#400ジグリシジルエーテルのアクリル酸付加
物(以下、「特定ヒドロキシル化合物(III)Jとい
う)17、Og 、およびメチルエチルケトン400g
を均一に混合したものを鏑下し、滴下終了後60℃で4
時間反応させた。次いでこれに、2−ヒドロキシエチル
アクリレート3.7gを加え、さらに60℃で2時間反
応させたのち4官能アルコ一ル性化合物(旭電化社製、
アデカクオドロール)2.4gを加え60℃で4時間反
応させた0次いで、これにN−n−ブチルアニリン0.
3gを加え60℃で2時間反応させた。反応終了後、赤
外吸収スペクトルにより系中にインシアネート基が残存
していないことを確認した。この様にして得た重合体を
重合体(E)とする、T1合体(E)の分子量と一般式
(1)で表わされる基金量を第1表に示す。
4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネート85.0
g 、 ジブデルスズジラウレート1.2g、テトラヒ
ドロフラン200gを加え60℃に加温したのち、滴下
ロートより系の温度が上昇しない様注意しながらポリ力
ブロラクトンジオール(ダイセル化学工業製、プラクセ
ル212 ) 52.0g 、ポリオキシエチレンビス
フェノールAエーテル(日本油脂社14. D八−35
0F) 20.8g 、特定ヒドロキシル化合物(II
+ )141.8g、およびテトラヒドロフラン400
gを均一に混合したものを滴下し、滴下終了後、60℃
で4時間反応させた。次いでこれに、2−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート3.3gを加え、ざらに60℃で
2時間反応させたのち4官能アルコ一ル性化合物(旭電
化社製、アデカクオドロール) 1.7gを加え60℃
で4時間反応させた。次いで、これにジ−n−デシルア
ミン95.43を加え60℃で2時間反応させた。反応
終了後、赤外吸収スペクトルにより系中にイソシアネー
ト基が残存していないことを確認した。この様にして得
た重合体を重合体(F)とする。重合体(F)の分子量
と一般式(I)て表わされる基金量を第1表に示す。
、4.4′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート
149.’1g、ジブチルスズジラウレート1.2g、
およびメチルエチルケトンとシクロヘキサノンの混合溶
媒(容量比30ニア0)200gを加え60℃に加温し
たのち、滴下ロートより系の温度が上昇しない様注意し
ながらアジピン酸とブタンジオール共重合体であるポリ
エステルジオール(日本ポリウレタン社製、ニラポラン
400 g)47.2g 、ポリオキシエチレンビスフ
ェノールAエーテル(日本油脂社製。
ールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物(共宋社
油脂社製、エポキシエステル70P八;以下特定ヒドロ
キシル化合物(IV)と呼ぶ) 31.7g 、および
メチルエチルケトンとシクロヘキサノンの混合溶媒(容
量比30 : 70)400gを均一に混合したものを
滴下し、滴下終了後60℃で4時間反応させた。次いで
これに、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート1.3
gを加え、さらに60℃で2時間反応させた。さらに、
これにジ−ローデシルアミン0.1gを加え60℃で2
時間反応させた。反応終了後、赤外吸収スペクトルによ
り系中のイソシアネート基か残存していないことを確認
した。この様にして得た重合体を重合体(G)とする。
量を第1表に示す。
4.4′ −ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート
176.6g、ジブチルスズジラウレート1.2g、お
よびメチルエチルケトンとシクロヘキサノンの混合溶媒
(容量比70:30)200gを加え60℃に加温した
のち、滴下ロートより系の温度が上昇しない様注意しな
がらポリオキシエチレンビスフェノールAエーテル(ロ
木油脂社製、Dへ−350F) 18a、3g、特定ヒ
ドロキシル化合物(IV ) 26.5gおよびメチル
エチルケトンとシクロヘキサノンの混合溶媒(容量比7
0:30)4.OOgを均一に混合したものを滴下し、
滴下終了後60℃で4時間反応させた。次いでこれに、
2−ヒドロキシプロピルメタクリレート3.4gを加え
、さらに60℃で2時間反応させた。さらに、これにジ
クロヘキシルアミン7.2gを加え60℃で2時間反応
させた。
ネート基が残存していないことを確認した。この様にし
て得た重合体を重合体(H)とする。m合体(H)の分
子量と一般式(りで表わされる基金量を第1表に示す。
2.4’−トルエンジイソシアネート68.1g 、ジ
ブチルスズジラウレート1.28、およびテトラヒドロ
フラン200gを加え60℃に加温したのち、滴下ロー
トより系の温度が上昇しない様ン主意しながらアジピン
酸とエチレングリコールの共重合体であるポリエステル
ジオール(日本ポリウレタン社製、ニラポラン4040
)249.4g、およびテトラヒドロフラン400gを
均−に混合したものを鏑下し、滴下終了後60℃で4時
間反応させた。次いでこれに、2−ヒドロキシプロピル
メタクリレート38.7gを加え、さらに60℃で2時
間反応させたのち、4官能アルコ一ル性化合物(旭電化
社製、アデカクオドロール) 19.8gを加え60℃
で4時間反応させた。次いで、これにジシクロヘキシル
アミン24.2gを加え60℃で2時間反応させた。反
応終了後、赤外吸収スペクトルにより系中にイソシアネ
ート基が残存していないことを確認した。
(1)の分子量と一般式(1)で表わされる基金量を第
1表に示す。
2.4−トルエンジイソシアネート91.2g 、ジブ
チルスズジラウレート1.2g、シクロへキサノン20
0gを加え60℃に加温したのち、滴下ロートより系の
温度が上W、シない様ン主意しながらポリテトラメチレ
ングリコール(三菱化成工業製、 PTItlG+00
0)187.2g 、ポリオキシプロピレンビスフェノ
ールAエーテル(日本油脂社製、 Dll−900)1
8.7g 、特定ヒドロキシ化合物(IV ) 6o、
sg 、シクロへキサノン400gを均一に混合したも
のを滴下し、滴下終了後、60℃で4時間反応させた。
8.1gを加えさらに60℃で2時間反応させた。次い
で、これにN−メチルペンシルアミン3.9gを加え6
0℃で2時間反応させた。反応終了後、赤外1及収スペ
クトルにより系中にイソシアネート基が残存していない
ことを確認した。この様にして得た重合体を重合体(J
)とする。重合体(J)の分子量と一般式(I)で表わ
される基含工を第1表に示す。
、イソポロンジイソシアネート151.73、シブヂル
スズジラウレ−1〜12g、およびメチルエチルケトン
200gを加え60℃に加温したのち、滴下ロートより
系の温度が上昇しない様注意しながらポリエーテルジオ
ール(第一工業製薬社製、 PEG#400) ll:
]、88g、ポリオキシエヂレンヒ゛スフエノールAエ
ーテル(日本油脂社製、D八−350F)91.0g、
特定ヒドロキシル化合物< 11 ) 35.5g 、
およびメチルエチルケトン400gを均一に混合したも
のを滴下し、滴下終了後、60℃で4時間反応させた。
.0gを加えさらに60℃で2時間反応させた。次いで
、これにジ−n−ブチルアミン1.0gを加え60℃で
2時間反応させた。反応終了後、赤外吸収スペクトルに
より系中にイソシアネート基が残存していないことを確
認した。この様にして得た重合体を重合体(K)とする
。
量を第1表に示す。
コロネートC−4047(日本ポリウレタン社製) 3
68.5g、ジブチルスズジラウレート1.2g、シク
ロへキサノン200gを加え60℃に加温したのち、滴
下ロートより系の温度が上昇しない様注意しながらN−
n−ブチルジェタノールアミン19.8g 、およびシ
クロへキサノン400gを均一に混合したものを滴下し
、滴下終了後、60℃で4時間反応させた。次いでこれ
に2−ヒドロキシエチルメタクリレート11.7gを加
えさらに60℃で2時間反応させた。反応終了後、赤外
吸収スペクトルにより系中にイソシアネート基が残存し
ていないことを確認した。この様にして得た重合体を重
合体(L)とする。重合体(L)の分子量と一般式(1
)で表わされる基金量を第1表に示す。
−Lを用いて下記表の割合の放射線硬化性塗料を調製し
た。
製缶に上記Allll成用性粉、溶媒、および3mmm
mナステンレスポール150mj2)を入れ、米国レッ
トデビル社製ペイントコンディショナーにて2時間振と
うした。次いて各重合体を加えてさらに4時間振とうし
た後、ステンレスポールを取り除くことにより得た。
燥膜厚が6μmになるように上記磁性塗料を塗布し、直
ちに磁場配向処理を行ない室温で一夜乾燥した。その後
エレクトロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して加
速電圧160キロボルト、7メガラツドの吸収線量で電
子線を塗膜に照射し、塗膜を硬化させ、磁性硬化塗膜(
1)を得た。
テルフィルム上に乾燥膜厚、が、1.5μmになるよう
に塗布し、室温で一夜乾燥した。
用して加速電圧160キロボルト、7メガラツドの吸収
線量で電子線を塗膜に照射し、塗l摸を硬化させ、1i
11性硬化塗膜(11)を得た。
した以外同一の組成の塗料を、塗料の乾燥膜厚が、ガラ
ス板上には40〜60μmとなるように、また厚さ10
0μmのポリエステルフィルム上には40〜50μmと
なるようにそれぞれ塗布し、室温で一夜乾燥後、加速電
圧160キロボルト、5メガラツドの吸収線量で電子線
を塗膜に照射して塗膜を硬化させ、非磁性硬化塗膜を形
成した。
1ii性硬化塗膜(!りおよび非磁性硬化塗膜の38特
性を評価するために、下記の(1)〜(9)の試験を次
のように行なった。
ーでGjl性塗料を1分間で100%濾過できるかどう
か観察した。
)を使用して磁性硬化塗膜の反射角45゜の光沢を測定
し、光沢が70〜90の場合を◎、50〜70の場合を
○、30〜50の場合をΔ、30以下の場合を×と評価
した。
て磁性硬化塗膜(1)の表面を観察し、複数の被検試料
全てに磁性粉の凝集が認められない状態を◎、複数の被
検試料のいくつかに一部の凝集が認められた状態を○、
被検試料の全てに一部の凝集が認められた状態をΔ、そ
して、被検試料の全てに、全面にわたる凝集が認められ
た状態を×と評価した。
ープを貼りつけ、全面に均一に接着させた後、瞬間的に
引き¥、1]がしたときの状態を観察して行ない、fi
J、ト)生硬化塗膜(1)が基体から完全にヱ1]津さ
れた場合を×、若干71 m11された場合を△、はと
んど剥離されない場合を○、全< !i!IJ 1ii
liが認められないものを◎と評価した。
VSM−3型を用い、磁性硬化塗膜(1)について外部
磁場50.000eで磁気特性を測定した。(Br=残
留磁束密度、Bm=最大残留磁束密度) (6)耐久性試験: I、if磁性硬化塗膜I+)を、
円盤状に打ち抜き、表面研磨して磁気ディスクを製造し
た。これらのディスクをフロッピーディスクドライブ中
に装填し、再生出力が初期出力の50%になるまでのパ
ス回数を測定し、パス回数が1000万回以上の場合を
◎、1000万回〜500万回の場合を01500万回
以下の場合を×と評価した。なお、測定条件として、下
記4条件を用いた。
クル (7)破断強度、伸び、初期モジュラス:ガラス板上の
非611性硬化塗膜から短間状のテストピース(0,5
cm x 10 cmx 40〜60μm)を切り出し
、室温で50 m/minの引張り速度で測定した。
板上の非酸l性硬化塗膜について、TIIFソックスレ
ー抽出を24時間行ない、抽出残の割合を測定した。
ステルフィルムごと幅1 cmの短冊状に切り、両端を
固定して中央部分から屈曲させたのち、ただちにもとの
状態に復元する操作を1秒間に20回行ない、屈曲部位
において透明硬化塗膜の!!J 離あるいは破壊が起こ
るかどうかを観察した。500時間の屈曲に耐えたもの
を優とし、400時間の屈曲に耐えたものを良と評価し
た。
することので診る性能を有することに加え、常温下での
優れた実走行耐久性はいうに及ばず、高温高湿度(50
℃、90%相対湿度)下および低温度(−10℃)下、
更には温度サイクル条件(−10〜40℃)下といった
幅広い使用環境下での優れた実走行耐久性を有する磁気
記録媒体を与えることができる。
、フロッピーディスク等のμl磁気記録媒体基板フィル
ムとして汎用されているポリエステルフィルムに対する
優れた密着性を持ち、かつ機械的強度に優れた磁性塗膜
を有する611気記録媒体を与えることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(メタ)アクリル系二重結合を有し、かつ下記一般
式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1は第2級アミン残基、R^2は水素原子
またはメチル基を示す。〕 で表わされる基を、ポリウレタン1グラムあたり1×1
0^−^7〜5×10^−^3グラム当量有するポリウ
レタンを含有することを特徴とする放射線硬化性塗料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63021814A JP2582600B2 (ja) | 1988-02-01 | 1988-02-01 | 放射線硬化性塗料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63021814A JP2582600B2 (ja) | 1988-02-01 | 1988-02-01 | 放射線硬化性塗料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01204916A true JPH01204916A (ja) | 1989-08-17 |
JP2582600B2 JP2582600B2 (ja) | 1997-02-19 |
Family
ID=12065528
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63021814A Expired - Lifetime JP2582600B2 (ja) | 1988-02-01 | 1988-02-01 | 放射線硬化性塗料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2582600B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6783809B2 (en) | 1992-01-27 | 2004-08-31 | Huntsman Advanced Materials Americas Inc. | Photosensitive diacrylate and dimethacrylate compositions |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5531889A (en) * | 1978-08-28 | 1980-03-06 | Ppg Industries Inc | Hardenable resin composition |
JPS5792421A (en) * | 1980-11-25 | 1982-06-09 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
-
1988
- 1988-02-01 JP JP63021814A patent/JP2582600B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5531889A (en) * | 1978-08-28 | 1980-03-06 | Ppg Industries Inc | Hardenable resin composition |
JPS5792421A (en) * | 1980-11-25 | 1982-06-09 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6783809B2 (en) | 1992-01-27 | 2004-08-31 | Huntsman Advanced Materials Americas Inc. | Photosensitive diacrylate and dimethacrylate compositions |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2582600B2 (ja) | 1997-02-19 |
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