JPH01201921A - 蒸気洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体製造プロセスで使用する蒸気洗浄装置
に関する。

〔従来の技術〕

従来、この種の蒸気洗浄装置は第４図〜第６図に示すよ
うに構成されている。これを同図に基づいて説明すると
、同図において、符号１で示すものは上方に開口するチ
ャンバーで、外枠２によって保持されており、内部には
加熱装置としてのヒータ３によって例えばフロン系溶剤
、アルコール系溶剤等の洗浄用の液体４が蒸気化してな
る蒸気エリア５が形成されている。６はこの蒸気エリア
５にウェハカセット７を搬送する搬送台８を有するカセ
ットリフトアームで、前記チャンバー１内に進退自在に
設けられており、アーム駆動装置９によって駆動するよ
うに構成されている。１０は前記ウェハカセット７を把
持可能な把持部１１を有するカセット搬送アームで、前
記チャンノ＼−１の近傍に移動自在に設けられている。

１２は前記チャンバー１内に設けられ滴下液を受ける受
皿、１３はこの受皿１２に一体に設けられ前記チャンバ
ー１の外部に開口す゛る排出管、１４はその内部を冷却
水１５が循環し前記ヒータ３と共に前記蒸気エリア５を
形成するための冷却管、１６は前記ウェハカセット７に
収納された半導体ウエノ＼である。なお、前記蒸気エリ
ア５はヒータ３によって液体４を沸点以上の温度に加熱
し、冷却管１４内に例えば２５°Ｃ以下の温度の冷却水
１５を連続的に流すことにより形成される。

このように構成された蒸気洗浄装置においては、半導体
ウェハ１６がその内部に収納されたウェハカセット７を
カセット搬送アーム１０によって所定の位置に搬送し、
次いで搬送台８に移送してカセットリフトアーム６によ
って蒸気エリア５に搬送し、しかる後ウニバカセント７
内の半導体ウェハ１６をクリーニングしてから外部に搬
送することができる。

次に、このクリーニングの原理について説明する。

先ず、蒸気エリア５内にカセットリフトアーム６によっ
てウェハカセット７を搬送すると、ウェハカセット７お
よび半導体ウェハ１６の表面に液体４が結露して受皿１
２内に液滴下する。このとき、半導体ウェハ１６等の表
面には不純物が液体４中に取り込まれて洗浄が行われ、
排出管１３によってチャンバー１の外部に排出される。

これは半導体ウェハ１６等の温度が蒸気エリア５内の温
度と路間−の温度になるまで連続的に行われる。

次に、カセットリフトアーム６によってウェハカセット
７をチャンバー１の外部に搬送すると、ウェハカセット
７および半導体ウェハ１６が乾燥する。

このようにして、半導体ウェハ１６を洗浄すると共に乾
燥させることができる。

ここで、搬送台８上のウェハカセット７および半導体ウ
ェハ１６は例えば２０〜２７°Ｃの常温とし、液体４　
（イソプロピルアルコール等のアルコール系溶剤）の温
度を８０℃とする。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、従来の蒸気洗浄装置においては、ウェハリフ
トアーム６の搬送台８上にウェハカセット７を載置し、
このウェハカセット７内に半導体ウェハ１６を収納した
状態で洗浄するものであるため、洗浄用の蒸気が半導体
ウェハ１６以外の搬送台８およびウェハカセット７によ
っても液化され、洗浄効率が悪いという問題があった。

すなわち、搬送台８およびウェハカセット７の熱容量は
半導体ウェハ１６の熱容量と比較して著しく大きいもの
であるからである。また、ウェハリフトアーム６は搬送
台８のみならずウェハカセット７を保持する構造である
ため、きわめて強固な材質あるいは複雑な形状をもつも
のでなければならず、コストが嵩むという問題があった
。

本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、洗浄効
率を高めることができると共に、コストの低廉化を図る
ことができる蒸気洗浄装置を提供するものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明に係る蒸気洗浄装置は、加熱装置によって洗浄用
の液体が蒸気化してなる蒸気エリアをその内部に有する
チャンバーと、このチャンバ′−内に一部が蒸気エリア
に臨むように設けられ各々が互いに対向する２つのガイ
ド壁を有するウェハガイドと、このウェハガイドの両ガ
イド壁間に昇降自在に設けられ蒸気エリアに半導体ウェ
ハを搬送可能なウェハリフトアームとを備えたものであ
る。

〔作　用〕

本発明においては、洗浄時に蒸気エリアに対し半導体ウ
ェハをウェハガイドによって案内し、ウェハリフトアー
ムによって搬送する。

〔実施例〕

以下、本発明の構成等を図に示す実施例によって詳細に
説明する。第１図および第２図は本発明に係る蒸気洗浄
装置を示す斜視図と断面図、第３図は第２図のｍ−ｍ線
断面図で、同図において第４図〜第６図と同一の部材あ
るいはこれに相当する部材については同一の符号を付し
、詳細な説明は省略する。同図において、符号２１で示
すものは半導体ウェハ１６を搬送するウェハ搬送アーム
で、前記チャンバー１の近傍に移動自在に設けられてい
る。このウェハ搬送アーム２１の先端部には、所定の間
隔をもって並列する多数の半導体ウェハ１６を把持する
チャック２２が設けられている。２３は上下方向に延在
するウェハガイドで、各々が互いに対向する２つのガイ
ド壁２３．２４からなり、前記チャンバー１の内部に一
部が前記蒸気エリア５に臨むように設けられている。こ
のウェハガイド２３のガイド壁２４．２５には多数の半
導体ウェハ１６を案内するガイｌ”１２４ａ。

２５ａが設けられており、これらガイド溝２４ａ。

２５ａのピッチは前記チャック２２によるウェハ把持状
態におけるウェハ並列ピッチと同一のピッチに設定され
ている。２６は前記蒸気エリア５に半導体ウェハ１６を
搬送可能なウェハリフトアームで、前記両ガイド壁２４
，２５間に昇降自在に設けられており、前記ガイド溝２
４ａ、２５ａに沿って半導体ウェハ１６を搬送するよう
に構成されている。

このように構成された蒸気洗浄装置においては、チャッ
ク２２によって半導体ウェハ１６を把持した状態でウェ
ハ搬送アーム２１によって所定の位置に搬送し、次いで
ウェハガイド２３に移送してウェハリフトアーム２６に
よって蒸気エリア５に搬送し、しかる後ウェハリフトア
ーム２６上の半導体ウェハ１６をクリーニングしてから
外部に搬送することができる。

したがって、本発明においては、洗浄時に蒸気エリア５
に対し半導体ウェハ１６のみをウェハガイド２３によっ
て案内することができ、またウェハリフトアーム２６に
よって搬送することができる。

なお、本発明によるクリーニングの原理は従来装置によ
るクリーニング原理と同一であるから、その説明につい
ては省略する。

また、本実施例においては、ウェハガイド２３に対する
半導体ウェハ１６の搬送および供給がウェハ搬送アーム
２１によるものを示したが、本発明はこれに限定される
ものではなく、人手によるものでも勿論よい。

さらに、本発明におけるウェハガイドの形状は前述した
実施例に限定されず、並列する多数の半導体ウェハ１６
のうち隣り合う各ウェハが接触しないような構造をもつ
ものなら、その形状は適宜変更することができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によれば、加熱装置によって
洗浄用の液体が蒸気化してなる蒸気エリアをその内部に
有するチャンバーと、このチャンバー内に一部が蒸気エ
リアに臨むように設けられ各々が互いに対向する２つの
ガイド壁を有するウェハガイドと、このウェハガイドの
両ガイド壁間に昇降自在に設けられ蒸気エリアに半導体
ウェハを搬送可能なウェハリフトアームとを備えたので
、洗浄時に蒸気エリアに対して半導体ウェハをウェハガ
イドによって案内することができ、ウェハリフトアーム
によって搬送することができる。したがって、従来必要
としたウェハヵセントおよび搬送台が不要になるから、
洗浄効率を確実に高めることができる。また、ウェハリ
フトアームは従来のように強固な材質あるいは複雑な形
状をもつものにする必要がなくなるから、コストの低廉
化を図ることもできる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明に係る蒸気洗浄装置を示す
斜視図と断面図、第３図は第２図の■−■線断面図、第
４図および第５図は従来の蒸気洗浄装置を示す斜視図と
断面図、第６図は第５図のＶｌ−ＶＩ線断面図である。 １・・・・チャンバー、４・・・・洗浄用の液体、５・
・・・蒸気エリア、１６・・・・半導体ウェハ、２３・
・・・ウェハガイド、２４．２５・・・・ガイド壁、２
６・・・・ウェハリフトアーム。 代　理　人　大岩増雄 第３図 第４図 Ｘ／−フ）　　、ｌ−−７ 第６図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　加熱装置によって洗浄用の液体が蒸気化してなる蒸気
   エリアをその内部に有するチャンバーと、このチャンバ
   ー内に一部が前記蒸気エリアに臨むように設けられ各々
   が互いに対向する２つのガイド壁を有するウェハガイド
   と、このウェハガイドの両ガイド壁間に昇降自在に設け
   られ前記蒸気エリアに半導体ウェハを搬送可能なウェハ
   リフトアームとを備えたことを特徴とする蒸気洗浄装置
   。