JPH01201492A - カラー受像管用シャドウマスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） この発明は、フォトエツチング法によりシャドウマスク
を製造するカラー受像管用シャドウマスクの製造方法に
関する。

（従来の技術） シャドウマスク型カラー受像管は、外囲器の前面部内側
にドツト状あるいはストライプ状などの所定形状の３色
蛍光体層からなる蛍光体スクリーンが形成され、この蛍
光体スクリーンに対向しかつ所定間隔離間して、３色蛍
光体層に対応する多数の透孔を有するシャドウマスクが
配設されている。このシャドウマスクは、上記外囲器内
に配設された電子銃から放出された３電子ビームをそれ
ぞれ対応する３色蛍光体層に正しく射突させる作用をも
つものであり、電子ビームが通過するその透孔の形状、
大きさは、カラー受像管の画像品位を決定する重要な機
能をもっている。

従来よりこのシャドウマスクは、フォトエツチング法に
より第２図に示す工程で形成されており、通常、たとえ
ば厚さ０．１４ｍ５程度の低炭素鋼板からなる長尺帯板
状のシャドウマスク素材をその長手方向に走行移動させ
ながら、まず脱脂洗浄し、ついでその板面にフォトレジ
スト液を塗布し、これを乾燥して両面にフォトレジスト
膜を形成する。

つぎに、その両面のフォトレジスト膜にマスクパターン
を密着し、このマスクパターンを介して露光し、その両
面のフォトレジスト膜に上記マスクパターンを焼付ける
。ついでこのフォトレジスト膜を現像して未感光部を除
去し、シャドウマスク素材の両面に上記マスクパターン
に対応する開口（素材面が露出）をもつレジスト膜を形
成する。

その後、このレジスト膜を加熱硬化させる。しかるのち
、この硬化レジスト膜の形成されたシャドウマスク素材
に下記エツチング装置によりエツチング液をスプレィし
てエツチングし、上記マスクパターンに対応する開口部
分にシャドウマスク素材の両面間を貫通する透孔を形成
する。

上記エツチングに使用される装置は、第３図に示すよう
に、エツチングチャンバー（１）内を走行移動するシャ
ドウマスク素材（Ｗ）を支持する複数個の支持ローラ対
■を備え、その支持ローラ対■に支持されて走行移動す
るシャドウマスク素材（Ｉｔ）に対して、　その両面に
それぞれ対向して複数個のエツチング液スプレィノズル
■が配設されている。この各スプレィノズル■は、シャ
ドウマスク素材（ｗ）の走行移動方向を長手方向として
、　その走行移動方向と直交する方向に複数本並列され
、かつ矢印に）で示すシャドウマスク素材（Ｖ）の走行
移動方向と直交する方向に矢印（５ａＬ　（５ｂ）で示
すように一定角度で揺動するマニホルド（０に取付けら
れ、各マニホルド（Ｑの長手方向に所定ピッチで複数個
、走行移動方向と直交する方向には一本おきに配列され
ている。

このエツチング装置によりエツチングされたシャドウマ
スク素材（ｖ）をつぎに水で洗浄し、ついでアルカリ溶
液を用いてレジスト膜を剥離し、さらに水洗浄したのち
、長尺のシャドウマスク素材（ｗ）から所定形状の平板
状のシャドウマスク（フラットマスク）を抜取る。　こ
の平板状のシャドウマスクは、その後、プレス加工によ
り所定形状に成形される。

ところで、上記エツチング装置のスプレィノズル■の配
置は、第４図に示すように、支持ローラ対■に支持され
て走行移動するシャドウマスク素材（ｗ）の板面上にお
けるエツチング液のスプレィパターン■が、　シャドウ
マスク素材（ｗ）の走行移動方向にはオーバーラツプす
るが、上記のように一本おきに配列されてシャドウマス
ク素材（ｗ）の走行移動方向と直交する方向にはオーバ
ーラツプしない配置となっている。

（発明が解決しようとする課題） 上記のようにシャドウマスクを製造すると、シャドウマ
スク素材に対してエツチング装置のスプレィノズルが正
常に位置するときには、透孔寸法のばらつきの少ないシ
ャドウマスクを製造することができる。しかし、たとえ
ばマニホルドの配置が変化してスプレィノズルの位置が
狂うと、本来オーバーラツプしないシャドウマスク素材
の走行移動方向と直交する方向のスプレィパターンがオ
ーバーラツプし、そのオーバーラツプ部分がエツチング
量過大となって、シャドウマスク素材の走行移動方向に
透孔寸法大となって現れ、いわゆるロール縞不良が発生
する。

この発明は、上記問題点を解決するためになされたもの
であり、エツチング装置におけるシャドウマスク素材（
Ｖ）の板面上におけるエツチング液のスプレィパターン
を変えることにより、エツチングによる不良発生をなく
し、品位良好なシャドウマスクを容易に製造できる方法
を得ることを目的とする。

（発明の構成〕 （課題を解決するための手段） マスクパターンの形成されたレジスト膜を板面に有する
長尺帯板状のシャドウマスク素材をその長手方向に走行
移動させながら、このシャドウマスク素材の走行移動方
向およびその走行移動方向と直交する方向にそれぞれ複
数個配置されたスプレイノズルから上記シャドウマスク
素材の板面にエツチング液をスプレィして透孔を形成か
るカラー受像管用シャドウマスクの製造方法において、
上記複数個のスプレィノズルからスプレィされるエツチ
ング液のシャドウマスク素材の板面上におけるスプレィ
パターンを互いに上記シャドウマスク素材の走行移動方
向と直交する方向にオーバーラツプさせた。

（作用） 上記のように、エツチング時に、シャドウマスク素材の
走行移動方向と直交する方向のシャドウマスク素材板面
上におけるエツチング液のスプレィパターンを互いにオ
ーバーラツプさせると、たとえばマニホルドの配置が変
化して、スプレィノズルの位置が狂っても、シャドウマ
スク素材の走行移動方向と直交する方向のエツチング液
の分布の変化を少なくすることができ、スプレィノズル
の位置が正常のときは勿論、その位置が変化しても、エ
ツチング不良の発生を、防止することができる。

（実施例） 以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。

この例のシャドウマスクの製造は、長尺帯板状のシャド
ウマスク素材をその長手方向に走行移動させながらおこ
なわれ、その製造工程においては、前述したフォトエツ
チング法による工程と同じであり（第２図参照）、脱脂
洗浄→フォトレジスト液塗布→乾燥→マスクパターン焼
付け→現像→加熱硬化→エツチング→水洗→レジスト膜
剥離→水洗→フラットマスク抜取り、の順におこなわれ
るので、その詳細な説明は省略し、以下その要部である
エツチングについて述べる。

上記エツチングをおこなう装置は、第３図に示した従来
のエツチング装置と略同じであり、前工程の現像により
両面にマスクパターンに対応する開口をもつレジスト膜
が形成され、その後硬化処理されたシャドウマスク素材
を支持して、その走行移動およびエツチング中における
姿勢を維持する複数個の支持ローラ対、およびこの支持
ローラ対に支持されたシャドウマスク素材の両面にそれ
ぞれ対向して配置された複数個のスプレィノズルを備え
る。このスプレィノズルは、上記シャドウマスク素材の
走行移動方向を長手方向として、その走行移動方向と直
交する方向に複数本並列配置されたマニホルドに所定ピ
ッチで取付けられているが、そのマニホルドの並列間隔
およびスプレィノズルの取付はピッチが従来と異なる。

すなわち、第１図に示すように、この例のエツチング装
置のスプレィノズル（１０）は、上記支持ローラ対に支
持されたシャドウマスク素材の板面上におけるエツチン
グ液のスプレィパターン（１１）が各マニホルドの長手
方向、すなわちシャドウマスク素材の走行移動方向には
オーバーラツプしないピッチで取付けられ、一方、マニ
ホルドは、シャドウマスク素材の走行移動方向と直交す
る方向のシャドウマスク素材の板面上におけるスプレィ
ノズルパターン（１１）が互いにオーバーラツプする間
隔に並列配置されている。

しかも、上記シャドウマスク素材の走行移動方向と直交
する方向のオーバーラツプしたスプレィパターンの幅は
、シャドウマスク素材の所要の透孔を形成する上に十分
な大きさとなっている。すなわち第２図に示すように、
シャドウマスク素材（ｖ）のマスクパターンに対応する
開口を形成する部分の幅寸法、つまり製作しようとする
シャドウマスク（１２）のマニホルド配列方向の外形寸
法Ｑに対して、同方向のオーバーラツプしたスプレィパ
ターンの均−一様な部分の幅寸法がそれよりも大きくな
るように複数本のマニホルドがシャドウマスク素材（ｗ
）の走行移動方向と直交する方向に配置されている。上
記均一−様なオーバーラツプしたスプレィパターンの幅
寸法は、最外列マニホルドの取付けられたスプレィノズ
ル（１０）の中心間距離りにより決定される。

この最外列マニホルドの取付けられたスプレィノズル（
１０）の中心間距離りは重要であり、製作しようとする
シャドウマスクのマニホルド配列方向の外形寸法Ｑに対
して十分に大きくしないと、たとえばマニホルドの配置
が変化してスブレイノズル（１０）の位置が変化した場
合に、スプレィノズル（１０）からスプレィされるエツ
チング液が上記り寸法内のそれよりも少ないし寸法外側
のエツチング液によりエツチングされ、エツチングが不
均一となる。したがって、上記最外列マニホルドの取付
けられたスプレィノズル（１０）の中心間距離りは、製
作しようとするシャドウマスクのマニホルド配列方向の
外形寸法Ｑに対して十分に大きくすることが必要であり
、そのために、シャドウマスクの外形寸法が大きさに対
応して、マニホルドの数量を増加することが必要である
。

上記のようにシャドウマスク素材に対してスプレィノズ
ル（１０）を配置すると、たとえばマニホルドの配置が
変化してスプレィノズル（ｌＯ）の位置が変化しても、
シャドウマスク素材（Ｖ）の走行移動方向と直交する方
向のシャドウマスク素材板面上におけるエツチング液の
分布を大幅に変化させることがなくなり、従来発生しや
すかったシャドウマスク素材の走行移動方向のロール縞
不良の発生を軽減することができ、安定して品質良好な
シャドウマスクを製造することができる。

〔発明の効果〕

両面にマスクパターンに対応する開口をもつレジスト膜
が形成され、その後硬化処理されたシャドウマスク素材
に対して、エツチング時、シャドウマスク素材の走行移
動方向と直交する方向のシャドウマスク素材板面上にお
けるエツチング液のスプレィパターンを互いにオーバー
ラツプさせると、スプレィノズルの位置が変化しても、
シャドウマスク素材の走行移動方向と直交する方向のシ
ャドウマスク素材板面上におけるエツチング液の分布の
変化を少なくすることができ、スプレィノズルの位置が
正常のときは勿論、その位置が変化しても、エツチング
不良を発生せず、安定して品質良好なシャドウマスクを
製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例であるカラー受像管用シャ
ドウマスクの製造方法におけるエツチング液のスプレィ
パターンの図、第２図はシャドウマスクの外形寸法と上
記スプレィパターンとの関係を示す図、第３図はカラー
受像管用シャドウマスクの製造方法を説明するための工
程図、第４図はそのエツチング工程で使用されるエツチ
ング装置の構成を示す図、第５図は従来のエツチング装
置におけるエツチング液のスプレィパターンの図である
。 １・・・エツチングチャンバー ２・・・支持ローラ対　　３・・・スプレィノズル５・
・・マニホルド　　　１０・・・スプレィノズル１１・
・・スプレィパターン Ｖ・・・シャドウマスク素材 代理人　弁理士　大　胡　典　夫 ！ｓ　　１　　図 第２図 第　　３　　図 第４図 ＠　　５　　図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 マスクパターンの形成されたレジスト膜を板面に有する
   長尺帯板面状のシャドウマスク素材をその長手方向に走
   行移動させながら、上記シャドウマスク素材の走行移動
   方向およびその走行移動方向と直交する方向にそれぞれ
   複数個配置されたスプレィノズルから上記シャドウマス
   ク素材の板面にエッチング液をスプレィして、上記レジ
   スト膜のマスクパターンに対応する透孔を上記シャドウ
   マスク素材の両面間に形成するカラー受像管用シャドウ
   マスクの製造方法において、 上記複数個のスプレィノズルからスプレィされるエッチ
   ング液の上記シャドウマスク素材の板面上におけるスプ
   レィパターンを互いに上記シャドウマスク素材の走行移
   動方向と直交する方向にオーバーラップさせたことを特
   徴とするカラー受像管用シャドウマスクの製造方法。