JP3093304B2 - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents
シャドウマスクの製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シャドウマスクの製造
方法に関し、とくにシャドウマスクのエッチング方法に
関する。
方法に関し、とくにシャドウマスクのエッチング方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】カラーテレビあるいはコンピュータの表
示装置用のカラーブラウン管に使用されているシャドウ
マスクは、アルミキルド鋼等の軟鋼あるいは鉄とニッケ
ルを主成分とする膨張率が小さいアンバー等の厚さ０．
１ｍｍから０．３ｍｍの薄板が用いられている。シャド
ウマスクは基材の薄板の両面にフォトレジストを塗布し
た後に乾燥し、所定のパターンが描かれたフォトマスク
を使用して露光し、続いて露光後のフォトレジスト膜を
現像し、フォトレジスト膜にエッチングすべきパターン
を形成している。そして、塩化第２鉄を主成分とするエ
ッチング液によって基材に所望の開孔を形成している。
示装置用のカラーブラウン管に使用されているシャドウ
マスクは、アルミキルド鋼等の軟鋼あるいは鉄とニッケ
ルを主成分とする膨張率が小さいアンバー等の厚さ０．
１ｍｍから０．３ｍｍの薄板が用いられている。シャド
ウマスクは基材の薄板の両面にフォトレジストを塗布し
た後に乾燥し、所定のパターンが描かれたフォトマスク
を使用して露光し、続いて露光後のフォトレジスト膜を
現像し、フォトレジスト膜にエッチングすべきパターン
を形成している。そして、塩化第２鉄を主成分とするエ
ッチング液によって基材に所望の開孔を形成している。
【０００３】カラーブラウン管では、３本の電子銃から
放射された電子ビームはシャドウマスクの開孔部分にお
いて交わった後に、表示面に設けた赤、緑および青の３
色に発光する３本の電子ビームに対応する蛍光体を励起
している。
放射された電子ビームはシャドウマスクの開孔部分にお
いて交わった後に、表示面に設けた赤、緑および青の３
色に発光する３本の電子ビームに対応する蛍光体を励起
している。
【０００４】カラーブラウン管の大型化、画像の高品質
化、蛍光体のピッチの高精細化等により、シャドウマス
クに形成される孔にも高い精度が要求されるようになっ
ている。
化、蛍光体のピッチの高精細化等により、シャドウマス
クに形成される孔にも高い精度が要求されるようになっ
ている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】シャドウマスクに形成
される開孔は、電子銃側は径が小さい小孔であり、蛍光
面側は径が大きくなった大孔が形成されている。このよ
うな径が異なる小孔と大孔とを貫通させ、しかも孔の内
面の形状も電子銃に悪影響を及ぼさないように凹凸の少
ない曲面状とすることが要求されている。更に、面積の
大きなシャドウマスク全面にわたり多数個の開孔部の特
性を一様とするように注意が払われている。
される開孔は、電子銃側は径が小さい小孔であり、蛍光
面側は径が大きくなった大孔が形成されている。このよ
うな径が異なる小孔と大孔とを貫通させ、しかも孔の内
面の形状も電子銃に悪影響を及ぼさないように凹凸の少
ない曲面状とすることが要求されている。更に、面積の
大きなシャドウマスク全面にわたり多数個の開孔部の特
性を一様とするように注意が払われている。
【０００６】シャドウマスクのエッチングは、帯状の金
属の薄板を使用し、フォトレジストのパターンを形成し
た金属の基材を移動させながらスプレーによってエッチ
ング液を噴射することによって行われている。スプレー
からエッチング液を噴射する方法は、エッチング液の槽
中に被処理物を浸漬する方法に比べてエッチング液を均
一に、しかもエッチングすべき箇所に速く供給すること
が可能であるので精密な加工が可能である。図６（Ａ）
には、従来のエッチング工程のスプレーノズルの配置箇
所を示した平面図であり、図６（Ｂ）は断面図である。
帯状の基材１上に均一な間隔で設けたエッチング液の供
給管２にノズル３が取り付けられており、ノズルの取付
位置４を供給管に●で示す。ノズル３は供給管２に等間
隔で取り付けられている。更に均一に基材上にエッチン
グ液が噴射されるように、ノズルを揺動することも行わ
れている。図６（Ａ）のようなノズルの配置によって、
被処理基材の全面にわたり、ほぼ均一にエッチング液を
噴射することが可能である。ところが、このように基板
の全面に均一にエッチング液を噴射した場合であっても
得られる開孔には場所によるむらが生じることが明かと
なった。本発明は、均一な特性の開孔が得られるエッチ
ング方法を提供することを目的とするものである。
属の薄板を使用し、フォトレジストのパターンを形成し
た金属の基材を移動させながらスプレーによってエッチ
ング液を噴射することによって行われている。スプレー
からエッチング液を噴射する方法は、エッチング液の槽
中に被処理物を浸漬する方法に比べてエッチング液を均
一に、しかもエッチングすべき箇所に速く供給すること
が可能であるので精密な加工が可能である。図６（Ａ）
には、従来のエッチング工程のスプレーノズルの配置箇
所を示した平面図であり、図６（Ｂ）は断面図である。
帯状の基材１上に均一な間隔で設けたエッチング液の供
給管２にノズル３が取り付けられており、ノズルの取付
位置４を供給管に●で示す。ノズル３は供給管２に等間
隔で取り付けられている。更に均一に基材上にエッチン
グ液が噴射されるように、ノズルを揺動することも行わ
れている。図６（Ａ）のようなノズルの配置によって、
被処理基材の全面にわたり、ほぼ均一にエッチング液を
噴射することが可能である。ところが、このように基板
の全面に均一にエッチング液を噴射した場合であっても
得られる開孔には場所によるむらが生じることが明かと
なった。本発明は、均一な特性の開孔が得られるエッチ
ング方法を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】シャドウマスクの貫通孔
のむらについて詳細に分析したところ、帯状のシャドウ
マス基材の板の周辺部ほど開孔径が大きくなり、中央部
は開孔径が小さいことが明かとなったが、これは、エッ
チング液の噴射量が均一であるにもかかわらず、エッチ
ングの速度の差が生じていることを示している。
のむらについて詳細に分析したところ、帯状のシャドウ
マス基材の板の周辺部ほど開孔径が大きくなり、中央部
は開孔径が小さいことが明かとなったが、これは、エッ
チング液の噴射量が均一であるにもかかわらず、エッチ
ングの速度の差が生じていることを示している。
【０００８】塩化第２鉄溶液を主成分とするエッチング
液を使用してエッチングを行う場合には、供給された第
２鉄の成分に富んだ新しいエッチング液が基材と速やか
に接触することによってエッチングが効果的に進むが、
エッチング反応が進むとエッチング液中の第２鉄は還元
されて第１鉄となる。そして、第２鉄の濃度が低下する
とエッチング液としての作用を果たさなくなる。したが
って、十分なエッチング速度を得るためには、第２鉄を
含んだ液がエッチングすべき箇所に十分に供給されると
ともに、第２鉄の濃度が低下した液がエッチング箇所か
ら速やかに排除されて、新しいエッチング液が供給され
なければならない。
液を使用してエッチングを行う場合には、供給された第
２鉄の成分に富んだ新しいエッチング液が基材と速やか
に接触することによってエッチングが効果的に進むが、
エッチング反応が進むとエッチング液中の第２鉄は還元
されて第１鉄となる。そして、第２鉄の濃度が低下する
とエッチング液としての作用を果たさなくなる。したが
って、十分なエッチング速度を得るためには、第２鉄を
含んだ液がエッチングすべき箇所に十分に供給されると
ともに、第２鉄の濃度が低下した液がエッチング箇所か
ら速やかに排除されて、新しいエッチング液が供給され
なければならない。
【０００９】すなわち、エッチング液が被処理基材の全
面に均一に噴射されても、エッチング能力の低下した液
が長く滞留していたのではエッチング速度は低下するこ
ととなる。エッチング液を被処理基材の全面にわたり均
一に噴射すると逆に液の流れ出しが悪くなる現象が生じ
る。とくに、液の流れ出す箇所は外周部のみであるの
で、中央部に噴射された液が外周部で噴射された液によ
って外に流れ出ることを妨害され、結果として中央部に
液がより多く溜まることこなる。そのために、エッチン
グ反応によって、第２鉄が減少してエッチング能力の低
下した古いエッチング液が滞留し、新しいエッチング液
が被処理基材面と接触する機会が低下し、基材の中央部
のエッチング速度が遅くなる。
面に均一に噴射されても、エッチング能力の低下した液
が長く滞留していたのではエッチング速度は低下するこ
ととなる。エッチング液を被処理基材の全面にわたり均
一に噴射すると逆に液の流れ出しが悪くなる現象が生じ
る。とくに、液の流れ出す箇所は外周部のみであるの
で、中央部に噴射された液が外周部で噴射された液によ
って外に流れ出ることを妨害され、結果として中央部に
液がより多く溜まることこなる。そのために、エッチン
グ反応によって、第２鉄が減少してエッチング能力の低
下した古いエッチング液が滞留し、新しいエッチング液
が被処理基材面と接触する機会が低下し、基材の中央部
のエッチング速度が遅くなる。
【００１０】一方、外周部ではエッチングの能力の低下
したエッチング液は速やかに排出されるので古いエッチ
ング液と新しいエッチング液との置換が速やかに起こ
る。その結果、外周部は中央部に比較してエッチング速
度が大きくなるので同一の開孔を得る場合には開孔径が
大きくなる。
したエッチング液は速やかに排出されるので古いエッチ
ング液と新しいエッチング液との置換が速やかに起こ
る。その結果、外周部は中央部に比較してエッチング速
度が大きくなるので同一の開孔を得る場合には開孔径が
大きくなる。
【００１１】そこで、本発明では、中央部の液の滞留時
間を減少するために、基板の全面に一様にエッチング液
を供給するエッチングノズルの配置から一部のエッチン
グノズルを取り除き、基材上にエッチング液が噴射され
ない領域もしくは噴射量の少ない領域を形成し、その部
分を液の通路とすることによって基材の中央部からも第
２鉄の減少したエッチング液を速やかに排出させて新し
いエッチング液と接触させるようにしたものである。そ
して、エッチング液が噴射されない領域もしくは噴射量
が少ない領域は帯状の被処理基材の幅方向の両端部へ連
続した領域が形成されることが好ましい。
間を減少するために、基板の全面に一様にエッチング液
を供給するエッチングノズルの配置から一部のエッチン
グノズルを取り除き、基材上にエッチング液が噴射され
ない領域もしくは噴射量の少ない領域を形成し、その部
分を液の通路とすることによって基材の中央部からも第
２鉄の減少したエッチング液を速やかに排出させて新し
いエッチング液と接触させるようにしたものである。そ
して、エッチング液が噴射されない領域もしくは噴射量
が少ない領域は帯状の被処理基材の幅方向の両端部へ連
続した領域が形成されることが好ましい。
【００１２】その結果、中央部でのエッチング液の滞留
を防止し、周辺部との間のエッチング速度に差が生じな
いようにしたものである。
を防止し、周辺部との間のエッチング速度に差が生じな
いようにしたものである。
【００１３】エッチング液の噴射されない領域もしくは
噴射量の少ない領域を形成するためには、エッチングノ
ズルの噴射パターンの変更、ノズルへのエッチング液の
供給圧力を変更したりする方法もあるが、本発明は、噴
射パターンの異なるエッチングノズルを配置したり、供
給管の圧力を個別に変化する方法に比べて既存の設備に
大きな変更を加えることなく、単にエッチングノズルの
配置パターンを変えることによって、エッチング液が噴
射されない領域もしくは噴射量が少ない領域を形成する
ものである。
噴射量の少ない領域を形成するためには、エッチングノ
ズルの噴射パターンの変更、ノズルへのエッチング液の
供給圧力を変更したりする方法もあるが、本発明は、噴
射パターンの異なるエッチングノズルを配置したり、供
給管の圧力を個別に変化する方法に比べて既存の設備に
大きな変更を加えることなく、単にエッチングノズルの
配置パターンを変えることによって、エッチング液が噴
射されない領域もしくは噴射量が少ない領域を形成する
ものである。
【００１４】このような目的を達成するための最も簡単
エッチングノズルの配置方法は、既に均一に配置されて
いるエッチングノズルのうちの一部のノズルを取り除く
方法であるが、一部のエッチングノズルを除く方法以外
にも、本発明を実施するために好ましいエッチングノズ
ルの配置方法は数多くある。
エッチングノズルの配置方法は、既に均一に配置されて
いるエッチングノズルのうちの一部のノズルを取り除く
方法であるが、一部のエッチングノズルを除く方法以外
にも、本発明を実施するために好ましいエッチングノズ
ルの配置方法は数多くある。
【００１５】一方、エッチングノズルの一部を取り除く
とエッチング液の噴射量が減少するが、エッチング液の
排出通路が形成されたことによって噴射量の減少にもか
かわらずエッチング速度は上昇するという効果も得られ
る。
とエッチング液の噴射量が減少するが、エッチング液の
排出通路が形成されたことによって噴射量の減少にもか
かわらずエッチング速度は上昇するという効果も得られ
る。
【００１６】また、シャドウマスクのエッチングは水平
方向に帯状に移動する被処理基材の上下の面からエッチ
ング液を噴射する方法が一般に行われているので、本発
明の方法は上面での液の滞留に起因するエッチング速度
の均一化に大きな効果を及ぼすが、被処理基材の下面の
エッチングノズルの配置においても有効である。被処理
基材の下面ではエッチング液は重力によって落下して排
出されるが、エッチング液は２ｋｇ／ｃｍ2ないしは５
ｋｇ／ｃｍ2の高い圧力で噴射されているので、噴射さ
れたエッチング液は被処理基材の下面に衝突し、水平方
向への運動もするので中央部に噴射されたエッチング液
は周囲に噴射されたエッチング液によって周辺部への移
動が妨げられて、中央部では上面と同様に周辺部に比べ
てエッチング液が滞留する現象がみられる。したがっ
て、下面においてもエッチング液が噴射されない領域も
しくはエッチング液の噴射量の少ない領域を設けること
によってエッチングを均一にするとともに、エッチング
速度を大きくする効果が得られる。
方向に帯状に移動する被処理基材の上下の面からエッチ
ング液を噴射する方法が一般に行われているので、本発
明の方法は上面での液の滞留に起因するエッチング速度
の均一化に大きな効果を及ぼすが、被処理基材の下面の
エッチングノズルの配置においても有効である。被処理
基材の下面ではエッチング液は重力によって落下して排
出されるが、エッチング液は２ｋｇ／ｃｍ2ないしは５
ｋｇ／ｃｍ2の高い圧力で噴射されているので、噴射さ
れたエッチング液は被処理基材の下面に衝突し、水平方
向への運動もするので中央部に噴射されたエッチング液
は周囲に噴射されたエッチング液によって周辺部への移
動が妨げられて、中央部では上面と同様に周辺部に比べ
てエッチング液が滞留する現象がみられる。したがっ
て、下面においてもエッチング液が噴射されない領域も
しくはエッチング液の噴射量の少ない領域を設けること
によってエッチングを均一にするとともに、エッチング
速度を大きくする効果が得られる。
【００１７】
【作用】エッチング液を基材の板面の全面に一様に供給
した場合に生じる中央部の液の排出の障害を防止し、速
やかにエッチング液の排出を行うために、エッチング液
が噴射されない領域もしくは噴射量の少ない領域を形成
し、中央部の液の滞留時間を減少することによって、中
央部分でも速やかにエッチング液が入れ替わることによ
って中央部分でのエッチング速度の低下を防止し、基材
の全面にわたりエッチング速度の差が生じないように
し、開孔部の特性の均一なシャドウマスクを得るととも
にエッチング速度を大きくすることができる。
した場合に生じる中央部の液の排出の障害を防止し、速
やかにエッチング液の排出を行うために、エッチング液
が噴射されない領域もしくは噴射量の少ない領域を形成
し、中央部の液の滞留時間を減少することによって、中
央部分でも速やかにエッチング液が入れ替わることによ
って中央部分でのエッチング速度の低下を防止し、基材
の全面にわたりエッチング速度の差が生じないように
し、開孔部の特性の均一なシャドウマスクを得るととも
にエッチング速度を大きくすることができる。
【００１８】
【実施例】以下に図面に基づいて本発明をさらに詳細に
説明する。図７は従来のエッチングノズルの配置例を示
した図である。エッチングノズルの配置箇所を供給管２
上に●で示しているが、被処理基材の全面に均一な噴射
パターンが得られるようにエッチングノズルを配置して
いる。この例では、複数の供給管は平行に配置されてお
り、エッチングノズルの同一の供給管上での配置間隔
は、一般には１６０ｍｍないし２００ｍｍ程度の間隔を
設けている。この間隔を１ピッチとすると隣接する供給
管のエッチングノズルを投影すると約半ピッチずれてお
り、被処理基材の全面に噴射量が均一となるように配置
されている。また、供給管相互は１００ｍｍないし１５
０ｍｍの間隔を設けている。
説明する。図７は従来のエッチングノズルの配置例を示
した図である。エッチングノズルの配置箇所を供給管２
上に●で示しているが、被処理基材の全面に均一な噴射
パターンが得られるようにエッチングノズルを配置して
いる。この例では、複数の供給管は平行に配置されてお
り、エッチングノズルの同一の供給管上での配置間隔
は、一般には１６０ｍｍないし２００ｍｍ程度の間隔を
設けている。この間隔を１ピッチとすると隣接する供給
管のエッチングノズルを投影すると約半ピッチずれてお
り、被処理基材の全面に噴射量が均一となるように配置
されている。また、供給管相互は１００ｍｍないし１５
０ｍｍの間隔を設けている。
【００１９】これに対して、本発明のシャドウマスクの
製造方法におけるエッチングノズルの配置の１実施例を
示す図１（Ａ）のものは、図７の従来のエッチングノズ
ルの配置例で示したものから、供給管上のノズルを１本
おきに○で示される箇所のエッチングノズルを取り除い
たものである。
製造方法におけるエッチングノズルの配置の１実施例を
示す図１（Ａ）のものは、図７の従来のエッチングノズ
ルの配置例で示したものから、供給管上のノズルを１本
おきに○で示される箇所のエッチングノズルを取り除い
たものである。
【００２０】図１（Ａ）のノズルの間隔は、１ピッチ毎
にエッチングノズルを取り除いたので２ピッチの間隔に
相当する。その結果取り除いたエッチングノズルの噴射
領域に相当する箇所へのエッチング液の供給量は減少
し、噴射量が減少した領域を通じて中央部に供給された
エッチング液が被処理基材の両端部へと速やかに排出さ
れる。その結果、被処理基材の中央部と端部とのエッチ
ング速度の差を小さくすることが可能となる。
にエッチングノズルを取り除いたので２ピッチの間隔に
相当する。その結果取り除いたエッチングノズルの噴射
領域に相当する箇所へのエッチング液の供給量は減少
し、噴射量が減少した領域を通じて中央部に供給された
エッチング液が被処理基材の両端部へと速やかに排出さ
れる。その結果、被処理基材の中央部と端部とのエッチ
ング速度の差を小さくすることが可能となる。
【００２１】一部のノズルを除いた場合にはエッチング
液の噴射圧力等の条件が一定であるとエッチング液量が
減少し、エッチング速度が低下するが、エッチング液の
液量の減少に比してエッチング液の低下の割合は小さ
く、エッチング液が噴射されない部分を設けてエッチン
グ液が排出される通路を形成したことによって実質的に
エッチング速度が上昇する。
液の噴射圧力等の条件が一定であるとエッチング液量が
減少し、エッチング速度が低下するが、エッチング液の
液量の減少に比してエッチング液の低下の割合は小さ
く、エッチング液が噴射されない部分を設けてエッチン
グ液が排出される通路を形成したことによって実質的に
エッチング速度が上昇する。
【００２２】図１（Ｂ）はノズルの別の配置を示す図で
あるが、同じくエッチングノズルの配置箇所を●で示し
た。図１（Ａ）が、図７の配置に比べてエッチングノズ
ルを１個おきに取り除いたものであるのに対して２個お
きにエッチングノズルを取り除いて通路を形成したもの
であるが、図１（Ｂ）で示すものは図１（Ａ）に比べて
エッチングノズルの個数が多いので、エッチング液の噴
射量は図１（Ａ）に比べて多くなるのでエッチング速度
の面では有利となる。
あるが、同じくエッチングノズルの配置箇所を●で示し
た。図１（Ａ）が、図７の配置に比べてエッチングノズ
ルを１個おきに取り除いたものであるのに対して２個お
きにエッチングノズルを取り除いて通路を形成したもの
であるが、図１（Ｂ）で示すものは図１（Ａ）に比べて
エッチングノズルの個数が多いので、エッチング液の噴
射量は図１（Ａ）に比べて多くなるのでエッチング速度
の面では有利となる。
【００２３】図２（Ａ）は隣接する供給管に被処理基材
の供給管に直角な同一の直線上に配置し、同一の供給管
上のエッチングノズルのピッチは２００ｍｍないしは４
００ｍｍの間隔として、エッチングノズルの噴射領域に
比べてエッチングノズルの間隔を大きくしたものであ
る。
の供給管に直角な同一の直線上に配置し、同一の供給管
上のエッチングノズルのピッチは２００ｍｍないしは４
００ｍｍの間隔として、エッチングノズルの噴射領域に
比べてエッチングノズルの間隔を大きくしたものであ
る。
【００２４】図２（Ｂ）は図２（Ａ）のエッチングノズ
ルの配置に比べてエッチング液の噴射量を多くするため
に、同様に隣接する供給管のエッチングノズルは被処理
基材の供給管に直角な同一線上に配置するが、エッチン
グノズルを配置する直線の間隔は等間隔ではなく、５０
ｍｍないし１００ｍｍの小さな間隔と３００ｍｍないし
４００ｍｍの大きな間隔の２種類の間隔を交互に形成し
たもので、間隔の小さい２個のエッチングノズルから大
量に噴射し、間隔を設けて配置したエッチングノズル間
の領域からエッチング液を両端部へ速やかに排出するこ
とが可能である。
ルの配置に比べてエッチング液の噴射量を多くするため
に、同様に隣接する供給管のエッチングノズルは被処理
基材の供給管に直角な同一線上に配置するが、エッチン
グノズルを配置する直線の間隔は等間隔ではなく、５０
ｍｍないし１００ｍｍの小さな間隔と３００ｍｍないし
４００ｍｍの大きな間隔の２種類の間隔を交互に形成し
たもので、間隔の小さい２個のエッチングノズルから大
量に噴射し、間隔を設けて配置したエッチングノズル間
の領域からエッチング液を両端部へ速やかに排出するこ
とが可能である。
【００２５】図３（Ａ）は隣接する供給管のエッチング
ノズルを供給管と斜めに交わる直線上に配置したもの
で、同一の供給管上ではエッチングノズルは等間隔に配
置したものである。同一の供給管上でのエッチングノズ
ルの間隔は２００ｍｍないし４００ｍｍであり、また隣
接する供給管の一方のエッチングノズルを他方に投影し
た場合の両者の間隔は５０ｍｍないし１００ｍｍの距離
を有している。
ノズルを供給管と斜めに交わる直線上に配置したもの
で、同一の供給管上ではエッチングノズルは等間隔に配
置したものである。同一の供給管上でのエッチングノズ
ルの間隔は２００ｍｍないし４００ｍｍであり、また隣
接する供給管の一方のエッチングノズルを他方に投影し
た場合の両者の間隔は５０ｍｍないし１００ｍｍの距離
を有している。
【００２６】図３（Ｂ）は、隣接する供給管のエッチン
グノズルを供給管と斜めに交わる直線上に配置したもの
で、同一の供給管上ではエッチングノズルは等間隔では
なく、短い距離と長い距離の２種類の間隔を設けて短い
距離の間隔と長い距離の間隔とを交互に設けて配置した
例を示しており、同一の供給管上でのエッチングノズル
の間隔の短い距離は５０ｍｍないし１００ｍｍとし、長
い距離は２００ｍｍないし４００ｍｍとしたものであ
る。また隣接する供給管の一方のエッチングノズルを他
方に投影した場合の両者の間隔は５０ｍｍないし１００
ｍｍの距離を有している。図３（Ｂ）の配置は、図３
（Ａ）の配置に比べて噴射量が大きくなりエッチング速
度が大きくなる。
グノズルを供給管と斜めに交わる直線上に配置したもの
で、同一の供給管上ではエッチングノズルは等間隔では
なく、短い距離と長い距離の２種類の間隔を設けて短い
距離の間隔と長い距離の間隔とを交互に設けて配置した
例を示しており、同一の供給管上でのエッチングノズル
の間隔の短い距離は５０ｍｍないし１００ｍｍとし、長
い距離は２００ｍｍないし４００ｍｍとしたものであ
る。また隣接する供給管の一方のエッチングノズルを他
方に投影した場合の両者の間隔は５０ｍｍないし１００
ｍｍの距離を有している。図３（Ｂ）の配置は、図３
（Ａ）の配置に比べて噴射量が大きくなりエッチング速
度が大きくなる。
【００２７】図４（Ａ）は、両端部の供給管から距離の
等しい点から被処理基材の進行方向とは逆方向へ斜めに
延びる平行な等間隔の直線と供給管の交点上にエッチン
グノズルを配置する例を示している。同一の供給管上で
隣接するエッチングノズルの間隔は２００ｍｍないし４
００ｍｍとするのが適当であり、また隣接する供給管の
一方のエッチングノズルを他方の供給管に投影した場合
のエッチングノズルの間隔は３０ｍｍないし１００ｍｍ
とするのが適当である。また、エッチングノズルは両端
部の供給管から距離の等しい直線に対して線対称に配置
することが均一なエッチングを行う上で好ましい。
等しい点から被処理基材の進行方向とは逆方向へ斜めに
延びる平行な等間隔の直線と供給管の交点上にエッチン
グノズルを配置する例を示している。同一の供給管上で
隣接するエッチングノズルの間隔は２００ｍｍないし４
００ｍｍとするのが適当であり、また隣接する供給管の
一方のエッチングノズルを他方の供給管に投影した場合
のエッチングノズルの間隔は３０ｍｍないし１００ｍｍ
とするのが適当である。また、エッチングノズルは両端
部の供給管から距離の等しい直線に対して線対称に配置
することが均一なエッチングを行う上で好ましい。
【００２８】図４（Ｂ）は、図４（Ａ）と同様に両端部
の供給管から距離の等しい点から被処理基材の進行方向
とは逆方向へ斜めに延びる平行である直線と供給管の交
点上にエッチングノズルを配置する例を示しているが、
エッチングノズルを配置する直線は等間隔ではなく、短
い距離と長い距離の２種類としており、短い距離の間隔
と長い距離の間隔とを交互に設けてエッチングノズルを
配置している。同一の供給管上で隣接するエッチングノ
ズルの間隔は、短い距離は５０ｍｍないし１００ｍｍ、
長い距離は３００ｍｍないし４００ｍｍとするのが適当
であり、また隣接する供給管の一方のエッチングノズル
を他方の供給管に投影した場合のエッチングノズルの間
隔は３０ｍｍないし１００ｍｍとするのが適当である。
の供給管から距離の等しい点から被処理基材の進行方向
とは逆方向へ斜めに延びる平行である直線と供給管の交
点上にエッチングノズルを配置する例を示しているが、
エッチングノズルを配置する直線は等間隔ではなく、短
い距離と長い距離の２種類としており、短い距離の間隔
と長い距離の間隔とを交互に設けてエッチングノズルを
配置している。同一の供給管上で隣接するエッチングノ
ズルの間隔は、短い距離は５０ｍｍないし１００ｍｍ、
長い距離は３００ｍｍないし４００ｍｍとするのが適当
であり、また隣接する供給管の一方のエッチングノズル
を他方の供給管に投影した場合のエッチングノズルの間
隔は３０ｍｍないし１００ｍｍとするのが適当である。
【００２９】実施例１ 幅７００ｍｍ、厚さ０．２５ｍｍのアルミキルド鋼を基
材とし、基材の両面にカゼインに重クロム酸アンモニウ
ムを混合した感光材料からなる厚さ１０μｍのフォトレ
ジスト膜を形成し、基材の上面は５０μｍ×３６０μ
ｍ、下面は３５０μｍ×３６０μｍの穴を板幅方向に８
００μｍの間隔に設けたパターンを用いて、５ｋＷ超高
圧水銀灯によって６０秒間密着露光し、３０℃の液温で
現像した後、図１（Ａ）で示すようにノズルの間隔を２
ピッチすなわち４００ｍｍ、供給管の間隔を１２０ｍ
ｍ、ノズルと基材との距離を３００ｍｍ、基材の搬送速
度を２ｍ／分、エッチング液の噴出圧力を３ｋｇ／ｃｍ
2としてエッチングを行い、得られた基材の中央部分か
ら周辺部への距離を横軸にとり、開孔の大きさを光の透
過率の測定によって行い、得られた開孔率を縦軸にと
り、その結果を図５に示す。 実施例２ ノズルの配置を図１（Ｂ）とした点を除いては実施例１
と同様の条件でエッチングを行い、実施例１と同様に透
過率と位置との関係を図５に示す。
材とし、基材の両面にカゼインに重クロム酸アンモニウ
ムを混合した感光材料からなる厚さ１０μｍのフォトレ
ジスト膜を形成し、基材の上面は５０μｍ×３６０μ
ｍ、下面は３５０μｍ×３６０μｍの穴を板幅方向に８
００μｍの間隔に設けたパターンを用いて、５ｋＷ超高
圧水銀灯によって６０秒間密着露光し、３０℃の液温で
現像した後、図１（Ａ）で示すようにノズルの間隔を２
ピッチすなわち４００ｍｍ、供給管の間隔を１２０ｍ
ｍ、ノズルと基材との距離を３００ｍｍ、基材の搬送速
度を２ｍ／分、エッチング液の噴出圧力を３ｋｇ／ｃｍ
2としてエッチングを行い、得られた基材の中央部分か
ら周辺部への距離を横軸にとり、開孔の大きさを光の透
過率の測定によって行い、得られた開孔率を縦軸にと
り、その結果を図５に示す。 実施例２ ノズルの配置を図１（Ｂ）とした点を除いては実施例１
と同様の条件でエッチングを行い、実施例１と同様に透
過率と位置との関係を図５に示す。
【００３０】実施例３ 基材の搬送速度を変えた点を除いて実施例１と同様の方
法によってエッチングを行い平均透過率が１８％の際の
速度を求めたところ、２．２８ｍ／分であった。
法によってエッチングを行い平均透過率が１８％の際の
速度を求めたところ、２．２８ｍ／分であった。
【００３１】比較例１ ノズルの配置を図７とした点を除いて実施例１と同様の
条件でエッチングを行い、実施例１と同様に透過率を測
定し、その位置と中央部との距離の関係を図５に示す。
条件でエッチングを行い、実施例１と同様に透過率を測
定し、その位置と中央部との距離の関係を図５に示す。
【００３２】比較例２ 基材の搬送速度を変えた点を除いて比較例１と同様の方
法によってエッチングを行い平均透過率が１８％の際の
速度を求めたところ、１．９６ｍ／分であった。
法によってエッチングを行い平均透過率が１８％の際の
速度を求めたところ、１．９６ｍ／分であった。
【００３３】
【発明の効果】本発明は、被処理基材面にエッチング液
が噴射されない領域もしくは噴射量が少ない領域を設け
るようにエッチングノズルを配置することによって、全
面に一様にエッチング液を供給した場合に生じる中央部
の液の排出の障害を防止し、速やかにエッチング液の排
出を行うもので、中央部の液の滞留時間を減少すること
によって中央部分でのエッチング速度の低下を防止し、
基材の全面にわたりエッチング速度の差が生じないよう
にし、開孔部の特性の均一なシャドウマスクを得るとと
もにエッチング速度を大きくすることができる。
が噴射されない領域もしくは噴射量が少ない領域を設け
るようにエッチングノズルを配置することによって、全
面に一様にエッチング液を供給した場合に生じる中央部
の液の排出の障害を防止し、速やかにエッチング液の排
出を行うもので、中央部の液の滞留時間を減少すること
によって中央部分でのエッチング速度の低下を防止し、
基材の全面にわたりエッチング速度の差が生じないよう
にし、開孔部の特性の均一なシャドウマスクを得るとと
もにエッチング速度を大きくすることができる。
【図１】本発明のエッチング方法におけるノズルの配置
の１実施例を示す示す図。
の１実施例を示す示す図。
【図２】本発明のエッチング方法におけるノズルの配置
の１実施例を示す示す図。
の１実施例を示す示す図。
【図３】本発明のエッチング方法におけるノズルの配置
の１実施例を示す示す図。
の１実施例を示す示す図。
【図４】本発明のエッチング方法におけるノズルの配置
の１実施例を示す示す図。
の１実施例を示す示す図。
【図５】基材の中央部からの距離と透過率の関係を説明
する図。
する図。
【図６】従来のノズルの配置を示す平面図と断面図を示
す図。
す図。
【図７】従来のノズルの配置例を示す図。
１…基材、２…供給管、３…ノズル、４…ノズルの取付
位置
位置
Claims (10)
- 【請求項１】 金属の薄板に形成したフォトレジスト膜
に所定のパターンを形成した被処理基材を進行させなが
ら、被処理基材の進行方向に平行な複数の供給管に設け
たエッチングノズルからエッチング液を噴射してエッチ
ングを行いシャドウマスクを製造する方法において、エ
ッチング液が噴射されない領域、もしくはエッチング液
の噴射量が少ない領域が被処理基材の端部へと連続して
形成されるようにエッチングノズルを配置したことを特
徴とするシャドウマスクの製造方法。 - 【請求項２】 被処理基材面上へ一様な噴射量が得られ
るエッチングノズルの配置間隔よりも大きな間隔で等間
隔に配置したことを特徴とする請求項１記載のシャドウ
マスクの製造方法。 - 【請求項３】 被処理基材面上へ一様な噴射量が得られ
るエッチングノズルの配置から同一の供給管上のエッチ
ングノズルを１本おきに間引くことを特徴とする請求項
１記載のシャドウマスクの製造方法。 - 【請求項４】 被処理基材面上へ一様な噴射量が得られ
るエッチングノズルの配置から同一の供給管上のエッチ
ングノズルを２本おきに間引くことを特徴とする請求項
１記載のシャドウマスクの製造方法。 - 【請求項５】 エッチングノズルを供給管に直角な等間
隔の線上に配置し、同一の供給管上のエッチングノズル
の配置間隔を大きくしたことを特徴とする請求項１記載
のシャドウマスクの製造方法。 - 【請求項６】 エッチングノズルを供給管に直角な線上
に配置し、該直線の間隔は大小２種の間隔からなり、大
きな間隔によってエッチングノズルからエッチング液が
噴射されない領域もしくは噴射量が少ない領域を被処理
基材の端部へと連続して形成することを特徴とする請求
項１記載のシャドウマスクの製造方法。 - 【請求項７】 エッチングノズルを供給管に傾斜して交
わる等間隔の直線上に配置し、同一の供給管上のエッチ
ングノズルの配置間隔を大きくしてエッチングノズルの
噴射されない領域もしくは噴射量が少ない領域を被処理
基材の端部へと連続して形成することを特徴とする請求
項１記載のシャドウマスクの製造方法。 - 【請求項８】 エッチングノズルを供給管に傾斜して交
わる直線上に配置し、該直線の間隔は大小２種の間隔か
らなり、大きな間隔によってエッチングノズルからエッ
チング液が噴射されない領域もしくは噴射量が少ない領
域を被処理基材の端部へと連続して形成することを特徴
とする請求項１記載のシャドウマスクの製造方法。 - 【請求項９】 エッチングノズルを両端部の供給管から
距離の等しい点から被処理基材の進行方向とは逆方向へ
斜めに延びる平行な直線と供給管の交点上であって、両
端部の供給管から距離の等しい直線に対して線対称の位
置に配置し、同一の供給管上のエッチングノズルの配置
間隔を大きくしてエッチングノズルからエッチング液の
噴射されない領域もしくは噴射量が少ない領域を被処理
基材の端部へと連続して形成することを特徴とする請求
項１記載のシャドウマスクの製造方法。 - 【請求項１０】 エッチングノズルを両端部の供給管か
ら距離の等しい点から被処理基材の進行方向とは逆方向
へ斜めに延びる平行な等間隔の直線と供給管の交点上あ
って、両端部の供給管から距離の等しい直線に対して線
対称の位置に配置し、該直線の間隔は大小２種の間隔か
らなり、大きな間隔によってエッチングノズルからエッ
チング液が噴射されない領域もしくは噴射量が少ない領
域を被処理基材の端部へと連続して形成することを特徴
とする請求項１記載のシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03067043A JP3093304B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | シャドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03067043A JP3093304B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | シャドウマスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04301336A JPH04301336A (ja) | 1992-10-23 |
| JP3093304B2 true JP3093304B2 (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=13333427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03067043A Expired - Fee Related JP3093304B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | シャドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3093304B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100943681B1 (ko) * | 2001-11-05 | 2010-02-22 | 게부르. 쉬미트 게엠베하 운트 코. | 액체를 사용하여 물체를 처리하는 방법 및 장치 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6440880B2 (en) | 1993-10-29 | 2002-08-27 | 3M Innovative Properties Company | Pressure-sensitive adhesives having microstructured surfaces |
| US6197397B1 (en) | 1996-12-31 | 2001-03-06 | 3M Innovative Properties Company | Adhesives having a microreplicated topography and methods of making and using same |
| US8323773B2 (en) | 2001-10-09 | 2012-12-04 | 3M Innovative Properties Company | Laminates with structured layers |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP03067043A patent/JP3093304B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100943681B1 (ko) * | 2001-11-05 | 2010-02-22 | 게부르. 쉬미트 게엠베하 운트 코. | 액체를 사용하여 물체를 처리하는 방법 및 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04301336A (ja) | 1992-10-23 |
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