JPS5953655B2 - エツチング法 - Google Patents

エツチング法

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Publication number
JPS5953655B2
JPS5953655B2 JP2436377A JP2436377A JPS5953655B2 JP S5953655 B2 JPS5953655 B2 JP S5953655B2 JP 2436377 A JP2436377 A JP 2436377A JP 2436377 A JP2436377 A JP 2436377A JP S5953655 B2 JPS5953655 B2 JP S5953655B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etching
strip
nozzle manifold
nozzle
iron strip
Prior art date
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Expired
Application number
JP2436377A
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English (en)
Other versions
JPS53110362A (en
Inventor
稔 根本
門出 奥村
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、カラーブラウン管用アパーチャマスクのフ
ォト・エッチング法による製造工程などに使用して好適
なエッチング法に関する。
一般にカラーブラウン管用アパーチャマスク(シヤドウ
マスク)は、フォト・エッチング法によつて製造されて
いる。
このフォト・エッチング法による製造工程は、大別して
次の4工程からなる。即ち、鉄帯に感光膜を塗布形成す
る塗布工程、鉄帯にパターンを焼付ける露光工程、パタ
ーンを現像して焼込む現像工程、及びエッチングするエ
ッチング工程である。ところで上記エッチング工程は、
従来、第1図に示すように表面に細孔を有する保護膜が
形成された鉄帯1の長手方向の中心と、エッチング槽2
a、2bの上下に配設されたノズルマニホールド群10
0a、100bの中心を一致させて、前記エッチング槽
2a、2bを連設し、前記鉄帯1を矢印の方向に水平状
態で連続に送り、第2図に示すように前記ノズルマニホ
ールド群100a、100bを前記鉄帯1の短辺方向に
ある角度(例えば150)左右に振らせ、第1図に示す
エッチング供給タンク4a、4bからエッチング液をノ
ズルマニホールド3に供給して、このノズルマニホール
ド3に取着されたノズル5からエッチング液をスプレー
し、エッチングしていた。
しかし、この従来のエッチング法では、前記鉄帯1のエ
ッチングを均一に行うため、第2図に示すように前記ノ
ズルマニホールド群100a、100bを、前記鉄帯1
の短辺方向にある角度(例えば150)左右に振らせて
エッチングしているのであるが、第3図a図に示すよう
に、前記ノズルマニホールド3の配設位置による影響で
エッチングされる孔径のバラツキが大きく、又、そのう
ねりが大きいためシヤドウマスクとしてはムラと称する
不良が出やすく、精度、品質の高いものを得ることがで
きなかつた。
この発明は上記事情に鑑みなされたもので、ノズルマニ
ホールドの配設位置による影響が従来の方法に比較して
極端に小さく、エッチングされる″孔径のバラツキが小
さくなり又、そのうねりも小さくなつてムラと称する不
良が減少し、精度、品質の高いものが得られるエッチン
グ法を提供することを目的とする。
以下、図面を参照してこの発明の一実施例を詳・細に説
明する。
従来例と同一箇所は同一符号を付すと、この発明のエッ
チング法は第4図及び第5図に示すように構成され、表
面に細孔を有する保護膜が形成された鉄帯]の短手方向
の中心と、エツチング槽2a,2bの上下に配設された
ノズルマニホールド群100a,100bの中心をAm
m交互にずらしてエツチング槽2a,2bを連設する。
そしてノズルマニホールド3は、゛前記エツチング槽、
2a,2bの中の上下にBmmの間隔で、上下5本ずつ
配設する。そして前記ノズルマニホールド3にはCmm
の間隔で千鳥形となるようにノズル5を取着する。一方
、エツチング液はエツチング液供給タンク4a,4bか
ら前記ノズルマニホールド群100a,100bにポン
プ(図示せず)で圧送し、前記ノズル5からスプレーす
る。この場合、前記ノズルマニホールド群100a,1
00bは第5図A,b図に示すように、駆動部(図示せ
ず)により前記鉄帯1の短辺方向にある角度(例えば1
5゜)左右に連続で振らせる。この発明のエツチング法
は、上記説明及び図示のように構成され、前記鉄帯1は
ドライブ(図示せず)により矢印の方向に水平状態で連
続に送りエツチングするので、前記ノズルマニホールド
群100a,100bの位置による影響が小さく、ムラ
と称する不良が減少し、品質の高いシヤドウマスクが得
られる。実際にこの発明の方法でエツチングしたものは
、第3図a図、第3図b図で示すうねりDは従来の方式
の1/2以下となつている。又、ムラと称する不良もほ
とんど発生していない。即ち、従来とこの発明における
プリツジのバラツキ、スリツト巾のバラツキを示すと下
表のようになり、明らかにこの発明の優れていることが
判る。更にこの発明では、上記効果の他に次のような付
随的効果もある。
即ち従来、鉄板巾460mmと543mmが使用されて
いて鉄帯の蛇行を防止するため鉄帯のサイドで蛇行を検
出し、コントロールしている。そして第6図は従来の方
法を示しているが、この第6図は第2図の一部を取出し
たもので゛、同一箇所は同一符号を付してある。図示の
ように鉄板巾543mmの鉄帯1aの短手方向のセンタ
ーをノズルマニホールド3Cに合わせる。そして蛇行検
出を鉄帯1aのサイド101で行うようにする。すると
鉄帯1aはほぼ均一にエツチングされる。ところが鉄板
巾460mmの鉄帯1bを第6図に示すように、蛇行検
出を鉄板1aと同じところで行うとすると、鉄帯1bの
短手方向のセンターに対してノズルマニホールド3は対
称でなくなり、エツチングは均一にされない。そのため
に従来、鉄板巾460mmのときは第6図に示すように
鉄帯を1b″にし、蛇行検出をずらしていた。そうする
ことにより均一なエツチングを行つていた。しかし装置
全体では、蛇行検出装置が数多く取付けているため、鉄
板巾変更のときは機械を停止させ蛇行検出装置を移動さ
せる労力は大変であり、また機械の稼動率を低下させる
ことにもなつていた。しかしこの発明の方法にすると、
上記の欠点は解決される。即ち、第7図は第5図のaと
bを組合せたもので、同一箇所は同一符号を付している
が、3a,3b・・・3eはエツチング槽2aのノズル
マニホールド3の配置を示す。3a″, 3b″・・・
3e″はエツチング槽2bのノズルマニホールド3の配
置を示している。
そして例えば、鉄板巾543mmの鉄帯1aの短手方向
のセンターをエツチング槽2aのノズルマニホールド3
Cに合わせる。そして蛇行検出を鉄帯1aのサイド10
1で行うようにする。エツチング槽2aではノズルマニ
ホールド3a,3b・・・3eの全部からスプレーし、
エツチング槽2bでは、ノズルマニホールド3a″のみ
スプレーしないで、他のノズルマニホールド3b″,3
C″・・・3e″からスプレーする。すると鉄帯1aは
均一にエツチングされる。鉄板巾460mmの鉄板1b
も第7図に示すように、蛇行検出装置を移動させないで
、鉄板1aと同じところで蛇行検出をする。そしてエツ
チングは、エツチング槽2aではノズルマニホールド3
aのみスプレーしないで他のノズルマニホールド3b,
3c・・・3eからスプレーし、エツチング槽2bでも
ノズルマニホールド3a″のみスプレーしないで、他の
ノズルマニホールド3b″,3d・・・3e″からスプ
レーする。すると鉄帯1bも均一にエツチングされる。
このように鉄板巾が変更しても、機械を停止させること
なく、又、蛇行検出装置を移動させることがないので、
それらの労力が必要なく、機械の稼動率を低下させるこ
ともない。ここでは鉄板巾543mn1と460mmの
場合について述べたが、ノズルマニホールド間隔Bの約
1/2の整数倍鉄板巾が変化した場合でも同じ効果が得
られる。尚、次にこの発明のA.B.C寸法の一実施例
を述べる。
A=37.5mm.B=150mm.C=200mmそ
してこの発明の上記効果を得るには、表面に細孔を有す
る保護膜が形成された鉄帯1から、ノズル5までの距離
を大きくとつてノズルマニホールド群100a,100
bをエツチング槽2a,2bの中の上下に配設するとか
、ノズルマニホールド3間隔をできるだけ小さくして、
ノズルマニホールド群100a,]00bをエツチング
2a,2bの中の上下に配設する方法があるが、前記鉄
帯1にあたるスプレー圧(液圧)が弱くなつて、エツチ
ング能力が低下したり、前記鉄帯1の表面にエツチング
液の液だまりができてエツチング能力が低下するという
ような欠点がある。
又、この発明の一実施例では、カラーブラウン管用アパ
ーチヤマスク(シヤドウマスク)の製造について説明し
てあるが、メツシユ、その他のエツチングにも利用する
ことができる。更にエツチング槽を2つで説明してある
がいくつでもよい。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のエツチング法を示す平面図、第2図は第
1図のE,F線に沿つて切断し矢印方向に見た断面図、
第3図a図は従来の方法でエッチング化たときのシヤド
ウマスクの孔径と距離の関係を示す図、第3図b図はこ
の発明の方法でエツチングしたときのシヤドウマスクの
孔径と距離の関係を示す図、第4図はこの発明の一実施
例に係るエツチング法を示す平面図、第5図a図は第4
図のG,H線に沿つて切断し矢印方向に見た断面図、第
5図b図は第4図のI,J線に沿つて切断し矢印方向に
見た断面図、第6図及び第7図はこの発明の効果を説明
するために用いるもので゛、第6図は第2図の一部を取
出して示した断面図、第7図は第5図のA,bを組合せ
た断面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 表面に細孔を有する保護膜が形成された帯状体を、
    エッチング槽内に水平状態で連続に送りつつエッチング
    を行なうエッチング法において、前記帯状体の短手方向
    の中心と、前記エッチング槽の上下に配設されたノズル
    マニホールド群の中心が、ずれるように前記エッチング
    槽を配設し、帯状体のエッチングを均一に行なうことを
    特徴とするエッチング法。
JP2436377A 1977-03-08 1977-03-08 エツチング法 Expired JPS5953655B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2436377A JPS5953655B2 (ja) 1977-03-08 1977-03-08 エツチング法

Applications Claiming Priority (1)

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JP2436377A JPS5953655B2 (ja) 1977-03-08 1977-03-08 エツチング法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS53110362A JPS53110362A (en) 1978-09-27
JPS5953655B2 true JPS5953655B2 (ja) 1984-12-26

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