JPH01197363A - 黒鉛製部材の清浄化処理方法 - Google Patents
黒鉛製部材の清浄化処理方法Info
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- JPH01197363A JPH01197363A JP63021700A JP2170088A JPH01197363A JP H01197363 A JPH01197363 A JP H01197363A JP 63021700 A JP63021700 A JP 63021700A JP 2170088 A JP2170088 A JP 2170088A JP H01197363 A JPH01197363 A JP H01197363A
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 68
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims abstract description 58
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 58
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 21
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000011148 porous material Substances 0.000 abstract description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 abstract 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 46
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 238000005108 dry cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は黒鉛製部材の清浄化処理方法に係り、特に乾式
洗浄法により、黒鉛製部材を清浄化することがで台る処
理方法に関する。
洗浄法により、黒鉛製部材を清浄化することがで台る処
理方法に関する。
［従来の技術］
半導体エピタキシャル成長炉に用いられるサセプタ等の
半導体部材としては、耐熱安定性、その他の高特性を具
備することから、高純度黒鉛製もしくはセラミックコー
ティングされた黒鉛部材が多く用いられている。
半導体部材としては、耐熱安定性、その他の高特性を具
備することから、高純度黒鉛製もしくはセラミックコー
ティングされた黒鉛部材が多く用いられている。
高純度黒鉛製もしくはセラミックコーティングされた黒
鉛部材の半導体部材は、通常、高純度黒鉛塊を機械加工
して所望の形状とした後、部材表面に残存する黒鉛の切
削粉等を除去するために、フロンや純水等を用いて超音
波洗浄を行なって製品とされている。
鉛部材の半導体部材は、通常、高純度黒鉛塊を機械加工
して所望の形状とした後、部材表面に残存する黒鉛の切
削粉等を除去するために、フロンや純水等を用いて超音
波洗浄を行なって製品とされている。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、従来のフロンや純水を用いる湿式洗浄法
では、洗浄液分が黒鉛の内部気孔に閉じ込められ、部材
の使用時にこれがガス化して悪影響を及ぼすなどの問題
が生起していた。
では、洗浄液分が黒鉛の内部気孔に閉じ込められ、部材
の使用時にこれがガス化して悪影響を及ぼすなどの問題
が生起していた。
この湿式洗浄において気孔内に封じ込められた洗浄液分
は、洗浄後１０００℃程度に加熱処理しても充分抜けき
らず、ガス化による問題を解決することはできない。
は、洗浄後１０００℃程度に加熱処理しても充分抜けき
らず、ガス化による問題を解決することはできない。
［Ｂ題を解決するための手段］
本発明は上記従来の湿式洗浄による問題点を解決し、い
わば乾式洗浄により黒鉛製部材を清浄化する方法を提供
するものである。
わば乾式洗浄により黒鉛製部材を清浄化する方法を提供
するものである。
本発明の黒鉛製部材の清浄化処理方法は、黒鉛製部材を
清浄化ガスでブローした後、３００〜１８００℃の温度
範囲で酸化性ガスと接触させて黒鉛微粉を反応除去し、
次いで再度清浄化ガスで洗浄することを特徴とする。
清浄化ガスでブローした後、３００〜１８００℃の温度
範囲で酸化性ガスと接触させて黒鉛微粉を反応除去し、
次いで再度清浄化ガスで洗浄することを特徴とする。
［作用］
本発明において、黒鉛製部材を清浄化ガスでブローする
ことにより、黒鉛製部材表面に付着する黒鉛の切削粉等
の粉体の多くが除去される。
ことにより、黒鉛製部材表面に付着する黒鉛の切削粉等
の粉体の多くが除去される。
次いで、黒鉛製部材を３００〜１８００℃の温度範囲で
酸化性ガスと接触させることにより、上記清浄化ガスの
ブローでは除去されない、黒鉛製部材表面に比較的強固
に付着している黒鉛微粉や、黒鉛の気孔内部に入り込ん
でいる黒鉛微粉等がこの酸化性ガスと反応し、黒鉛微粉
は反応生成物のガスとして黒鉛製部材表面から放散され
る。
酸化性ガスと接触させることにより、上記清浄化ガスの
ブローでは除去されない、黒鉛製部材表面に比較的強固
に付着している黒鉛微粉や、黒鉛の気孔内部に入り込ん
でいる黒鉛微粉等がこの酸化性ガスと反応し、黒鉛微粉
は反応生成物のガスとして黒鉛製部材表面から放散され
る。
更に、この黒鉛製部材を再度清浄化ガスで洗浄すること
により、残存する酸化性ガスや反応生成物のガスが完全
に取り除かれ、極めて清浄で実使用時において有害な放
出ガスが殆どない高純度黒鉛製部材が得られる。
により、残存する酸化性ガスや反応生成物のガスが完全
に取り除かれ、極めて清浄で実使用時において有害な放
出ガスが殆どない高純度黒鉛製部材が得られる。
こうした洗浄化処理方法は、黒鉛微粉を除去できるばか
りではなく、黒鉛表面の平滑化にも効果がある。
りではなく、黒鉛表面の平滑化にも効果がある。
［実施例］
以下、実施例について説明する。
本発明の方法においては、まず、黒鉛塊の切削加工等で
製造された黒鉛製部材を清浄化ガスでブローする。この
場合、清浄化ガスとしては、Ｎ２％ ８２％ Ｈｅ％Ａ
ｒ等の非酸化性ガス等を用いることができるが、これら
に限定されるものではない、清浄化ガスのブローは、適
当なノズルから、黒鉛製部材の表面に向けて高圧ガスを
噴き付けるなどの方法で行なうことができる。これによ
り、黒鉛製部材表面に付着した黒鉛、その他の粉体の多
くを除去することができる。
製造された黒鉛製部材を清浄化ガスでブローする。この
場合、清浄化ガスとしては、Ｎ２％ ８２％ Ｈｅ％Ａ
ｒ等の非酸化性ガス等を用いることができるが、これら
に限定されるものではない、清浄化ガスのブローは、適
当なノズルから、黒鉛製部材の表面に向けて高圧ガスを
噴き付けるなどの方法で行なうことができる。これによ
り、黒鉛製部材表面に付着した黒鉛、その他の粉体の多
くを除去することができる。
次いで、清浄化ガスでブローした黒鉛製部材を３００〜
１８００℃の温度範囲で酸化性ガスと接触させる。これ
により、上記清浄化ガスのブローでは除去されない、黒
鉛製部材表面に比較的強固に付着している黒鉛微粉や、
黒鉛の気孔内部に入り込んでいる黒鉛微粉等がこの酸化
性ガスと反応し、黒鉛微粉は反応生成物のガスとして黒
鉛製部オオ表面から放散される。
１８００℃の温度範囲で酸化性ガスと接触させる。これ
により、上記清浄化ガスのブローでは除去されない、黒
鉛製部材表面に比較的強固に付着している黒鉛微粉や、
黒鉛の気孔内部に入り込んでいる黒鉛微粉等がこの酸化
性ガスと反応し、黒鉛微粉は反応生成物のガスとして黒
鉛製部オオ表面から放散される。
即ち、例えば、酸化性ガスとしてＨｃ１ガスを用いた場
合には、黒鉛微粉は、 Ｃ＋４ＨＣぶ→ＣＣＪｌ＊ ｔ＋２Ｈ２ｔなる反応でガ
ス化して黒鉛製部材表面から放散される。
合には、黒鉛微粉は、 Ｃ＋４ＨＣぶ→ＣＣＪｌ＊ ｔ＋２Ｈ２ｔなる反応でガ
ス化して黒鉛製部材表面から放散される。
本発明において、酸化性ガスとしては、炭素を酸化して
ガス状炭素化合物を生成するものであれば良いが、ｏ２
を多量に含むガスであると高温処理により燃焼してしま
う可能性もあるので、このような燃焼性のガスを用いる
場合には、適当な不活性ガスでこれを希釈して用いるの
が好ましい。
ガス状炭素化合物を生成するものであれば良いが、ｏ２
を多量に含むガスであると高温処理により燃焼してしま
う可能性もあるので、このような燃焼性のガスを用いる
場合には、適当な不活性ガスでこれを希釈して用いるの
が好ましい。
この酸化性ガスによる処理において、酸化性ガスの濃度
、処理温度、処理時間等の処理条件は、黒鉛製部材の形
状や付着している黒鉛微粉の量等に応じて、黒鉛微粉が
完全かつ確実に反応除去されるように設定される。酸素
プラズマ中にて酸化を行なうと、処理温度が３００〜５
００℃程度の低温で酸化反応が進行する。
、処理温度、処理時間等の処理条件は、黒鉛製部材の形
状や付着している黒鉛微粉の量等に応じて、黒鉛微粉が
完全かつ確実に反応除去されるように設定される。酸素
プラズマ中にて酸化を行なうと、処理温度が３００〜５
００℃程度の低温で酸化反応が進行する。
このようにして黒鉛微粉を反応除去した黒鉛製部材は、
次いで再度Ｎ２、Ｎ２、Ｈｅ、Ａｒ等の清浄化ガスで洗
浄して、黒鉛製部材表面や気孔内に残存する酸化性ガス
や黒鉛と酸化性ガスとの反応生成ガスを完全に除去する
。なお、この場合の清浄化ガスとしては、黒鉛製部材の
使用目的に応じて、使用時に悪影響を及ぼすことのない
ガスを用いる０例えば、ＣＶＯプロセスにおいて用いる
黒鉛製部材であれば、清浄化ガスとしては、Ｎ２、Ｎ２
、Ｈｅ％Ａｒを用いるのが好ましい。
次いで再度Ｎ２、Ｎ２、Ｈｅ、Ａｒ等の清浄化ガスで洗
浄して、黒鉛製部材表面や気孔内に残存する酸化性ガス
や黒鉛と酸化性ガスとの反応生成ガスを完全に除去する
。なお、この場合の清浄化ガスとしては、黒鉛製部材の
使用目的に応じて、使用時に悪影響を及ぼすことのない
ガスを用いる０例えば、ＣＶＯプロセスにおいて用いる
黒鉛製部材であれば、清浄化ガスとしては、Ｎ２、Ｎ２
、Ｈｅ％Ａｒを用いるのが好ましい。
その他の用途に用いる黒鉛製部材であれば、他の清浄化
ガスも採用可能である。
ガスも採用可能である。
このような本発明の方法では、清浄化に際し、液体成分
を全く用いず、ガス成分のみで処理を行なえるので、従
来の湿式洗浄による有害なガス発生の問題が解消される
。
を全く用いず、ガス成分のみで処理を行なえるので、従
来の湿式洗浄による有害なガス発生の問題が解消される
。
本発明の方法は、半導体拡散炉のボート、チューブ等の
半導体部材の他、ＣＶＤ用黒鉛製部材、例えばエピタキ
シャル成長用サセプタ等に用いる黒鉛製部材にも有効に
適用することができ、極めて高清浄な高純度黒鉛製部材
を得ることができる。
半導体部材の他、ＣＶＤ用黒鉛製部材、例えばエピタキ
シャル成長用サセプタ等に用いる黒鉛製部材にも有効に
適用することができ、極めて高清浄な高純度黒鉛製部材
を得ることができる。
［発明の効果］
以上詳述した通り、本発明の黒鉛製部材の清浄化処理方
法は、黒鉛製部材を清浄化ガスでブローした後、３００
〜１８００℃の温度範囲で酸化性ガスと接触させて黒鉛
微粉を反応除去し、次いで再度清浄化ガスで洗浄するも
のであって、従来の湿式洗浄のように洗浄液を用いるこ
となく、黒鉛製部材表面や気孔内に付着する黒鉛微粉を
反応生成ガスとして、化学的な乾式洗浄により除去でき
るものである。このため、従来の問題点を解決し、実使
用時に不純物混入等の恐れのない、高清浄で高純度の黒
鉛製部材を提供することができる。
法は、黒鉛製部材を清浄化ガスでブローした後、３００
〜１８００℃の温度範囲で酸化性ガスと接触させて黒鉛
微粉を反応除去し、次いで再度清浄化ガスで洗浄するも
のであって、従来の湿式洗浄のように洗浄液を用いるこ
となく、黒鉛製部材表面や気孔内に付着する黒鉛微粉を
反応生成ガスとして、化学的な乾式洗浄により除去でき
るものである。このため、従来の問題点を解決し、実使
用時に不純物混入等の恐れのない、高清浄で高純度の黒
鉛製部材を提供することができる。
Claims (1)
- （１）黒鉛製部材を清浄化ガスでブローした後、３００
〜１８００℃の温度範囲で酸化性ガスと接触させて黒鉛
微粉を反応除去し、次いで再度清浄化ガスで洗浄するこ
とを特徴とする黒鉛製部材の清浄化処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63021700A JPH07106941B2 (ja) | 1988-02-01 | 1988-02-01 | 黒鉛製部材の清浄化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63021700A JPH07106941B2 (ja) | 1988-02-01 | 1988-02-01 | 黒鉛製部材の清浄化処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01197363A true JPH01197363A (ja) | 1989-08-09 |
| JPH07106941B2 JPH07106941B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=12062339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63021700A Expired - Lifetime JPH07106941B2 (ja) | 1988-02-01 | 1988-02-01 | 黒鉛製部材の清浄化処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07106941B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006232669A (ja) * | 2000-12-18 | 2006-09-07 | Toyo Tanso Kk | 低窒素濃度黒鉛材料、低窒素濃度炭素繊維強化炭素複合材料、低窒素濃度膨張黒鉛シート |
| JP2010248072A (ja) * | 2000-12-18 | 2010-11-04 | Toyo Tanso Kk | 低窒素濃度黒鉛材料、及び、その保管方法 |
| JP2011524634A (ja) * | 2008-06-09 | 2011-09-01 | ポコ グラファイト、インコーポレイテッド | サブアパーチャ反応性原子エッチングを用いて構成部品を前処理することによって、半導体製造ユニットにおける生産量を高めると共にダウンタイムを減らす方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5884181A (ja) * | 1981-11-11 | 1983-05-20 | 松下電器産業株式会社 | カ−ボン部材の純化処理方法 |
-
1988
- 1988-02-01 JP JP63021700A patent/JPH07106941B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5884181A (ja) * | 1981-11-11 | 1983-05-20 | 松下電器産業株式会社 | カ−ボン部材の純化処理方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006232669A (ja) * | 2000-12-18 | 2006-09-07 | Toyo Tanso Kk | 低窒素濃度黒鉛材料、低窒素濃度炭素繊維強化炭素複合材料、低窒素濃度膨張黒鉛シート |
| JP2010248072A (ja) * | 2000-12-18 | 2010-11-04 | Toyo Tanso Kk | 低窒素濃度黒鉛材料、及び、その保管方法 |
| JP2011524634A (ja) * | 2008-06-09 | 2011-09-01 | ポコ グラファイト、インコーポレイテッド | サブアパーチャ反応性原子エッチングを用いて構成部品を前処理することによって、半導体製造ユニットにおける生産量を高めると共にダウンタイムを減らす方法 |
| US8721906B2 (en) | 2008-06-09 | 2014-05-13 | Poco Graphite, Inc. | Method to increase yield and reduce down time in semiconductor fabrication units by preconditioning components using sub-aperture reactive atom etch |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07106941B2 (ja) | 1995-11-15 |
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