JPH01189656A - パターン転写装置 - Google Patents

パターン転写装置

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JPH01189656A
JPH01189656A JP63014274A JP1427488A JPH01189656A JP H01189656 A JPH01189656 A JP H01189656A JP 63014274 A JP63014274 A JP 63014274A JP 1427488 A JP1427488 A JP 1427488A JP H01189656 A JPH01189656 A JP H01189656A
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JP
Japan
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pattern
original plate
light
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film
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Pending
Application number
JP63014274A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Horie
堀江 秀雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH01189656A publication Critical patent/JPH01189656A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C17/00Sliding-contact bearings for exclusively rotary movement
    • F16C17/02Sliding-contact bearings for exclusively rotary movement for radial load only
    • F16C17/026Sliding-contact bearings for exclusively rotary movement for radial load only with helical grooves in the bearing surface to generate hydrodynamic pressure, e.g. herringbone grooves

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Sliding-Contact Bearings (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し産業上の利用分野] 本発明は、被転写部材の曲面にパターンを転写するパタ
ーン転写装置に関する。
[発明の概要] 本発明は、パターン原板を移動する原板移動手段と、前
記パターン原板に投光する投光手段と、前記パターン原
板の透過光が照射する被転写部材を回転する回転手段と
、前記原板移動手段と前記回動手段との移動を相互に関
連させて制御する駆動制御手段とを備えることにより、 被転写部材に対し非接触な手段でパターン転写を行うと
共にパターン原板の移動と被転写部材の移動を自由に制
御できるため、被転写部材に接触させてパターン転写を
行うことによるパターンずれや歪み等の不具合がなく正
確かつ精密なパターン転写を行うことができるムのであ
る。
[従来の技術] 曲面を有する被転写部材、例えば回転軸の円筒面にパタ
ーンを転写する技術としては、従来柱々のものが知られ
ている。
この種の−の技術としては、第2図に示すように、回転
軸19の円筒面+9aに感光剤を塗布した後に、パター
ンの透光部30λを有するパターンフィルム30(パタ
ーン原板)を直に巻き付け、周囲の光源31より光線を
照射して円筒面+9aにパターンを転写するものがある
また、他の技術としては、第3図に示すように、パター
ンの凸部32aを有する画板32(パターン原板)にイ
ンクローラ(図示せず)を転がして凸部32aにインク
を塗布し、このインクを塗布した画板32に回転軸1つ
を転がすことにより円筒面19λにパターンを転写する
ものがある。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、前者のものは、回転軸19やパターンフ
ィルム30の寸法誤差、巻き付けの不具合、熱膨張等の
原因によって巻き初めと巻き終りの接続を正確に行うこ
とは非常に困難である。そのため、第2図に示すように
パターンフィルム30の巻き初めと巻き終りが重なり合
い、又は離れてしまいパターンずれが生ずるという欠点
がある。
また、後者のものは、面板32−ヒをインクローラ(図
示せず)で転がすためインクローラの抑圧力で凸部32
aが変形するおそれがある。そのため、パターンか変形
したものになったり、インクのにじみが生じたりする欠
点がある。
そこで、本考案はパターン原板を被転写部材に接触させ
てパターン転写することに基因する上述の不具合を解消
し、正確かつ精密なパターン転写を行うことができるパ
ターン転写装置を提供することを目的とする。
[課題を解決するだめの手段] 上記目的を達成するための本発明のパターン転写装置は
、透光部と不透光部からパターンが構成されたパターン
原板を有し、このパターン原板を直線的に移動する原板
移動手段と、光源を有し、この光源の光を前記パターン
原板に投光しパターン原板の透光部を透過した光を被転
写部材に照射する投光手段と、前記被転写部材を回転す
る回動手段と、前記原板移動手段と前記回動手段との移
動を相互に関連さゼて制御する駆動制御手段とを備えた
ものである。
[作用] 投光手段によってパターン原板を透過した光が被転写部
材に照射される。そして、パターン原板が原板移動手段
によって直線的に移動されるため、透光部又は不透光部
で構成のパターンが順々に被転写部材に写し出される。
一方、これと同時に被転写部材が回動手段で回転される
ため順々に別の位置にパターンが写し出されパターン原
板のパターンに対応するパターンが被転写部材に転写さ
れる。パターン原板の移動と被転写部材の回動は駆動制
御手段で制御するので、パターン原板や被転写部材の寸
法誤差、熱膨張等を考慮して制御可能である。
[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。
この実施例は、動圧軸受の軸構造に用いるヘリングボー
ンの溝形状を回転軸の円筒面にパターン転写する場合を
示す。
第1図において、原板移動手段lは、パターン〜4− 原板であるパターンフィルム2を直線方向(へ方向)に
移動するもので、取イマ1台3には二本のスライド軸4
が並設されていると共にこのスライド軸4に平行にボー
ルネジ5が回転自在に支持されている。このボールネジ
5の一端はカップリング6を介してパルスモータ7の回
転軸7aに連結されている。スライド基台8には、二本
の平行なスライド孔9と雌ネジ部10が形成されており
、スライド孔9に前記スライド軸4が挿通され叶ネジ部
lOに前記ボールネジ5が螺入されている。このスライ
ド基台8の上面には取付部材11によってフィルムホル
ダ12が取イ」けられている。このフィルムホルダ12
は長方形の枠体で、この枠体内にパターン原板であるパ
ターンフィルム2が張設されている。このパターンフィ
ルム2は切り抜かれて形成の透光部2aとそうでない部
分の不透光部2bからヘリングボーンのパターンが構成
されている。このパターンフィルム2に投光手段13に
よる光が投光される。
投光手段13は、光を前記パターンフィルム2に投光し
パターンフィルム2の透光部2aを透過した光を被転写
部材である回転軸19に照射するものて、光源(図示せ
ず)、14と光源レンズ15とスリット板16と対物レ
ンズ17とが一直線上に設(ジられで成る。光源(図示
せず)、I4は、通常光を発するものと紫外線を発する
ものとの二種類のものが備えられ、双方の光源(図示せ
ず)、14は投光位置と準備位置に選択的に変換できる
よう構成されている。前記光源レンズ15は、光源(図
示せず)、14からの光を平行光線に変換するもので、
光軸(B方向)に移動可能に構成されている。光源レン
ズ15には、例えばコンデンサレンズの凸レンズやソリ
ントリカルレンズが用いられる。前記スリット板16は
図示しない装置本体に固定され前記パターンフィルム2
の前面側でパターンフィルム2に近接しかつ平行に配置
されている。このスリット板16には前記スライド基台
8の移動方向に対し垂直方向に延びるスリット16aが
形成されている。前記対物レンズ17は前記パターンフ
ィルム2の透光部2aを透過した光線により回転軸1つ
上に結像させるもので、光軸の方向(B方向)に移動可
能に構成されている。
回動手段I8は、被転写部材である回転軸19を回転す
るもので、回転軸19はその軸線を前記スリット板16
のスリット16a方向に合わせて支持されている。する
と、転写箇所である円筒面19aの直線面と光線の軸C
が一致する。回転軸19の一端には小径の軸20が延設
されこの軸20とパルスモータ21の回転軸2]aとが
カップリング22を介して連結されている。
駆動制御手段23は、前記原板移動手段1のパルスモー
タ7と前記回動手段18のパルスモータ21とを駆動制
御し、双方の移動を関連させて制御する。駆動制御手段
23は、駆動制御回路24を有し、この駆動制御回路2
4には電源回路25から電源か供給されていると共に発
振回路26からクロックパルスが供給されている。駆動
制御回路24. !;l: 、このクロックパルスに基
づいて双方のパルスモータ7.21に出力するモータ駆
動パルスを制御する。本実施例の場合には、例えば回転
軸19の直径をd、その角速度をθrad/secとす
ると、パターンフィルム2の移動量をθ・d/2の関係
て初期設定される。この設定に際してパターンフィルム
2等の寸法誤差や熱膨張を考慮する。
以下、上記構成の作用を説明する。
先ず、回転軸19の円筒面+9aに感光剤を塗布する。
感光剤は通常光に反応せず紫外線に反応するものを用い
る。この感光剤を塗布した回転軸19の小径の軸20を
カップリング22を用いてパルスモータ21の回転軸2
1aに連結する。又、転写するパターンが構成されたパ
ターンフィルム2をフィルムホルダ12に取り付け、更
にこのフィルムホルダ12を取付部材11でスライド基
台8に取りイ」(プる。
次に、通常光の光源(図示せず)を投光位置に位置させ
、光源レンズ15と対物レンズ17をB方向に変位させ
てパターン像の焦点調整を行う。
焦点調整が終了すると、スライド基台8を原点位置に設
定すると共に紫外線の光源14を投光位置に位置させる
。そして、駆動制御手段23を駆動さ什ると共に光源1
4に電圧を印加する。
すると、光源14からの紫外線が光源レンズI5で平行
光線にされこの平行光線はスリット16aを通過するも
ののみがパターンフィルト2に投光される。パターンフ
ィルム2に投光された平行光線は透光部2aを通過する
もののみが対物レンズ17に送られてパターン像が回転
軸19の円筒面19aに結像される。円筒面19aは紫
外線が照射された箇所のみが露光される。一方、駆動制
御手段23の駆動により双方のパルスモータ7.21に
それぞれ所定のモータ駆動パルスが送出される。原板移
動手段1のパルスモータ7が駆動すると、ボールネジ5
が回転しこのボールネジ5のピッチ分だけスライド基台
8が移動してパターンフィルム2ら移動する。すると、
スリット6aに対向するパターンフィルム2の箇所が序
々に移動し回転軸19の円筒面+9aに結像されるパタ
ーン像が順々に変化する。また、これと同時に回動手段
18のパルスモータ21が駆動すると、回転軸19が回
転してその円筒面19aに写されるパターン像が順々に
円筒面19aの列の位置に写され、パターンフィルム2
のパターン(’111部光 a (D 形状)に対応す
るパターンが回転軸19に転写される。
このパターン転写工程においては、被転写部材である回
転軸19にはパターン原板であるパターンフィルム2が
接触されることがなく、且つ、パターンフィルム2と回
転軸19の相互の移動は寸法誤差や熱膨張が考慮された
状態で行われるため、常に正確かつ精密に行われる。
パターン転写が全て完了すると、回転軸19を取り外し
有機溶剤等で感光剤を除去し通常のエツチングプロセス
に移行する。
尚、この実施例では光源レンズ15と対物レンズ17と
を光軸方向(B方向)に移動可能に構成したので、被転
写部材に写されるパターン像の大きさを可変できる利点
を有する。
[発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、パターン原板を移動
する原板移動手段と、前記パターン原板に投光する投光
手段と、前記パターン原板の透過光が照射する被転写部
材を回転する回転手段と、前記原板移動手段と前記回動
手段との移動を相互に関連させて制御する駆動制御手段
とから構成したのて、パターン原板と被転写部材とを接
触させてパターン転写することに基因するパターンずれ
や歪み等が発生せず、正確かつ精密なパターン転写を行
うことができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示すパターン転写装置の構成
図、第2図は従来例を示す斜視図、第3図は他の従来例
を示す斜視図である。 1・・・原板移動手段、2.30・パターンフィルム(
パターン原板)、2a、30a  透光部、21)不透
光部、13・投光手段、14・・・光源、18−回動手
段、19・回転軸(被転写部材)、23・駆動制御手段

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)透光部と不透光部からパターンが構成されたパタ
    ーン原板を有し、このパターン原板を直線的に移動する
    原板移動手段と、 光源を有し、この光源の光を前記パターン原板に投光し
    パターン原板の透光部を透過した光を被転写部材に照射
    する投光手段と、 前記被転写部材を回転する回動手段と、 前記原板移動手段と前記回動手段との移動を相互に関連
    させて制御する駆動制御手段と、を備えたことを特徴と
    するパターン転写装置。
JP63014274A 1988-01-25 1988-01-25 パターン転写装置 Pending JPH01189656A (ja)

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JP63014274A JPH01189656A (ja) 1988-01-25 1988-01-25 パターン転写装置

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JP63014274A JPH01189656A (ja) 1988-01-25 1988-01-25 パターン転写装置

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JPH01189656A true JPH01189656A (ja) 1989-07-28

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006053337A (ja) * 2004-08-11 2006-02-23 Fujitsu Ltd フォトマスク装置、フォトマスク製造方法およびマスクパターン形成方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4913669A (ja) * 1972-05-19 1974-02-06
JPS52111432A (en) * 1976-03-16 1977-09-19 Pilot Precision Exposing method in photooetching

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