JPH01182906A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH01182906A JPH01182906A JP63006412A JP641288A JPH01182906A JP H01182906 A JPH01182906 A JP H01182906A JP 63006412 A JP63006412 A JP 63006412A JP 641288 A JP641288 A JP 641288A JP H01182906 A JPH01182906 A JP H01182906A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、フェライトからなる一対のハーフコアの突合
せ面に、この突合せ面に対して傾斜した薄膜付着溝を形
成し、この薄膜付着溝に付着させた金属磁性膜の接合面
を磁気ギャップとするタイプの磁気ヘッドに関する。
せ面に、この突合せ面に対して傾斜した薄膜付着溝を形
成し、この薄膜付着溝に付着させた金属磁性膜の接合面
を磁気ギャップとするタイプの磁気ヘッドに関する。
金属磁性膜と磁気ギャップとが傾斜しているタイプの磁
気へラドコアとして、従来では、第8図に示すものが提
案されている。すなわち、単結晶フェライトからなる一
対のハーフコアItの突合せ面には、それぞれ形成すべ
き磁気ギャップ12に対し傾斜した薄膜付着溝13が上
下関係を逆にして形成されており、この薄膜付着溝13
に、スパッタリング、蒸着等の薄膜形成手段により、セ
ンダスト等の金属磁性膜14が付着されている。
気へラドコアとして、従来では、第8図に示すものが提
案されている。すなわち、単結晶フェライトからなる一
対のハーフコアItの突合せ面には、それぞれ形成すべ
き磁気ギャップ12に対し傾斜した薄膜付着溝13が上
下関係を逆にして形成されており、この薄膜付着溝13
に、スパッタリング、蒸着等の薄膜形成手段により、セ
ンダスト等の金属磁性膜14が付着されている。
さらに、ハーフコア11の突合せ面で該コア11の両側
には、トラック幅規制溝15が磁気ギャップ12の中央
に対して点対称関係に形成されている。このトラック幅
規制@15は、薄膜付着溝13の突合せ面寄りの一端を
切り欠くように配置されている。磁気ギャップ12は、
薄膜付着溝13に付着形成された金属磁性膜14の端面
間の空隙に形成されている。そして、はぼV字状奔なす
金属磁性膜14の空間とトラック幅規制溝15の空間に
は、ガラス等の非磁性酸化物接合材料(以下、単にガラ
スという)16が充填され、一対のハーフコア11が接
合固着されている。なお、一方のハーフコア11にはコ
イル巻線孔17が形成されている。ここでハーフコア1
1として単結晶フェライトを用いる理由は、単結晶フェ
ライトは機械的特性にすぐれており、耐摩耗性を有して
いることから、単結晶フェライトを用いた磁気へラドコ
アはトラック加工を高精度に形成し得、長時間の使用に
も十分耐えるものとなるからである。
には、トラック幅規制溝15が磁気ギャップ12の中央
に対して点対称関係に形成されている。このトラック幅
規制@15は、薄膜付着溝13の突合せ面寄りの一端を
切り欠くように配置されている。磁気ギャップ12は、
薄膜付着溝13に付着形成された金属磁性膜14の端面
間の空隙に形成されている。そして、はぼV字状奔なす
金属磁性膜14の空間とトラック幅規制溝15の空間に
は、ガラス等の非磁性酸化物接合材料(以下、単にガラ
スという)16が充填され、一対のハーフコア11が接
合固着されている。なお、一方のハーフコア11にはコ
イル巻線孔17が形成されている。ここでハーフコア1
1として単結晶フェライトを用いる理由は、単結晶フェ
ライトは機械的特性にすぐれており、耐摩耗性を有して
いることから、単結晶フェライトを用いた磁気へラドコ
アはトラック加工を高精度に形成し得、長時間の使用に
も十分耐えるものとなるからである。
ところが、単結晶フェライトでコアを形成したフェライ
ト磁気ヘッドは、単結晶フェライト特有の雑音を発生す
る。従って、最近の高品位ビデオテープレコーダ用の映
像用の磁気ヘッドとしてはS/N比(信号雑音比)が低
いことが問題となって来た。この雑音発生の原因は、磁
性体が単結晶材料からなる場合には、磁化に際しての磁
区固定要素がきわめて少なく磁壁移動が容易に起ってし
まう結果であるといわれている。
ト磁気ヘッドは、単結晶フェライト特有の雑音を発生す
る。従って、最近の高品位ビデオテープレコーダ用の映
像用の磁気ヘッドとしてはS/N比(信号雑音比)が低
いことが問題となって来た。この雑音発生の原因は、磁
性体が単結晶材料からなる場合には、磁化に際しての磁
区固定要素がきわめて少なく磁壁移動が容易に起ってし
まう結果であるといわれている。
一方、多結晶フェライトをコアとして用いたものは、磁
性体が多結晶材料であることから結晶粒界を有しており
、これが磁区を固定する要素として働くので単結晶フェ
ライトの場合のような雑音発生がなく、高S/N比を要
求される装置にも十分使用可能な磁気ヘッドを形成でき
る。ところが、上記多結晶フェライトをコアとしたもの
は、たとえそれがホットプレス材料および熱間静水圧プ
レス材料のような緻密な組織を持つものであっても、接
触形磁気ヘッドとして使用した場合に記録媒体に接触す
る面において結晶粒界から結晶の一部が脱落し、比較的
短時間で使用不能に陥る。また、ギャップ近傍における
結晶軸がランダムであるため出力特性が得られない等の
欠点をもっている。
性体が多結晶材料であることから結晶粒界を有しており
、これが磁区を固定する要素として働くので単結晶フェ
ライトの場合のような雑音発生がなく、高S/N比を要
求される装置にも十分使用可能な磁気ヘッドを形成でき
る。ところが、上記多結晶フェライトをコアとしたもの
は、たとえそれがホットプレス材料および熱間静水圧プ
レス材料のような緻密な組織を持つものであっても、接
触形磁気ヘッドとして使用した場合に記録媒体に接触す
る面において結晶粒界から結晶の一部が脱落し、比較的
短時間で使用不能に陥る。また、ギャップ近傍における
結晶軸がランダムであるため出力特性が得られない等の
欠点をもっている。
本発明は、かかる課題を解決するためになされたもので
、コアの磁気媒体が接触する面側にある部分を単結晶フ
ェライト、その他の部分を多結晶フェライトで構成し、
高S/N比を有する磁気ヘッドを提供することを目的と
する。
、コアの磁気媒体が接触する面側にある部分を単結晶フ
ェライト、その他の部分を多結晶フェライトで構成し、
高S/N比を有する磁気ヘッドを提供することを目的と
する。
本発明に係る磁気ヘッドは、一対のハーフコアの突合せ
面に金属磁性膜を設けた磁気ヘッドにおいて、前記ハー
フコアの磁気媒体が接触する面側の部分を単結晶フェラ
イト、その池の部分を多結晶フェライトで構成し、前記
単結晶フェライトの厚さを60μm以下に設定したもの
である。単結晶の厚さを60μm以下に限定したのは、
厚さがこれ以上になるとノイズの発生量が増し、十分な
ら/N比を得ることが困難になるからである。
面に金属磁性膜を設けた磁気ヘッドにおいて、前記ハー
フコアの磁気媒体が接触する面側の部分を単結晶フェラ
イト、その池の部分を多結晶フェライトで構成し、前記
単結晶フェライトの厚さを60μm以下に設定したもの
である。単結晶の厚さを60μm以下に限定したのは、
厚さがこれ以上になるとノイズの発生量が増し、十分な
ら/N比を得ることが困難になるからである。
本発明によれば、コアの磁気媒体と接触する面のごく薄
い層が単結晶フェライトから成るので、この層の存在に
よるノイズの発生への影響が非常に小さく、その他の部
分が多結晶フェライトから成るので、全部が単結晶から
なる場合に比較してS/N比が大幅に良くなる。一方、
この層においては、粒界における剥離がなく耐摩耗性も
高いので、耐用期間が延長されるとともに、機械的加工
に対しても強いので、トラック加工の精度も高くできる
。
い層が単結晶フェライトから成るので、この層の存在に
よるノイズの発生への影響が非常に小さく、その他の部
分が多結晶フェライトから成るので、全部が単結晶から
なる場合に比較してS/N比が大幅に良くなる。一方、
この層においては、粒界における剥離がなく耐摩耗性も
高いので、耐用期間が延長されるとともに、機械的加工
に対しても強いので、トラック加工の精度も高くできる
。
このような磁気ヘッドの製造方法としては、単結晶フェ
ライトと多結晶フェライトとを接触させ、加熱による固
相反応によって単結晶フェライトを多結晶側に結晶成長
させて単結晶と多結晶の2つの領域を有するハーフコア
ブロックを形成する方法が好適である。この場合、加熱
温度と反応時間を調整することにより、単結晶層の厚さ
を60μm以下に制御することができる。
ライトと多結晶フェライトとを接触させ、加熱による固
相反応によって単結晶フェライトを多結晶側に結晶成長
させて単結晶と多結晶の2つの領域を有するハーフコア
ブロックを形成する方法が好適である。この場合、加熱
温度と反応時間を調整することにより、単結晶層の厚さ
を60μm以下に制御することができる。
以下に、本発明による磁気ヘッドの一実施例を第1図な
いし第7図に基いて説明する。
いし第7図に基いて説明する。
第1図ないし第2図はこの発明の一実施例を示す図で、
第1図は磁気媒体への接触面を加工する前の磁気ヘッド
、第2図は加工後の磁気ヘッドの断面を示している。な
お、磁気ヘッド自体の基本的形状は、上述した従来例と
同じなので、説明を省略する。
第1図は磁気媒体への接触面を加工する前の磁気ヘッド
、第2図は加工後の磁気ヘッドの断面を示している。な
お、磁気ヘッド自体の基本的形状は、上述した従来例と
同じなので、説明を省略する。
この実施例では、単結晶フェライト層11bと多結晶フ
ェライトticとからなるハーフコア!Iの突合せ面1
1a (第5図(a)参照)に形成したトラック幅規制
溝i5と、このトラック幅規制溝15に充填したガラス
!6の間に、活性化金属あるいは金属酸化物の単層膜ま
たは、活性化金属と金属酸化物の積層膜からなる゛侵食
防止膜20を介在させている。これは、ガラス16によ
る金属磁性膜14の侵食を防止するものである。また、
侵食防止膜20を活性化金属・金属酸化物の複合体から
構成してもよい。この場合、活性化金属としては、Cr
、Ti、Zr、Hf等が好ましく、金属酸化物としては
S iOz、T ato sなどが好ましい。薄膜付着
溝13に付着形成されている金属磁性膜14のV字状空
間にもガラス16が充填されるが、侵食防止膜20は、
この金属磁性膜14とガラス16との間にも介在してい
る。
ェライトticとからなるハーフコア!Iの突合せ面1
1a (第5図(a)参照)に形成したトラック幅規制
溝i5と、このトラック幅規制溝15に充填したガラス
!6の間に、活性化金属あるいは金属酸化物の単層膜ま
たは、活性化金属と金属酸化物の積層膜からなる゛侵食
防止膜20を介在させている。これは、ガラス16によ
る金属磁性膜14の侵食を防止するものである。また、
侵食防止膜20を活性化金属・金属酸化物の複合体から
構成してもよい。この場合、活性化金属としては、Cr
、Ti、Zr、Hf等が好ましく、金属酸化物としては
S iOz、T ato sなどが好ましい。薄膜付着
溝13に付着形成されている金属磁性膜14のV字状空
間にもガラス16が充填されるが、侵食防止膜20は、
この金属磁性膜14とガラス16との間にも介在してい
る。
次に、本発明による磁気ヘッドの製造方法について説明
する。
する。
第3図、第4図は本発明で用いる単結晶−多結晶のフェ
ライト結合体の製造方法を示したもので、1は種子に使
うMn−Zn系の単結晶フェライト板、2は同じ組成を
有する単結晶化しようとする多結晶フェライトブロック
、3は単結晶フェライト板lと多結晶フェライトブロッ
ク2との接合界面である。萌記両フェライト1,2の接
合面はSiC砥粒(200Gメツシユ、400Gメツシ
ユ)でラップし、その後、粒径3μmのダイヤモンドで
鏡面ランプする。清浄にした双方の接合面に希硝酸を塗
布した後、相互を貼り合わせて接合体となし、これを型
材の中に入れ、窒素ガスを流した雰囲気中で接合面に垂
直な方向に加圧してホットプレスする (温度1250
℃、圧力30 kg/ am’、処理時間30分)。
ライト結合体の製造方法を示したもので、1は種子に使
うMn−Zn系の単結晶フェライト板、2は同じ組成を
有する単結晶化しようとする多結晶フェライトブロック
、3は単結晶フェライト板lと多結晶フェライトブロッ
ク2との接合界面である。萌記両フェライト1,2の接
合面はSiC砥粒(200Gメツシユ、400Gメツシ
ユ)でラップし、その後、粒径3μmのダイヤモンドで
鏡面ランプする。清浄にした双方の接合面に希硝酸を塗
布した後、相互を貼り合わせて接合体となし、これを型
材の中に入れ、窒素ガスを流した雰囲気中で接合面に垂
直な方向に加圧してホットプレスする (温度1250
℃、圧力30 kg/ am’、処理時間30分)。
ホットプレス後、接合体を、熱間静水圧プレス(HIP
)法により、温度1320℃において1000kg/
cm”の圧力を3時間加えて加圧熱処理する。その結果
、前記接合界面3が相互の固相反応を誘起し、多結晶フ
ェライト2側に単結晶が育成され、単結晶化領域4が形
成される。これを所定のブロックに切断し、ハーフコア
ブロックを形成する。
)法により、温度1320℃において1000kg/
cm”の圧力を3時間加えて加圧熱処理する。その結果
、前記接合界面3が相互の固相反応を誘起し、多結晶フ
ェライト2側に単結晶が育成され、単結晶化領域4が形
成される。これを所定のブロックに切断し、ハーフコア
ブロックを形成する。
上記の工程において、固相反応によって形成される単結
晶層の厚さは、熱間静水圧プレス法における温度と処理
時間を調整することにより制御することによりなされる
。
晶層の厚さは、熱間静水圧プレス法における温度と処理
時間を調整することにより制御することによりなされる
。
次に、前記ハーフコアブロックを用いた磁気ヘッドの製
造工程を第5図により説明する。
造工程を第5図により説明する。
なお、ハーフコアブロック11の加工にあたっては、単
結晶フェライトllbが予め磁気媒体との接触面側に位
置するようにする。
結晶フェライトllbが予め磁気媒体との接触面側に位
置するようにする。
第1工程で、ハーフコアブロック11の突合せ面11a
に、くさび状の薄膜付着溝13が形成される(第5図(
a))。
に、くさび状の薄膜付着溝13が形成される(第5図(
a))。
第2工程で、この薄膜付着溝13に、センダスト等より
なる金属磁性膜14がスパッタリング等により付着形成
される(第5図(b))。
なる金属磁性膜14がスパッタリング等により付着形成
される(第5図(b))。
第3工程で、金属磁性膜14がラップ研磨され、薄膜付
着溝13内の金属磁性膜14だけが残される(第5図(
C))。
着溝13内の金属磁性膜14だけが残される(第5図(
C))。
第4工程で、金属磁性膜14の付着された薄膜付着溝1
3に隣接し、この薄膜付着溝13の一部を切り欠くよう
に、トラック幅規制溝15が加工形成される(第5図(
d))。
3に隣接し、この薄膜付着溝13の一部を切り欠くよう
に、トラック幅規制溝15が加工形成される(第5図(
d))。
次の第5の工程で、侵食防止膜20が、金属磁性膜14
とトラック幅規制溝15に、スパッタリング等の薄膜付
着手段により形成される(第5図(e))。この侵食防
止膜20は、Cr、Ti、Zn、Hfなどの活性化金属
あるいはS io *、T ago sなどの金属酸化
物のいずれかを膜厚0.4〜2μmで単層に形成しても
よいが、上記活性化金属と金属酸化物を積層に形成する
こともできる。積層形成の場合は、例えばまずCrを膜
厚0,4〜2μmでスパッタリングし、更にこの上から
5iOtを膜厚0゜4〜1μmでスパッタリングして形
成する。また、侵食防止膜20は、上記の活性化金属と
金属酸化物の複合体により形成することもできる。この
場合は、例えばCrとSiO2の複合体焼結ターゲット
をスパッタリングして形成する。このような侵食防止膜
20は、次の工程であるガラス16の溶融充填時に、ハ
ーフコアブロック11の材料であるフェライト等や金属
磁性膜14の材料であるセンダスト等が、ガラス16に
より侵食されるのを防ぐものである。
とトラック幅規制溝15に、スパッタリング等の薄膜付
着手段により形成される(第5図(e))。この侵食防
止膜20は、Cr、Ti、Zn、Hfなどの活性化金属
あるいはS io *、T ago sなどの金属酸化
物のいずれかを膜厚0.4〜2μmで単層に形成しても
よいが、上記活性化金属と金属酸化物を積層に形成する
こともできる。積層形成の場合は、例えばまずCrを膜
厚0,4〜2μmでスパッタリングし、更にこの上から
5iOtを膜厚0゜4〜1μmでスパッタリングして形
成する。また、侵食防止膜20は、上記の活性化金属と
金属酸化物の複合体により形成することもできる。この
場合は、例えばCrとSiO2の複合体焼結ターゲット
をスパッタリングして形成する。このような侵食防止膜
20は、次の工程であるガラス16の溶融充填時に、ハ
ーフコアブロック11の材料であるフェライト等や金属
磁性膜14の材料であるセンダスト等が、ガラス16に
より侵食されるのを防ぐものである。
第5工程で侵食防止膜20の形成が終了した後、第6エ
程では、この侵食防止膜20上にガラス16が溶融充填
される。これで、ガラス16は、侵食防止膜20を介し
て、金属磁性膜14と侵食防止膜20の空間に充填され
る(第5図(f))。
程では、この侵食防止膜20上にガラス16が溶融充填
される。これで、ガラス16は、侵食防止膜20を介し
て、金属磁性膜14と侵食防止膜20の空間に充填され
る(第5図(f))。
そして、第7エ程で、ガラス16は、金属磁性膜14の
接合面j4aが所定量露出するまで砥石によりラップ研
磨され、磁気ギャップ12のギャップ幅が決定される(
第5図(g))。
接合面j4aが所定量露出するまで砥石によりラップ研
磨され、磁気ギャップ12のギャップ幅が決定される(
第5図(g))。
第8工程で、接合面14aの研磨の終了した一対のハー
フコアブロック11が、磁気ギャップ12となるべき接
合面14aを位置決めして突き合わされ、両ハーフコア
ブロック11が接合されて、接合コアブロックとなる(
第5図(h))。この接合コアブロックを切断線A−H
に沿って所定幅で切断して第1図に示す磁気ヘッド素材
とし、これの磁気媒体接触面を円弧面に加工して、第2
図に示すような磁気ヘッドを得る。
フコアブロック11が、磁気ギャップ12となるべき接
合面14aを位置決めして突き合わされ、両ハーフコア
ブロック11が接合されて、接合コアブロックとなる(
第5図(h))。この接合コアブロックを切断線A−H
に沿って所定幅で切断して第1図に示す磁気ヘッド素材
とし、これの磁気媒体接触面を円弧面に加工して、第2
図に示すような磁気ヘッドを得る。
以下、この発明の効果をさらに具体的に述べる。
第6図は、本発明における磁気ヘッドの単結晶フェライ
ト層11bの厚さ(第2図にdとして示す)を変化させ
た場合の摺動ノイズの測定値を示すもので、このdの値
と摺動ノイズの量がほぼ比例関係にあることが分かる。
ト層11bの厚さ(第2図にdとして示す)を変化させ
た場合の摺動ノイズの測定値を示すもので、このdの値
と摺動ノイズの量がほぼ比例関係にあることが分かる。
この場合、dの値が小さいほど摺動ノイズは少なくなる
が、この磁気ヘッドを、上述したような高品位ビデオテ
ープレコーダに用いるには、摺動ノイズが7dB以下で
あることが望ましく、そのためには60μm以下とする
ことが必要である。
が、この磁気ヘッドを、上述したような高品位ビデオテ
ープレコーダに用いるには、摺動ノイズが7dB以下で
あることが望ましく、そのためには60μm以下とする
ことが必要である。
第7図は、上記と同様にdを変化させた場合において、
この磁気ヘッドを用いて、一定の条件で信号を磁気テー
プに入力し、再生したときの出力を測定した結果を示す
もので、dの増加とともに出力が増加する傾向が見られ
る。これは、前述したように、ギャップ近傍において多
結晶中の結晶軸の分散の影響が単結晶フェライト層の存
在により軽減されるためであるが、dを減少することに
よる劣化の程度は上述した摺動ノイズの低下潰に比較し
て小さく、改善の効果の方が大きいことが分かる。
この磁気ヘッドを用いて、一定の条件で信号を磁気テー
プに入力し、再生したときの出力を測定した結果を示す
もので、dの増加とともに出力が増加する傾向が見られ
る。これは、前述したように、ギャップ近傍において多
結晶中の結晶軸の分散の影響が単結晶フェライト層の存
在により軽減されるためであるが、dを減少することに
よる劣化の程度は上述した摺動ノイズの低下潰に比較し
て小さく、改善の効果の方が大きいことが分かる。
以上説明したように、本発明の磁気ヘッドは、ハーフコ
アの磁気媒体と接触する面側の部分を単結晶フェライト
、その他の部分を多結晶フェライトで構成し、単結晶フ
ェライト層の厚さを60μm以下としたものであるため
、磁気媒体との接触面の機械的特性の向上と、良好な磁
気特性の双方をともに得ることができる。すなわち、単
結晶層が薄いためにその欠点である摺動ノイズの発生が
抑えられ、高品位ビデオテープレコーダなどに用いても
十分な程度のS/N比を保持でき、鮮明な画像が得られ
る。また、単結晶層の利点である高い耐摩耗性によって
、磁気ヘッドの寿命を延長させるとともに、トラック加
工の精度を向上させて寸法の狂いのない磁気ヘッドが提
供され、また、多結晶の磁気ヘッドに比較して高い出力
特性を得ることができる。
アの磁気媒体と接触する面側の部分を単結晶フェライト
、その他の部分を多結晶フェライトで構成し、単結晶フ
ェライト層の厚さを60μm以下としたものであるため
、磁気媒体との接触面の機械的特性の向上と、良好な磁
気特性の双方をともに得ることができる。すなわち、単
結晶層が薄いためにその欠点である摺動ノイズの発生が
抑えられ、高品位ビデオテープレコーダなどに用いても
十分な程度のS/N比を保持でき、鮮明な画像が得られ
る。また、単結晶層の利点である高い耐摩耗性によって
、磁気ヘッドの寿命を延長させるとともに、トラック加
工の精度を向上させて寸法の狂いのない磁気ヘッドが提
供され、また、多結晶の磁気ヘッドに比較して高い出力
特性を得ることができる。
第1図は本発明による磁気ヘッドの斜視図、第2図は同
じく最終加工後の断面図、第3図及び第4図は本発明の
単結晶−多結晶のフェライト結合体の製法を説明するた
めの図、第5図(a)ないしくh)は本発明による磁気
ヘッドの製造方法の工程を順次示すもので、(a)ない
しくg)は斜視図、(h)は正面図、第6図及び第7図
はこの発明の効果を示すグラフ、第8図は従来の磁気ヘ
ッドの斜視図である。 11・・・・・・ハーフコア(ハーフコアフロック)、
11a・・・・・・突合せ面、 11b・・・・・・単結晶フェライト層、11c・・・
・・・多結晶フェライト、12・・・・・・磁気ギャッ
プ、13旧・・薄膜付着溝、14・・・・・・金属磁性
膜、 d・・・・・・多結晶フェライト層の厚さ。 出願人 アルプス電気株式会社 代表者 片 岡 勝太部 第1図 1ら 第2図 第3図 第4図 第5図 、4(b) (C) 第5図 (e) ワn (fl 第5図 (i) ・羊査も晶フェフイトI%A之
じく最終加工後の断面図、第3図及び第4図は本発明の
単結晶−多結晶のフェライト結合体の製法を説明するた
めの図、第5図(a)ないしくh)は本発明による磁気
ヘッドの製造方法の工程を順次示すもので、(a)ない
しくg)は斜視図、(h)は正面図、第6図及び第7図
はこの発明の効果を示すグラフ、第8図は従来の磁気ヘ
ッドの斜視図である。 11・・・・・・ハーフコア(ハーフコアフロック)、
11a・・・・・・突合せ面、 11b・・・・・・単結晶フェライト層、11c・・・
・・・多結晶フェライト、12・・・・・・磁気ギャッ
プ、13旧・・薄膜付着溝、14・・・・・・金属磁性
膜、 d・・・・・・多結晶フェライト層の厚さ。 出願人 アルプス電気株式会社 代表者 片 岡 勝太部 第1図 1ら 第2図 第3図 第4図 第5図 、4(b) (C) 第5図 (e) ワn (fl 第5図 (i) ・羊査も晶フェフイトI%A之
Claims (1)
- フェライトから成る一対のハーフコアの突合せ面に、金
属磁性膜を形成し、該金属磁性膜を突合せて磁気ギャッ
プとした磁気ヘッドにおいて、前記ハーフコアの磁気媒
体が接触する面側の部分を厚さ60μm以下の単結晶フ
ェライト層、その他の部分を多結晶フェライトで構成し
たことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP641288A JPH07114005B2 (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | 磁気ヘッド |
KR1019880012201A KR910009026B1 (ko) | 1987-10-09 | 1988-09-21 | 자기헤드 및 그 제조방법 |
DE3834221A DE3834221A1 (de) | 1987-10-09 | 1988-10-07 | Magnetkopf und verfahren zu dessen herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP641288A JPH07114005B2 (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01182906A true JPH01182906A (ja) | 1989-07-20 |
JPH07114005B2 JPH07114005B2 (ja) | 1995-12-06 |
Family
ID=11637652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP641288A Expired - Fee Related JPH07114005B2 (ja) | 1987-10-09 | 1988-01-14 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07114005B2 (ja) |
-
1988
- 1988-01-14 JP JP641288A patent/JPH07114005B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07114005B2 (ja) | 1995-12-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |