JPH01177372A - 非晶質ケイ素感光体製造用プラズマcvd装置 - Google Patents

非晶質ケイ素感光体製造用プラズマcvd装置

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JPH01177372A
JPH01177372A JP73088A JP73088A JPH01177372A JP H01177372 A JPH01177372 A JP H01177372A JP 73088 A JP73088 A JP 73088A JP 73088 A JP73088 A JP 73088A JP H01177372 A JPH01177372 A JP H01177372A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
amorphous silicon
drum holding
members
electrode
gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP73088A
Other languages
English (en)
Inventor
Yumiko Komori
由美子 小森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
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Publication of JPH01177372A publication Critical patent/JPH01177372A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/08Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
    • G03G5/082Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
    • G03G5/08214Silicon-based
    • G03G5/08221Silicon-based comprising one or two silicon based layers

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、非晶質ケイ素感光体製造用プラズマCVD装
置に関する。
従来の技術 従来、非晶質ケイ素感光体の製造は、真空槽内に、回転
可能な感光体ドラム保持部材と、その周りに設けた円筒
状電極とを配設したプラズマCVD装置を用い、その電
極の一方の側面に設けた反応ガス導入口より反応ガスを
導入して、グロー放電分解させることにより、感光体ド
ラム保持部材上に保持された導電性支持体上に非晶質ケ
イ素感光層を形成させることによって行われている。
第4図は従来の容量結合型プラズマCVD装置の一例を
示す。1は密閉反応槽であり、その中に、モータ8によ
り回転する円筒状の導電性基板6を電極とし載置し、一
方、複数のガス噴出孔3を設けた剛性の金属よりなる中
空対向電極20を、ドラム状基板に対向してそれを取り
囲むように設置する。その外側は金属よりなるシールド
板21で覆っている。原料ガスは、ボンベ22からガス
導入管12により導入し、グロー放電を起こさせて導電
性基板6上に膜を堆積形成させる。10はRF電源であ
り、23は排気系である。
このプラズマCVD装置は、1回の操作で1個の非晶質
ケイ素感光体を製造するものでおるので、量産化の点で
問題がある。そこで最近、量産化の目的で、種々の提案
がなされている。例えば、真空槽内に、感光体ドラム保
持部材とその周りに設けた円筒状電極とよりなる蒸着装
置を複数個設けたもの(特開昭58−71369号公報
)、一つの円筒電極内に複数個の感光体ドラム保持部材
を配設したもの(特開昭57−185971号公報、特
開昭60−24378号公報、特開昭61−57946
号公報)等が知られている。
発明が解決しようとする課題 量産化を目的として提案された従来の技術は、種々の欠
点があった。例えば、特開昭58−71369号公報に
記載のように、複数個の蒸着装置を設けたものは、それ
ぞれの蒸着装置に高周波電源及びインピーダンス整合の
ためのマツチングボックスを設ける必要があり、各蒸着
装置を別々に制御することが必要となるので、設備が複
雑になると共に手間がかかるという問題があった。又、
一つの円筒電極内に複数の感光体ドラム保持部材を配設
したものは、反応ガス導入口と排出口との間で蒸着条件
が変化するために、各感光体ドラム保持部材上に支持さ
れた導電体基板上に形成される感光層が均一なものにな
らなかった。又それを防止する目的で提案された、感光
体ドラム保持体を自転させると同時に公転させる装置に
おいては、上記の問題は多少改善されるが回転させる為
の駆動装置が複雑になるという新たな問題が発生した。
又、反応ガスを各感光体ドラム上に均一に流れるように
する装置においては、反応ガスの導入及び排出の為の機
構が複雑になり、十分満足のいく結果は得られていなか
った。
本発明は、従来の技術における上記のような問題点に鑑
みてなされたものでおる。
したがって、本発明の目的は、均一な非晶質ケイ素感光
層を有する電子写真感光体を量産化することが可能な、
簡単な構造のプラズマCVD装置を提供することにある
課題を解決するための手段 本発明のプラズマCVD装置は、非晶質ケイ素感光層を
有する電子写真感光体を製造するためのものであって、
一方の側面に反応ガス噴出部を、反対側の側面にガス排
出部を設け、かつ高周波電源に接続された円筒状電極、
及び該円筒状電極の筒内に配設された回転可能な二個の
感光体ドラム保持部材を密閉反応槽内部に配設してなり
、該二個の感光体ドラム保持部材は、反応ガス噴出部及
びガス排出部を結ぶ直線に対して、左右両側に対称的な
位置に配置され、その下端が感光体ドラム保持部材を回
転させるための駆動部材に連結されていることを特徴と
する。
本発明を実施例に対応する第1図によって説明する。本
発明のプラズマCVD装置は、真空に排気された密閉反
応槽1の内部に、円筒状電極2が直立して設けられてい
る。円筒状電極は、高周波電源に接続されていて、その
一方の側面には、反応ガスを導入するための複数のガス
噴出孔3が、又、反対側の側面にはガス排出口4が直線
状に設けられている。この円筒状電極の内部には、回転
可能な二個の感光体ドラム保持部材5a及び5bが、反
応ガス噴出孔及び反応ガス排出口を結ぶ直線に対して、
左右両側に対称的な位置に配置されている。これら感光
体ドラム保持部材の下端は、それ等を回転させるための
駆動部材に連結されている。
作用 本発明のプラズマCVD装置においては、感光体ドラム
保持部材にホルダーを介して導電性基板6を縦方向に単
数或いは複数個載置し、密閉反応槽内部を排気して真空
に保ち、反応ガス噴出部から反応ガス、例えばシランガ
スを導入する。感光体ドラム保持部材は下部に取り付け
られている駆動部材によって回転させる。円筒状電極は
、高周波電源に接続されているから、円筒状電極とアー
スされている感光体ドラム保持部材上の導電性基板との
間でグロー放電が行われ、反応ガスが分解される。この
場合、二つの感光体ドラム保持部材は互いに対称の位置
に存在するから、導入された反応ガスは、その上に載置
された導電性基板上に於いて同様な状態で分解され、互
いに品質の点でばらつきのない非晶質ケイ素膜が形成さ
れることになる。
実施例 以下、図面によって本発明を説明する。
第1図は、本発明のプラズマCVD装置の一実施例の横
断面図であり、第2図はその縦断面図でおり、第3図は
円筒状電極部分の斜視図でおる。
1は、真空に排気するための排気管11を有する密閉反
応槽であり、基体7上に取り付けられている。この密閉
反応槽の内部には、円筒状電極2が基体7に絶縁体24
を介して載置されている。円筒状電極は高周波電源10
に接続されており、そしてその−側面には複数のガス噴
出孔3が縦一列に設けられている。ガス噴出孔の外側に
は、反応ガスを導入するためのガス導入管12と連通す
るガス流路筒13が取り付けられている。一方、ガス噴
出孔3とは反対側の側面には、反応ガスを排出するため
のガス排出口4が直線状に設けられている。
この円筒状電極の内部には、例えばアルミニウム基板等
の導電性基板6を支持するための二個の感光体ドラム保
持部材5a及び5bが左右対称の位置に配設されている
。即ちガス噴出孔3とガス排出口4とを結ぶ直線を対称
軸として、左右両側に設けられている。これ等の感光体
ドラム保持部材は、それぞれ内部に加熱部材14a及び
14bを備えており、そして回転可能に構成されている
。即ち、各感光体ドラム保持部材の下部にはフランジ1
6a及び16bが形成されており、支持板17a及び1
7bに適当な手段によって固定されている。支持板17
a及び17bは、モータ8及び伝導手段9に連結された
回転軸18a及び18bによって回転自在に支持されて
いる。尚、回転軸18a及び18bの周囲は、密閉反応
槽1内が真空状態に維持されるように周知の密封手段、
例えば磁気シールによってシールされている。
上記のプラズマCVD装置を用いて電子写真感光体を製
造するには、感光体ドラム保持部材5a及び5bに導電
性基板6をホールダ−19を介して複数個(図面におい
ては3個)載置し、密閉反応槽1内を真空に排気し、一
方、例えばシランガスをボンベから、ガス導入管12に
よってガス流路筒13に導入し、ガス噴出孔3より円筒
状電極2内に噴出させる。感光体ドラム保持部材は、モ
ータ8及び伝導手段9よりなる駆動部材によって回転さ
せるが、回転方向は、同一方向でおってもよいし、互い
に反対方向でおってもよい。円筒状電極2には、高周波
電源10によって所定の電圧が印加されているため、円
筒状電極と、接地電圧に維持されている導電性基板6と
の間でグロー放電が起こり、シランガスを分解して導電
性基板上に非晶質ケイ素膜が形成する。反応ガスは、排
出口4がら排出され、排気管11より密閉反応槽外に排
出される。
この場合、二つの感光体ドラム保持部材5a及び5bは
、ガス噴出孔3とガス排出口4とを結ぶ線に対して、互
いに対称の位置に配置されているから、反応ガスは、両
者の周りを同一の状態で掻き乱されることなく通過し、
したがって、両者の上に載置されている導電性基板上で
は、互いに同じ条件で非晶質ケイ素膜が形成されること
になるので、得られる製品に品質上のばらつきが生じな
い。
発明の効果 本発明のプラズマCVD装置は、上記の構成を有するか
ら、非晶質ケイ素感光層を有する電子写真感光体を量産
化する場合、製品間にばらつきのないものが得られ、し
かも複数の高周波電源を備える必要もなく、又感光体ド
ラム保持部材を公転させる必要もなく、更に反応ガスの
導入及び排出も複雑な構造を取る必要がないから、極め
て簡単な装置で容易に量産化することが可能になる。更
に又、電極の筒内のスペースが広くなるために、メンテ
ナンスや感光体ドラムの取り外しその他の取扱が容易で
あるという利点もめる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例でおって、第2図へ−A線の
断面図、第2図は第1図のB−B線の断面図、第3図は
第2図における円筒状電極の斜視図、第4図は従来のプ
ラズマCVD装置の構成図である。 1・・・密閉反応槽、2・・・円筒状電極、3・・・ガ
ス噴出孔、4・・・ガス排出口、5a、5b・・・感光
体ドラム保持部材、6・・・導電性基板、8・・・モー
タ、9・・・伝導手段、10・・・高周波電源、12・
・・ガス導入管、13・・・ガス流路筒。 特許出願人  富士ゼロックス株式会社代理人    
弁理士  渡部 剛 → 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一方の側面に反応ガス噴出部を、反対側の側面に
    ガス排出部を設け、かつ高周波電源に接続された円筒状
    電極、及び該円筒状電極の筒内に配設された回転可能な
    二個の感光体ドラム保持部材を密閉反応槽内部に配設し
    てなり、該二個の感光体ドラム保持部材は、反応ガス噴
    出部及び反応ガス排出部を結ぶ直線に対して、左右両側
    に対称的な位置に配置され、その下端が感光体ドラム保
    持部材を回転させるための駆動部材に連結されているこ
    とを特徴とする非晶質ケイ素感光体製造用プラズマCV
    D装置。
JP73088A 1988-01-07 1988-01-07 非晶質ケイ素感光体製造用プラズマcvd装置 Pending JPH01177372A (ja)

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JP73088A JPH01177372A (ja) 1988-01-07 1988-01-07 非晶質ケイ素感光体製造用プラズマcvd装置

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JP73088A JPH01177372A (ja) 1988-01-07 1988-01-07 非晶質ケイ素感光体製造用プラズマcvd装置

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JPH01177372A true JPH01177372A (ja) 1989-07-13

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JP73088A Pending JPH01177372A (ja) 1988-01-07 1988-01-07 非晶質ケイ素感光体製造用プラズマcvd装置

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JP (1) JPH01177372A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007270221A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Kyocera Corp 堆積膜形成方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007270221A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Kyocera Corp 堆積膜形成方法

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