JPH0117455B2 - - Google Patents

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JPH0117455B2
JPH0117455B2 JP56141806A JP14180681A JPH0117455B2 JP H0117455 B2 JPH0117455 B2 JP H0117455B2 JP 56141806 A JP56141806 A JP 56141806A JP 14180681 A JP14180681 A JP 14180681A JP H0117455 B2 JPH0117455 B2 JP H0117455B2
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JP
Japan
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group
polyamide
formula
prepolymer
coating
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JP56141806A
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JPS5780050A (en
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Darumusu Rooranto
Beeraa Harii
Hauku Teobaruto
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Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Publication date
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Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPS5780050A publication Critical patent/JPS5780050A/ja
Publication of JPH0117455B2 publication Critical patent/JPH0117455B2/ja
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/901Printed circuit
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678Of metal
    • Y10T428/31681Next to polyester, polyamide or polyimide [e.g., alkyd, glue, or nylon, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31721Of polyimide

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Inorganic Insulating Materials (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
この発明はシロキサン基を含有するポリアミ
ド、ポリイミド及びポリアミド−イミドでコーテ
イングした金属箔(以下金属フイルムと称する)
からなる柔軟性基材、その製造法及び柔軟性のあ
る印刷(フレキシブルプリント)回路の製造に対
する用途に関するものである。 柔軟性のある印刷回路は硬質の印刷回路に比較
して技術上多くの利点を有することが知られてい
る。柔軟性印刷回路は実質上任意の形態で電子的
構成要素としてシステムに適合させられるので、
電気的装置内に占める場所が少なくてすみ、又振
動に強いので取扱いが容易である。 しかし印刷回路の製造に用いられる柔軟性基
材、即ち絶縁材料でコーテイングした金属フイル
ムは高度の規準に適合するものでなければならな
い。コーテイングは金属フイルムに接着性が極め
て良好なものでなければならず、印刷回路の製造
における処理時に損傷を受けるものであつてはな
らない。即ちコーテイングはメツキ浴に対して十
分な安定性を持ち、印刷回路技術で用いられる溶
媒に対して安定性のよいものでなければならな
い。更に、コーテイングに裂け目や剥れを生ずる
ことなく、柔軟性基材を曲げたり、巻いたり、折
たたんだりできるものでなければならない。 結合剤を備えた銅フイルムにポリアミドフイル
ムをラミネートして得られるポリアミドコーテイ
ング金属フイルムは全ての点でこれらの要求を充
たすものではない;特に電気的性質は満足なもの
ではない。 更に、ポリアミド酸及びアミドで修飾した
(modified)ポリアミド酸の混合物で金属をコー
テイングすることが米国特許第3682960号により
公知である。しかしながら、加熱後金属上に得ら
れるポリイミド及びポリアミドイミドからなるコ
ーテイングは柔軟性が不十分で容易に金属フイル
ムから剥れるという欠点がある。 従つて、これらの欠点を回避するために米国特
許第4148969号はポリパラバン酸でコーテイング
した金属フイルムのラミネートを使用することを
提案し、そこではポリパラバン酸をジフエニルメ
タンジイソシアナートとシアン化水素との反応生
成物の加水分解によつて調整している。使用する
ポリパラバン酸の製造が複雑であることは別とし
て、特別に注意して取扱わねばならぬシアン化水
素を最初の工程で使用する必要がある。 今、ここに中間層を設けずに金属フイルムに堅
固に接着するポリマーフイルムからなる柔軟性基
材が、金属フイルムを珪素で修飾したポリアミド
プレポリマー、ポリアミド酸プレポリマー又はポ
リアミド−アミド酸プレポリマーの有機溶液でコ
ーテイングし、コーテイングを加熱して硬化さ
せ、有機溶媒を蒸発させるという簡単な方法で得
られることが見出された。 従つて、この発明は中間層を設けずにポリマー
でコーテイングした金属フイルムからなる柔軟性
のある印刷回路製造用の基材において、ポリマー
コーテイングが珪素含量0.1〜2.0重量%のシロキ
サン基を含有する架橋ポリアミド、ポリイミド又
はポリアミド−イミドからなり、かつ固有粘度が
0.3〜0.4dl/gの式 〔式中、Xは式 の構成要素を表わし、aは15〜100の数を表わし、
個々の記号又は基のm、R1、R2、R3、Q及びY
は互に独立したものであつて、mは1又は2であ
り、R1は(−CH2)−x
【式】
【式】又は
【式】 基(基中xは1〜4の数を表わす。)を表わし、
R2は炭素環式芳香族基又はヘテロ環式基であつ
て、基中のカルボンアミド基及びカルボキシル基
は異なる環の炭素原子に結合し、カルボキシル基
は各々カルボンアミド基に対してオルト位にあ
り、R3は炭素環式芳香族基又はヘテロ環式基を
表わし、そしてYは炭素原子数が1〜6のアルキ
ル基又はフエニル基を表わす。〕 で示される珪素で修飾したポリアミドプレポリマ
ー、ポリアミド酸プレポリマー又はポリアミド−
アミド酸プレポリマーを50〜350℃の温度に加熱
することによつて得られることを特徴とする柔軟
性基材である。 本発明による基材は金属フイルムとして銅フイ
ルムを含むものが好ましい。 金属フイルムに堅固に接着するコーテイングな
シロキサン基を含有する架橋したポリアミド、ポ
リイミド又はポリアミド−イミドからなり、かつ
aが50〜100の数を表わし、m、R1、R2、R3、Q
及びYが式の場合と同じ意味を表わす式の珪
素で修飾したプレポリマーを50〜350℃の温度に
加熱することによつて得られるものが好ましい。 具体的に言えば、コーテイングはシロキサン基
を含有する架橋したポリアミド、ポリイミド又は
ポリアミド−イミドからなり、かつ個々のR2
互いに独立したものであつて、各々置換されてい
ない単環性、縮合多環性又は縮合していない二環
性の芳香族基を表わし、二環性芳香族基の場合に
は芳香核は互に−O−または−CO−の架橋基を
介して結合しており、個々のR3が互いに独立し
たものであり、それぞれは置換されていない単環
または二環式芳香族基を表わし、二環式芳香族基
の場合には芳香核は−O−、−CH2−、−C
(CH32−、−SO2−の架橋基を介して結合してい
るか直接結合しており、そしてm、R1、Q及び
Yは式の場合と同じ意味を表わす式のプレポ
リマーを50〜350℃の温度に加熱することによつ
て得られる。 1つの具体的な実施態様においては、基材はm
が2で、R2がベンゼン環又はベンゾフエノン環
システムを表わし、R3が4,4′−ジフエニルエー
テル又は4,4′−ジフエニルメタン基を表わし、
そしてR1、Q及びYが式の場合と同じ意味を
表わす式の珪素で修飾したプレポリマーを加熱
することによつて得られるポリイミドのコーテイ
ングを有する。 本発明による柔軟性基材は金属フイルム、好ま
しくはCuフイルムを、固有粘度が0.3〜4.0dl/g
の式で示される珪素で修飾したポリアミドプレ
ポリマー、ポリアミド酸プレポリマー又はポリア
ミド−アミド酸プレポリマーの有機溶液でコーテ
イングし、コーテイングした金属フイルムを50〜
350℃の温度に加熱して有機溶媒を蒸発させるこ
とによつて得られる。 金属フイルムのコーテイングに用いられる珪素
で修飾したポリアミドプレポリマー、ポリアミド
酸プレポリマー及びポリアミド−アミド酸プレポ
リマーはドイツ公開公報第2426885号により公知
であり、そこに記載されている方法、例えば式
に相当するポリアミド、又は2個の末端無水物基
を有するポリアミド−アミド酸又は1個の末端塩
化物基と1個の末端無水物基を有するポリアミド
−アミド酸を、式 で示されるアミノシラノンの少なくとも2モル以
下と反応させることによつて製造することができ
る(式中、a、m、R1、R2、R3、Q及びYは式
の場合と同じ意味を表わす。)。 上記のドイツ公開公報は更に、シロキサン基を
含有するポリアミドプレポリマー、ポリアミド酸
プレポリマー及びポリアミド−アミド酸プレポリ
マーが種々の物質、例えば金属類、ポリマー類や
セルロース材料のコーテイングや固着に使用でき
ることを開示しているがプレポリマーでコーテイ
ングした金属フイルムが極めて柔軟性のあるこ
と、即ちポリマーフイルムに裂け目を生ずること
なく繰返し曲げたり折りたたんだりすることに耐
え、更にメツキ浴安定性が良好で印刷回路技術で
用いられる溶剤に良好な安定性を有することを何
も示していない。 本発明により使用される珪素で修飾したポリア
ミドプレポリマー、ポリアミド酸プレポリマー及
びポリアミド−アミド酸プレポリマーは固有粘度
が0.5〜2.5dl/gのものが好ましい。ポリマーの
分子量の尺度である固有粘度ηintは次式により算
出される。 ηint=lnη/η0/C 式中、ln=自然対数 η=溶液(適当な溶媒、例えばN,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド
又はN−メチルピロリドン中ポリマー0.5重量
%)の粘度、 η0=溶媒の粘度、 C=ポリマー溶液の濃度〔ポリマーg/溶媒100
ml〕。 粘度の測定は25℃で行われる。一般に知られて
いるように固有粘度はポリマーの分子量の尺度で
ある。引用したηint=0.3〜4.0は平均分子量約
4000〜50000に相当する。平均分子量は公知の方
法、例えば光散乱法によつて測定することができ
る。 個々の記号又はm、R2及び(又は)R3が異な
つた意味を表わす式の構成要素Xを有するプレ
ポリマーは構成要素中のポリアミド、ポリアミド
酸及び(又は)ポリアミド−アミド酸単位がラン
ダムに配列しているか又は少なくとも一部がブロ
ツク状に任意に配例しているホモポリマーでもコ
ポリマーでもよい。 好ましくは無水の有機溶媒中で湿気を排除して
製造される珪素で修飾したプレポリマーはこれら
の有機溶液の状態で使用するのが有利である。適
当な有機溶媒はN,N−ジメチルアセトアミド、
N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、N,N−ジメチルメトキシアセ
トアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−ア
セチル−2−ピロリドン、N−メチル−ε−カプ
ロラクタム、ヘキサメチルホスホルトリアミド
(ヘキサメタポール)、N,N,N′,N′−テトラ
メチル尿素、テトラヒドロチオフエンジオキシド
(スルホラン)及びジメチルスルホキシドである。
これらの溶媒の混合物も使用することができる。 また、これらの好ましい溶媒系を、芳香族、シ
クロ脂肪族又は脂肪族の、場合によつては塩素化
されてもよい炭化水素のような他の有機非プロト
ン性溶媒、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、シクロヘキサン、ペンタン、ヘキサン、石油
エーテル、メチレンクロリド、テトラヒドロフラ
ン、シクロヘキサノン及びジオキサンで希釈する
こともできる。 珪素で修飾したプレポリマーの有機溶液の貯蔵
安定性を高めるために、例えばモレキユラーシー
ブのような水吸収性物質を添加するとよい。モレ
キユラーシーブは有機溶液に対して10重量%の量
加えるのが好ましい。モレキユラーシーブは例え
ばメルク社の製品のような市販品を入手できる。 驚くべきことに処理に先立つて珪素で修飾した
プレポリマーの有機溶液に流動調整剤、例えば
“Modaflow”(モンサント社の市販品)を加える
と有利であることが見出された。 金属フイルムの有機ポリマー溶液によるコーテ
イングは手でもコーテイング機によつても行うこ
とができる。コーテイング機としては垂直型のコ
ーテイング機を使うこともできる。しかし機械的
コーテイングでは金属フイルム上に非粘着性のコ
ーテイングが得られて所望の場合にはラミネート
を巻き上げることのできることが重要である。最
適な特性を得るためにはラミネートを更に高温で
例えば180℃で時間及び250℃で2時間加熱するこ
とができる。これによりポリアミド酸プレポリマ
ー及びポリアミド−アミド酸プレポリマーの完全
な環化と架橋が起つて相当するポリアミド及びポ
リアミド−イミドを生ずる。 このようにしてコーテイングした金属フイルム
は感光性塗料を金属面に備えたフイルムを写真マ
スクを介して露光し、露光した金属フイルムを公
知の方法で現象することによつて印刷回路の製造
に直接使用することができる。これにより機械的
強度に優れた柔軟性のある印刷回路が得られる。 例 1 A 珪素で修飾されたポリアミド酸プレポリマー
の調製 撹拌器、内部温度計、滴下用斗、ガス導入管
及び圧力調整器を備えたスルホン化フラスコ中で
窒素雰囲気下にピロメリツト酸二無水物13.741g
(0.0630mol)を無水のジメチルアセトアミド60
g中に撹拌しながら懸濁させる。懸濁液をかきま
ぜながら10℃に冷却する。次に4,4′−ジアノジ
フエニルメタン12.133g(0.060mol)を無水の
N,N−ジメチルアセトアミド50gに45℃でかき
まぜながら溶かして透明な溶液とする。この溶液
を10℃に冷却し、10℃で1時間かけて懸濁液に滴
下すると、ピロメリツト酸二無水物は徐々に溶け
て、反応混合物は粘調で透明な淡黄色になる。次
に更に3分間に10〜15℃にして反応を完結させ
る。無水のN,N−ジメチルアセトアミド15g中
に溶かしたγ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン1.327g(0.006mol)を30分かけて10〜15℃で
粘稠混合物にかきまぜながら滴下する。反応は更
に30分間室温にすることにより終了する。末端に
トリエトキシシリル基を有する、固有粘度が1.1
dl/g(C=0.5%、N,N−ジメチルアセトア
ミド中)の透明な淡黄色のポリアミド酸プレポリ
マーの粘稠溶液が得られる。このものは直接銅フ
イルムのコーテイングに使用することができる。 B コーテイングした銅フイルムの製造 上記のプレポリマー溶液をドクターにより均一
にCu−フイルム上に塗布し、コーテイングした
フイルムを70゜〜150℃/20mbarで7時間予備乾
燥して溶媒を除去する。次にラミネートを200〜
250℃/0.1mbarで10時間加熱処理する。平滑面
を有する、堅固に接着した柔軟性のある透明なコ
ーテイングがCu−フイルム上に得られる。コー
テイングしたCu−フイルムはすぐれた電気的性
質を有する。 コーテイングした銅フイルムの塩素化炭化水素
中での室温における安定性を次表に示す。
【表】 FeCl3浴中での腐食テスト コーテイングしたフイルムを鉄()塩化物浴
(30%水溶液)に入れ、浴に空気を僅かに流して
撹拌する。フイルムは銅が腐食除去された後も柔
軟性に保たれる。 例 2 A 珪素で修飾されたポリアミド酸プレポリマー
の調整 撹拌器、内部温度計、滴下用斗、ガス導入管
及び圧力調整器を備えたスルホン化フラスコ中
で、窒素雰囲気下にピロメリツト酸二無水物
65.44g(0.300mol)を無水のN,N−ジメチル
アセトアミド350g中にかきまぜながら懸濁させ
る。懸濁液をかきまぜながら−15℃に冷却する。
次に4,4′−ジアミノジフエニルエーテル59.070
g(0.295mol)を無水のN,N−ジメチルアセ
トアミド300g中にかきまぜながら溶かして透明
な溶液とする。この溶液を−15℃〜−10℃で1時
間かけて懸濁液に滴下すると、ピロメリツト酸ジ
無水物は除々に溶解する。反応混合液は粘稠で透
明な黄色になる。更に30分間0〜5℃で反応を完
結させる。次にγ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン2.212g(0.100mol)を無水のN,N−ジ
メチルアセトアミド65gに溶解させる。この溶液
を30分かけて粘稠溶液にかきまぜながら滴下す
る。反応混合液を更に30分間0゜〜5℃にして反応
を終了させる。末端にトリエトキシル基を有す
る、固有粘度が1.2dl/g(C=0.5%、N,N−
ジメチルアセトアミド中)の透明で粘稠なポリア
ミド酸プレポリマーの溶液が得られる。このもの
は直接Cu−フイルムのコーテイングに使用する
ことができる。 B コーテイングした銅フイルムの製造 上記のプレポリマーの溶液をドクターにより均
一にCu−フイルム上に塗布し、コーテイングし
たフイルムを70゜〜150℃/20mbarで7時間予備
乾燥して溶媒を除去する。次にラミネートを200
〜250℃/0.10mbarで10時間加熱処理する。平滑
面を有する、堅固に接着した柔軟性のある透明な
コーテイングがCu−フイルム上に得られる。コ
ーテイングCu−フイルムはすぐれた電気的性質
を有する。 コーテイングしたCu−フイルムの塩素化炭化
水素中での室温における安定性を次表に示す。
【表】 FeCl3浴中での腐食テスト コーテイングしたCu−フイルムを鉄()塩
化物浴(30%水溶液)に入れ、浴に空気を僅かに
流して撹拌する。フイルムは銅が腐食除去された
後も柔軟性に保たれる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 中間層を設けずにポリマーでコーテイングし
    た金属箔からなる柔軟性のある印刷回路製造用の
    基材において、ポリマーコーテイングが珪素含量
    0.1〜2.0重量%の、シロキサン基を含有する架橋
    したポリアミド、ポリイミドまたはポリアミド−
    ポリイミドからなり、かつ固有粘度が0.3〜4.0
    dl/gの式 [式中、Xは式 の構成要素を表わし、aは15〜100の数を表わし、
    個々のm、R1、R2、R3、Q及びYの記号乃至基
    はそれぞれ互いに独立したものであつて、mは1
    または2であり、R1は(CH2x、 【式】 【式】または【式】 基(基中、xは1〜4の数を表わす。)を表わし、
    R2は炭素環式芳香族基またはヘテロ環式基であ
    つて、基中のカルボンアミド基及びカルボキシル
    基は異なる環の炭素原子に結合し、カルボキシル
    基は各々カルボンアミド基に対してオルト位にあ
    り、R3は炭素環式芳香族基またはヘテロ環式基
    を表わし、Qはメチル、フエニルまたは−OY基
    を表わし、そしてYは炭素原子数が1〜6のアル
    キル基又はフエニル基を表わす。] で示される珪素で修飾したポリアミドプレポリマ
    ー、ポリアミド酸プレポリマー又はポリアミド−
    アミド酸プレポリマーを50〜350℃の温度に加熱
    することによつて得られることを特徴とする柔軟
    性基材。 2 コーテイングされる金属箔が銅箔である特許
    請求の範囲第1項に記載の基材。 3 コーテイングがシロキサン基含有架橋ポリア
    ミド、ポリイミド又はポリアミド−イミドからな
    り、かつaが50〜100の数を表わしm、R1、R2
    R3、Q及びYが特許請求の範囲第1項の記載と
    同じ意味を表わす式の珪素で修飾したプレポリ
    マーを50〜350℃の温度に加熱することによつて
    得られる特許請求の範囲第1項に記載の基材。 4 コーテイングがシロキサン基含有架橋ポリア
    ミド、ポリイミドまたはポリアミド−イミドから
    なり、かつ個々のR2は互いに独立したものであ
    つて、置換されていない単環性、縮合多環性また
    は縮合していない二環性の芳香族基を表わし、二
    環性芳香族基の場合には芳香核は互いに−O−ま
    たは−CO−の架橋基を介して結合しており、
    個々のR3は互いに独立したものであり、それぞ
    れは置換されていない単環または二環式芳香族基
    を表わし、二環式芳香族基の場合には芳香核は−
    O−、−CH2−、−C(CH32−、−SO2−の架橋基
    を介して結合しているか直接結合しており、そし
    てm、R1、Q及びYは特許請求の範囲第1項の
    記載と同じ意味を表わす式の珪素で修飾したプ
    レポリマーを50〜350℃の温度に加熱することに
    よつて得られる特許請求の範囲第1項または第3
    図に記載の基材。 5 コーテイングがポリアミド−イミドからな
    り、かつmが2を表わし、R2がベンゼン環また
    はベンゾフエノン環システムを表わし、R3が4,
    4′−ジフエニルエーテルまたは4,4′−ジフエニ
    ルメタン基を表わし、そしてR1、Q及びYが特
    許請求の範囲第1項の記載と同じ意味を表わす式
    の珪素で修飾したプレポリマーを50〜350℃の
    温度に加熱することによつて得られる特許請求の
    範囲第1項または第3項に記載の基材。 6 金属箔を、固有粘度が0.3〜4.0dl/gの式 [式中、Xは式 の構成要素を表わし、aは15〜100の数を表わし、
    個々の記号または基であるm、R1、R2、R3、Q
    及びYは互いに独立したものであつて、mは1ま
    たは2であり、R1は(−CH2)−x、 【式】 【式】または【式】 基(基中、xは1〜4の数を表わす。)を表わし、
    R2は炭素環式芳香族基またはヘテロ環式基であ
    つて、基中のカルボンアミド基及びカルボキシル
    基は異なる環の炭素原子に結合し、カルボキシル
    基は各々カルボンアミド基に対してオルト位にあ
    り、R3は炭素環式芳香族基またはヘテロ環式基
    を表わし、Qはメチル、フエニルまたは−OY基
    を表わし、そしてYは炭素原子数が1〜6のアル
    キル基又はフエニル基を表わす。] で示される珪素で修飾したポリアミドプレポリマ
    ー又はポリアミド酸プレポリマーまたはポリアミ
    ド−アミド酸プレポリマーの有機溶液でコーテイ
    ングし、コーテイングした金属箔を50〜350℃の
    温度に加熱して有機溶媒を蒸発させる柔軟性基材
    の製造方法。 7 水吸収性物質で安定化した、珪素で修飾した
    ポリアミドプレポリマー、ポリアミド酸プレポリ
    マーまたはポリアミド−アミド酸プレポリマーの
    有機溶液をコーテイングに使用する特許請求の範
    囲第6項に記載の方法。 8 更に流動調整剤を含有する、珪素で修飾した
    ポリアミドプレポリマー、ポリアミド酸プレポリ
    マーまたはポリアミド−アミド酸プレポリマーの
    有機溶液をコーテイングに使用する特許請求の範
    囲第6項または第7項に記載の方法。
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Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59188431A (ja) * 1983-04-11 1984-10-25 信越化学工業株式会社 無機質材とポリイミド系樹脂とからなる構造体
EP0167020B1 (de) * 1984-06-30 1988-11-23 Akzo Patente GmbH Flexible Polyimid-Mehrschichtlaminate
US4764413A (en) * 1984-09-13 1988-08-16 Sharp Kabushiki Kaisha Metal-based organic film substrate
DE3434672C2 (de) * 1984-09-21 1986-09-11 Fa. Carl Freudenberg, 6940 Weinheim Verfahren zur Herstellung von flexiblen Leiterplatten für hohe Biegebeanspruchung
JPS6162025U (ja) * 1984-09-28 1986-04-26
DE3506526A1 (de) * 1985-02-25 1986-08-28 Akzo Gmbh, 5600 Wuppertal Gedrucktes schaltelement mit polyimid enthaltender deckschicht
DE3506524A1 (de) * 1985-02-25 1986-08-28 Akzo Gmbh, 5600 Wuppertal Flexible polyimid-mehrschichtlaminate
JPH0617474B2 (ja) * 1985-05-31 1994-03-09 チッソ株式会社 高接着性シリコン含有ポリアミド酸の製造法
US4643936A (en) * 1986-02-14 1987-02-17 Control Data Corporation Backup material for small bore drilling
USRE32759E (en) * 1986-02-14 1988-10-04 Control Data Corporation Backup material for small bore drilling
US4714646A (en) * 1986-03-24 1987-12-22 International Business Machines Corporation Electrophoretic insulation of metal circuit board core
US5063115A (en) * 1987-08-21 1991-11-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Electronic device coated with a polyimide coating composition
FR2625450B1 (fr) * 1988-01-05 1992-05-07 Corning Glass Works Article muni d'un revetement anti-adherent presentant une adhesion audit substrat et une durabilite ameliorees, sa fabrication et composition mise en oeuvre
JPH02161740A (ja) * 1988-12-15 1990-06-21 Chisso Corp キャリヤーテープの製造方法
US5144742A (en) * 1991-02-27 1992-09-08 Zycon Corporation Method of making rigid-flex printed circuit boards
US5250758A (en) * 1991-05-21 1993-10-05 Elf Technologies, Inc. Methods and systems of preparing extended length flexible harnesses
JPH06308730A (ja) * 1993-04-26 1994-11-04 Chisso Corp 感光性ポリイミド前駆体組成物
US5897522A (en) 1995-12-20 1999-04-27 Power Paper Ltd. Flexible thin layer open electrochemical cell and applications of same
ES2127125B1 (es) * 1997-02-05 1999-11-16 Mecanismos Aux Ind Unos perfeccionamientos introducidos en la fabricacion de circuitos impresos.
US6281275B1 (en) 1998-05-29 2001-08-28 Alchemetal Corp. Polymeric coating compositions, polymer coated substrates, and methods of making and using the same
US20050181275A1 (en) * 2004-02-18 2005-08-18 Jang Bor Z. Open electrochemical cell, battery and functional device
US7413670B2 (en) * 2004-06-25 2008-08-19 Mutual-Pak Technology Co., Ltd. Method for forming wiring on a substrate
US20070155948A1 (en) * 2005-12-30 2007-07-05 Tadashi Ishibashi Multi-functional polyamic acids, and compositions and methods relating thereto

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3809591A (en) * 1971-12-27 1974-05-07 Celanese Corp Polyamide-metal structure
CH580125A5 (ja) * 1972-08-25 1976-09-30 Ciba Geigy Ag
US3948835A (en) * 1973-06-07 1976-04-06 Ciba-Geigy Corporation Silicon-modified prepolymers
CH634851A5 (de) * 1977-09-09 1983-02-28 Ciba Geigy Ag Verfahren zur herstellung von imidyl- und silylgruppenhaltigen polymeren.

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CA1184814A (en) 1985-04-02
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US4562119A (en) 1985-12-31

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