JPH01171026U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01171026U JPH01171026U JP6864788U JP6864788U JPH01171026U JP H01171026 U JPH01171026 U JP H01171026U JP 6864788 U JP6864788 U JP 6864788U JP 6864788 U JP6864788 U JP 6864788U JP H01171026 U JPH01171026 U JP H01171026U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction chamber
- vertical
- plasma cvd
- cvd apparatus
- serve
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
第１図は本考案装置の一実施例の構成を示す簡
略縦断面図、第２図はその簡略横断面図、第３図
及び第４図は従来の横型プラズマＣＶＤ装置の各
例を示す簡略縦断面図、第５図は従来の縦型プラ
ズマＣＶＤ装置の一例を示す簡略縦断面図である
。 １……縦型（抵抗加熱）ヒータ、２……反応室
、２ａ……（石英）外側反応管、２ｂ……（石英
）内側反応管、３ａ，３ｂ……一対のウエーハ保
持兼用のプラズマ発生用電極、４……ウエーハ、
５……電極支持部、６……反応ガス導入部、７…
…シールフランジ、８……高周波電力導入部、９
……発振器、１０……昇降機構部、１１……排出
装置（ポンプ）。
略縦断面図、第２図はその簡略横断面図、第３図
及び第４図は従来の横型プラズマＣＶＤ装置の各
例を示す簡略縦断面図、第５図は従来の縦型プラ
ズマＣＶＤ装置の一例を示す簡略縦断面図である
。 １……縦型（抵抗加熱）ヒータ、２……反応室
、２ａ……（石英）外側反応管、２ｂ……（石英
）内側反応管、３ａ，３ｂ……一対のウエーハ保
持兼用のプラズマ発生用電極、４……ウエーハ、
５……電極支持部、６……反応ガス導入部、７…
…シールフランジ、８……高周波電力導入部、９
……発振器、１０……昇降機構部、１１……排出
装置（ポンプ）。
Claims (1)
- 縦型ヒータ１内に減圧可能な反応室２を設け、
この反応室２内に、一対のウエーハ保持兼用のプ
ラズマ発生用電極３ａ，３ｂを平行に多数対、放
射状に垂設せしめてなる縦型プラズマＣＶＤ装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6864788U JPH01171026U (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6864788U JPH01171026U (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01171026U true JPH01171026U (ja) | 1989-12-04 |
Family
ID=31293955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6864788U Pending JPH01171026U (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01171026U (ja) |
-
1988
- 1988-05-23 JP JP6864788U patent/JPH01171026U/ja active Pending