JPH01170967A - 画像形成方法 - Google Patents
画像形成方法Info
- Publication number
- JPH01170967A JPH01170967A JP32906987A JP32906987A JPH01170967A JP H01170967 A JPH01170967 A JP H01170967A JP 32906987 A JP32906987 A JP 32906987A JP 32906987 A JP32906987 A JP 32906987A JP H01170967 A JPH01170967 A JP H01170967A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- image
- group
- layer
- photoreceptor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 44
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 34
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 34
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 21
- 238000011161 development Methods 0.000 claims abstract description 21
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 57
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 53
- -1 phthalocyanine compound Chemical class 0.000 claims description 36
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 20
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 11
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000007786 electrostatic charging Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 105
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 21
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 15
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 8
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N oxytitamium phthalocyanine Chemical compound [Ti+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 4
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010027146 Melanoderma Diseases 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N Menadione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(C)=CC(=O)C2=C1 MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 2
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 2
- YDSWCNNOKPMOTP-UHFFFAOYSA-N mellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O YDSWCNNOKPMOTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 2
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L titanium(ii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ti+2] ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene Chemical compound ClC(Cl)=C LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLUXVUVEVXYICG-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC#N.ClC(Cl)=C QLUXVUVEVXYICG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMNSBFYYVHREEE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dinitroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C([N+]([O-])=O)C([N+](=O)[O-])=CC=C3C(=O)C2=C1 NMNSBFYYVHREEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZUKQUVSCNEFMJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O IZUKQUVSCNEFMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVMIKRZPDSXBTP-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibromobutan-2-one Chemical compound CC(Br)C(=O)CBr XVMIKRZPDSXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVHXEHGUEKARKZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C=C)=CC=CC3=CC2=C1 UVHXEHGUEKARKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPMHMYHJGDAHKX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrene Chemical compound C1=C2C(C=C)=CC=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 WPMHMYHJGDAHKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKNIDKXOANSRCS-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trinitrofluoren-1-one Chemical compound C1=CC=C2C3=C([N+](=O)[O-])C([N+]([O-])=O)=C([N+]([O-])=O)C(=O)C3=CC2=C1 FKNIDKXOANSRCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIEFDNUEROKZRA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethenyl)aniline Chemical class NC1=CC=CC=C1C=CC1=CC=CC=C1 BIEFDNUEROKZRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LWFUFLREGJMOIZ-UHFFFAOYSA-N 3,5-dinitrosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1O LWFUFLREGJMOIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITUYMTWJWYTELW-UHFFFAOYSA-N 4-chloroiminocyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical compound ClN=C1C=CC(=O)C=C1 ITUYMTWJWYTELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFZMKDROVBLNY-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O ROFZMKDROVBLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMVIDXVHQANYAE-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 MMVIDXVHQANYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEXUTNIFSHFQRG-UHFFFAOYSA-N 6,7,12,13-tetrahydro-5h-indolo[2,3-a]pyrrolo[3,4-c]carbazol-5-one Chemical compound C12=C3C=CC=C[C]3NC2=C2NC3=CC=C[CH]C3=C2C2=C1C(=O)NC2 MEXUTNIFSHFQRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 241000283690 Bos taurus Species 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- QHWKHLYUUZGSCW-UHFFFAOYSA-N Tetrabromophthalic anhydride Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Br QHWKHLYUUZGSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- LZBCVRCTAYKYHR-UHFFFAOYSA-N acetic acid;chloroethene Chemical compound ClC=C.CC(O)=O LZBCVRCTAYKYHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical class C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003868 ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229940058303 antinematodal benzimidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 229940027998 antiseptic and disinfectant acridine derivative Drugs 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007860 aryl ester derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- CJPQIRJHIZUAQP-MRXNPFEDSA-N benalaxyl-M Chemical compound CC=1C=CC=C(C)C=1N([C@H](C)C(=O)OC)C(=O)CC1=CC=CC=C1 CJPQIRJHIZUAQP-MRXNPFEDSA-N 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical class N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N cadmium helium Chemical compound [He].[Cd] UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000711 cancerogenic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 1
- 231100000315 carcinogenic Toxicity 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical class O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 150000001907 coumarones Chemical class 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007970 homogeneous dispersion Substances 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000002461 imidazolidines Chemical class 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 229940102253 isopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- NNYHMCFMPHPHOQ-UHFFFAOYSA-N mellitic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C2=C1C(C(OC1=O)=O)=C1C1=C2C(=O)OC1=O NNYHMCFMPHPHOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 150000007978 oxazole derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical class C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N phthalonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1C#N XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical class N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000010187 selection method Methods 0.000 description 1
- 229960005265 selenium sulfide Drugs 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N squaric acid Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C1=O PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000004867 thiadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000007979 thiazole derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Developing For Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は画像形成方法に関し、特に電子写真複写方法に
関するものである。
関するものである。
口、従来技術
カールソン方法の電子写真複写方法においては感光体表
面に帯電させた後、露光によって静電潜像を形成すると
共に、その静電潜像をトナーによって現像し、次いでそ
の可視像を紙等に転写、定着させる。同時に、感光体は
付着トナーの除去や除電、表面の清浄化が施され、長期
に亘って反復使用される。
面に帯電させた後、露光によって静電潜像を形成すると
共に、その静電潜像をトナーによって現像し、次いでそ
の可視像を紙等に転写、定着させる。同時に、感光体は
付着トナーの除去や除電、表面の清浄化が施され、長期
に亘って反復使用される。
従って、電子写真感光体としては、帯電特性および感度
が良好で暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論である
が、加えて繰返し使用での耐剛性、耐摩耗性、耐湿性等
の物理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光
時の紫外線等への耐性(耐環境性)においても良好であ
ることが要求される。
が良好で暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論である
が、加えて繰返し使用での耐剛性、耐摩耗性、耐湿性等
の物理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光
時の紫外線等への耐性(耐環境性)においても良好であ
ることが要求される。
従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感光
層を有する無機感光体が広く用いられている。
化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感光
層を有する無機感光体が広く用いられている。
一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
層の材料として利用することが近年活発に開発、研究さ
れている。
層の材料として利用することが近年活発に開発、研究さ
れている。
例えば特公昭50−10496号公報には、ポリ−N−
ビニルカルバゾールと2.4.7−ドリニトロー9−フ
ルオレノンを含有した感光層を有する有機感光体につい
て記載されている。しかし、この感光体は、感度及び耐
久性において必ずしも満足できるものではない。このよ
うな欠点を改善するために、感光層において、キャリア
発生機能とキャリア輸送機能とを異なる物質に個別に分
担させることにより、感度が高くて耐久性の大きい有機
感光体を開発する試みがなされている。このようないわ
ば機能分離型の電子写真感光体においては、各機能を発
揮する物質を広い範囲のものから選択することができる
ので、任意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易
に作製することが可能である。そのため、感度が高く、
耐久性の大きい有機感光体が得られることが期待されて
いる。
ビニルカルバゾールと2.4.7−ドリニトロー9−フ
ルオレノンを含有した感光層を有する有機感光体につい
て記載されている。しかし、この感光体は、感度及び耐
久性において必ずしも満足できるものではない。このよ
うな欠点を改善するために、感光層において、キャリア
発生機能とキャリア輸送機能とを異なる物質に個別に分
担させることにより、感度が高くて耐久性の大きい有機
感光体を開発する試みがなされている。このようないわ
ば機能分離型の電子写真感光体においては、各機能を発
揮する物質を広い範囲のものから選択することができる
ので、任意の特性を有する電子写真感光体を比較的容易
に作製することが可能である。そのため、感度が高く、
耐久性の大きい有機感光体が得られることが期待されて
いる。
第8図は、こうした有機光導電性物質を用いる機能分離
型の電子写真感光体を示すものである。
型の電子写真感光体を示すものである。
この電子写真感光体は、4電性基体1の上にキャリア発
生層6、キャリア輸送層4を順次積層した構成とされて
おり、負帯電用として使用されているものである。即ち
、感光層8はキャリア発生層6とキャリア輸送層4から
構成されている。
生層6、キャリア輸送層4を順次積層した構成とされて
おり、負帯電用として使用されているものである。即ち
、感光層8はキャリア発生層6とキャリア輸送層4から
構成されている。
上述のような層構成を有する電子写真感光体においては
、負帯電使用の場合に電子よりもホールの移動度が大き
いことから、良好な特性を有するホール輸送性の光導電
材料を使用でき、光感度等の点で有利である。
、負帯電使用の場合に電子よりもホールの移動度が大き
いことから、良好な特性を有するホール輸送性の光導電
材料を使用でき、光感度等の点で有利である。
これに対し、電子輸送性の材料には優れた特性を持つも
のが殆どなく、あるいは発がん性を有するので使用に適
さない。がかる理由より、上述のような感光体は負帯電
用に使用されている。この場合、高感度を達成する上で
、ホール輸送能の大きな材料を使用することが有利であ
る。
のが殆どなく、あるいは発がん性を有するので使用に適
さない。がかる理由より、上述のような感光体は負帯電
用に使用されている。この場合、高感度を達成する上で
、ホール輸送能の大きな材料を使用することが有利であ
る。
しかしながら、上述のような感光体においては、第8図
に示すように負帯電時に導電性基体又は下層側からのキ
ャリア注入が生じ易く、このために表面電荷が微視的に
みて消失し、あるいは減少してしまう。こうした局所的
なキャリア注入の生じる原因は定かではないが、導電性
基体表面の欠陥や不均一あるいは電荷発生層の不均一等
が原因として考えられる。
に示すように負帯電時に導電性基体又は下層側からのキ
ャリア注入が生じ易く、このために表面電荷が微視的に
みて消失し、あるいは減少してしまう。こうした局所的
なキャリア注入の生じる原因は定かではないが、導電性
基体表面の欠陥や不均一あるいは電荷発生層の不均一等
が原因として考えられる。
そして、こうした局所的なキャリア注入によって以下の
問題点が生じている。
問題点が生じている。
即ち、最近、例えばデジタル処理を伴うプリンタ等にお
いて反転現像が多く採用されているが、反転現像法にお
いては、露光部(表面電荷の消失した部分、Vt)にト
ナー像が形成され、未露光部(表面電荷が保持されてい
る部分、VH)にはトナー像が形成されない。
いて反転現像が多く採用されているが、反転現像法にお
いては、露光部(表面電荷の消失した部分、Vt)にト
ナー像が形成され、未露光部(表面電荷が保持されてい
る部分、VH)にはトナー像が形成されない。
しかしながら、反転現像法において、上記した如くにし
て未露光部で基体あるいは下層からのキャリア注入等に
より表面電荷が微視的に消失又は減少した場合には、そ
の部分にトナーが現像され、いわゆるカブリ画像となる
。このようなカプリは通常のカブリとは異なり、上述の
ように反転現像において感光体上の表面電荷が微視的に
消失、減少することにより発生する現象であり、「黒ポ
チ」と呼ばれている。こうした黒ポチは、白地にトナー
が局所的に付着した状態であるから、黒地部分が白く抜
ける場合と比べて非常に目立ち、画像の品質を著しく低
下させるものであって、不適当な画像欠陥である。
て未露光部で基体あるいは下層からのキャリア注入等に
より表面電荷が微視的に消失又は減少した場合には、そ
の部分にトナーが現像され、いわゆるカブリ画像となる
。このようなカプリは通常のカブリとは異なり、上述の
ように反転現像において感光体上の表面電荷が微視的に
消失、減少することにより発生する現象であり、「黒ポ
チ」と呼ばれている。こうした黒ポチは、白地にトナー
が局所的に付着した状態であるから、黒地部分が白く抜
ける場合と比べて非常に目立ち、画像の品質を著しく低
下させるものであって、不適当な画像欠陥である。
こうした問題を解決する方法として、キャリア輸送層4
において、キャリア輸送物質(以下、CTMと呼ぶこと
がある。)の含有量を減らし、あるいはCTMやバイン
ダー樹脂の種類を変更することが考えられる。これらは
いずれも、キャリア輸送層4のホール輸送能を低下せし
めて感光体表面へのキャリア注入を抑制しようとするも
のであるが、この感光体では、光感度の低下、残留電位
の上昇、lv Ltの上昇、繰り返し使用時のIV 4
安定性の低下を招き、しがち温度特性の低下を生じ、低
温においては特にIV Llの上昇等、感光体特性が大
きく悪化する。
において、キャリア輸送物質(以下、CTMと呼ぶこと
がある。)の含有量を減らし、あるいはCTMやバイン
ダー樹脂の種類を変更することが考えられる。これらは
いずれも、キャリア輸送層4のホール輸送能を低下せし
めて感光体表面へのキャリア注入を抑制しようとするも
のであるが、この感光体では、光感度の低下、残留電位
の上昇、lv Ltの上昇、繰り返し使用時のIV 4
安定性の低下を招き、しがち温度特性の低下を生じ、低
温においては特にIV Llの上昇等、感光体特性が大
きく悪化する。
また、キャリア発生層6において、キャリア発生物質の
バインダー樹脂に対する含有率を減少せしめる方法もあ
るが、これでは光感度の低下、lv Llの上昇を招き
、画像濃度が不充分となる。
バインダー樹脂に対する含有率を減少せしめる方法もあ
るが、これでは光感度の低下、lv Llの上昇を招き
、画像濃度が不充分となる。
更に、導電性基体1とキャリア発生層6との間に電荷注
入を遮蔽する機能を有する下引き層を設けることも考え
られるが、キャリア発生層6を下引き層上に塗布する際
に、キャリア発生物質の種類によってはキャリア発生物
質の凝集を生じて塗布不良となり、黒ポチの増加、画像
濃度の低下、更には画像ムラをも招き、著しい不都合を
生じた。
入を遮蔽する機能を有する下引き層を設けることも考え
られるが、キャリア発生層6を下引き層上に塗布する際
に、キャリア発生物質の種類によってはキャリア発生物
質の凝集を生じて塗布不良となり、黒ポチの増加、画像
濃度の低下、更には画像ムラをも招き、著しい不都合を
生じた。
一方、プロセス面からの対策としては、帯電電位■、と
バイアス電圧VDCとの差を大きくすることが考えられ
るが、これでは露光部の電位V、とバイアス電圧VDC
との差が小さくなるため、画像濃度が低下する。
バイアス電圧VDCとの差を大きくすることが考えられ
るが、これでは露光部の電位V、とバイアス電圧VDC
との差が小さくなるため、画像濃度が低下する。
以上のように、従来黒ポチ等の画像欠陥を解消し、かつ
良好な感光体特性を有する感光体は知られておらず、か
かる互いに相反する課題の技術的解決が望まれていたの
である。
良好な感光体特性を有する感光体は知られておらず、か
かる互いに相反する課題の技術的解決が望まれていたの
である。
また、近年電子写真複写方法において、安価、小型で直
接変調できる等の特徴を有する半導体レーザー光源が用
いられている。
接変調できる等の特徴を有する半導体レーザー光源が用
いられている。
現在、半導体レーザーとして広範に用いられているガリ
ウムーアルミニウムーヒ素(Ga−Al−As)系発光
素子は、発振波長が750nm程度以上である。このよ
うな長波長光に高感度の電子写真感光体を得るために、
従来数多くの検討がなされてきた。例えば、可視光領域
に高感度を有するセレン、硫化カドミウム等の感光材料
に、新たに長波長化するための増感剤を添加する方法が
考えられたが、セレン、硫化カドミウムは温度、湿度等
に対する耐環境性が十分でなく、毒性もあって実用化に
は問題がある。また、多数知られている有機系光導電材
料も、その感度が通常700nm以下の可視光領域に限
定され、これより長波長域に十分な感度を存する材料は
少ないため、高信頼性の期待される半導体レーザー光源
を用いるレーザープリンタに用いることは困難であった
。
ウムーアルミニウムーヒ素(Ga−Al−As)系発光
素子は、発振波長が750nm程度以上である。このよ
うな長波長光に高感度の電子写真感光体を得るために、
従来数多くの検討がなされてきた。例えば、可視光領域
に高感度を有するセレン、硫化カドミウム等の感光材料
に、新たに長波長化するための増感剤を添加する方法が
考えられたが、セレン、硫化カドミウムは温度、湿度等
に対する耐環境性が十分でなく、毒性もあって実用化に
は問題がある。また、多数知られている有機系光導電材
料も、その感度が通常700nm以下の可視光領域に限
定され、これより長波長域に十分な感度を存する材料は
少ないため、高信頼性の期待される半導体レーザー光源
を用いるレーザープリンタに用いることは困難であった
。
かかるレーザービーム等を用いる技術体系はプリンクへ
の応用が期待されており、有用な反転現像による画像形
成方法の出現が望まれるゆえんである。
の応用が期待されており、有用な反転現像による画像形
成方法の出現が望まれるゆえんである。
ハ0発明の目的
本発明の目的は、黒ポチの生じ易い反転現像法において
、黒ポチ等の画像欠陥を著しく減少せしめ、画像濃度が
高く高品質で均一な画像を得ることのできる画像形成方
法を提供することである。
、黒ポチ等の画像欠陥を著しく減少せしめ、画像濃度が
高く高品質で均一な画像を得ることのできる画像形成方
法を提供することである。
二0発明の構成及びその作用効果
本発明は、キャリア発生層の上にキャリア輸送層を設け
てなる感光層を有する感光体を使用する画像形成方法に
おいて、 (a)、フタロシアニン化合物がキャリア発生物質とし
て含有されているキャリア発生層と゛このキャリア発生
層と導電性基体との間に設けられかつ置換若しくは未置
換のビニルフェノール構造単位を有する樹脂が含有され
ている電荷ブロッキング層とを有する感光体を使用し、
(b)、この感光体に帯電電位の絶対値が400 V〜
900 Vである帯電を付与した後、露光により静電潜
像を形成し、次いで前記帯電電位の絶対値よりもθ〜2
00■低い絶対値を有する直流バイアス電圧を印加して
、前記静電潜像の反転現像を行なう ことを特徴とする画像形成方法に係るものである。
てなる感光層を有する感光体を使用する画像形成方法に
おいて、 (a)、フタロシアニン化合物がキャリア発生物質とし
て含有されているキャリア発生層と゛このキャリア発生
層と導電性基体との間に設けられかつ置換若しくは未置
換のビニルフェノール構造単位を有する樹脂が含有され
ている電荷ブロッキング層とを有する感光体を使用し、
(b)、この感光体に帯電電位の絶対値が400 V〜
900 Vである帯電を付与した後、露光により静電潜
像を形成し、次いで前記帯電電位の絶対値よりもθ〜2
00■低い絶対値を有する直流バイアス電圧を印加して
、前記静電潜像の反転現像を行なう ことを特徴とする画像形成方法に係るものである。
但し、帯電電位と直流バイアス電圧とは同符号とする。
本発明においては、フタロシアニン化合物をキャリア発
生層中に含有せしめ、かつこのキャリア発生層と導電性
基体との間に設けられた電荷ブロッキング層の材質を特
定している点に顕著な特徴を有する。
生層中に含有せしめ、かつこのキャリア発生層と導電性
基体との間に設けられた電荷ブロッキング層の材質を特
定している点に顕著な特徴を有する。
即ち、導電性基体とキャリア発生層との間に電荷ブロッ
キング層を設けることにより、反転現像において黒ポチ
の発生を防止できる。この理由は明らかではないが、一
応次のように考えられる。
キング層を設けることにより、反転現像において黒ポチ
の発生を防止できる。この理由は明らかではないが、一
応次のように考えられる。
即ち、第8図に示したような従来の感光体においては、
基体1側から注入されるキャリア(ホール)はキャリア
発生層6中を容易に通過し、ホール輸送性の高いキャリ
ア輸送層4を介して感光体表面にまで至るのである。言
い換えると、キャリア発生層6は局所的なキャリア注入
に対する障壁としては機能し得ないのである。
基体1側から注入されるキャリア(ホール)はキャリア
発生層6中を容易に通過し、ホール輸送性の高いキャリ
ア輸送層4を介して感光体表面にまで至るのである。言
い換えると、キャリア発生層6は局所的なキャリア注入
に対する障壁としては機能し得ないのである。
これに対し、本発明においては、基体とキャリア発生層
との間に電荷ブロッキング層を設けることにより、導電
性基体側からの局所的なキャリア注入に対する障壁を設
けることができ、局所的なキャリア注入による表面電荷
の消失、減少を阻止できると考えられる。従って、反転
現像を行った場合に画像上に黒ポチが生ずることはなく
、画像欠陥のない高品質の画像を得るという顕著な作用
効果を奏することができる。
との間に電荷ブロッキング層を設けることにより、導電
性基体側からの局所的なキャリア注入に対する障壁を設
けることができ、局所的なキャリア注入による表面電荷
の消失、減少を阻止できると考えられる。従って、反転
現像を行った場合に画像上に黒ポチが生ずることはなく
、画像欠陥のない高品質の画像を得るという顕著な作用
効果を奏することができる。
しかしながら、ここにおいて重要なことはキャリア発生
物質と電荷ブロッキング層の材質との選択であり、両者
の組み合わせなのである。
物質と電荷ブロッキング層の材質との選択であり、両者
の組み合わせなのである。
即ち、キャリア発生層は電荷ブロッキング層の上に直接
塗布形成され、しかもそれ自体極めて薄いものであるか
ら、キャリア発生物質と電荷ブロッキング層の材質との
組み合わせの如何によっては、キャリア発生物質の凝集
、塗布不良を生じ、黒ポチが著しく増加し、光感度の低
下、更には画像ムラを生じるため、はなはだしく不都合
である。
塗布形成され、しかもそれ自体極めて薄いものであるか
ら、キャリア発生物質と電荷ブロッキング層の材質との
組み合わせの如何によっては、キャリア発生物質の凝集
、塗布不良を生じ、黒ポチが著しく増加し、光感度の低
下、更には画像ムラを生じるため、はなはだしく不都合
である。
しかし、無数に存在する高分子材料、多数のキャリア発
生物質中から、塗布不良を生じないような好適な組み合
わせを選択するについて一般的、画一的な選択手段があ
るというのではなく、実験の積み重ねにより良好な組み
合わせを決定していく他ないのが実情といえる。
生物質中から、塗布不良を生じないような好適な組み合
わせを選択するについて一般的、画一的な選択手段があ
るというのではなく、実験の積み重ねにより良好な組み
合わせを決定していく他ないのが実情といえる。
ここに、本発明者は種々検討の結果、上記したフタロシ
アニン化合物と、置換若しくは未置換のビニルフェノー
ル構造単位を有する樹脂との組み合わせを特に選択する
ことにより、極めて良好な結果が得られることを見出し
た。
アニン化合物と、置換若しくは未置換のビニルフェノー
ル構造単位を有する樹脂との組み合わせを特に選択する
ことにより、極めて良好な結果が得られることを見出し
た。
即ち、上記したフタロシアニン化合物は光感度に優れて
おり、この化合物をキャリア発生物質として使用するこ
とにより、感光体の繰り返し使用時の電位安定性が良く
なり、メモリー現象も少なことから、半導体レーザーを
光源とする反転現像による画像形成方法に特にマツチン
グした高性能の感光体を提供できる。
おり、この化合物をキャリア発生物質として使用するこ
とにより、感光体の繰り返し使用時の電位安定性が良く
なり、メモリー現象も少なことから、半導体レーザーを
光源とする反転現像による画像形成方法に特にマツチン
グした高性能の感光体を提供できる。
また、置換若しくは未置換のビニルフェノール構造単位
を有する樹脂を電荷ブロッキング層へと含有せしめるこ
とにより、上記フタロシアニン化合物がキャリア発生層
の塗布形成時に凝集することがなく、従って反転現像に
おいて黒ポチ、画像ムラを防止できると共に、上記フタ
ロシアニン化合物がキャリア発生層中に均一に分散され
、上記フタロシアニン化合物の本来の光感度を妨げるこ
とな(発揮せしめるEとができる。従って、高品質かつ
均一な画像を提供でき、画像濃度も高くできる。
を有する樹脂を電荷ブロッキング層へと含有せしめるこ
とにより、上記フタロシアニン化合物がキャリア発生層
の塗布形成時に凝集することがなく、従って反転現像に
おいて黒ポチ、画像ムラを防止できると共に、上記フタ
ロシアニン化合物がキャリア発生層中に均一に分散され
、上記フタロシアニン化合物の本来の光感度を妨げるこ
とな(発揮せしめるEとができる。従って、高品質かつ
均一な画像を提供でき、画像濃度も高くできる。
更に、本発明において注目すべきことは、上記したこと
に加えて、既述した1v工1で表される帯電11即ちl
v 、Il < 4oovでは、必要とされる電界強度
を得ることが困難であるが、lV、l> (loovと
するとこのためには感光層の膜厚が大きくなり、これに
よって感度が低下し、好ましくない。また、本発明では
1■、41と1v−cl(直流バイアス電圧の絶対値)
との差であるlv、l−1v−を0〜200 Vと特定
していることも重要である。即ち、lv Hl −1v
DJ<Ovの場合にはカブリが発生してしまい、また
、1vHI lvl、cl> 200V(7)場合4
;tニーt−+ ’J T付iF <二成分現像剤のと
き)や逆極性トナーの付着(両極性−成分現像剤のとき
)が生じてしまうのである。
に加えて、既述した1v工1で表される帯電11即ちl
v 、Il < 4oovでは、必要とされる電界強度
を得ることが困難であるが、lV、l> (loovと
するとこのためには感光層の膜厚が大きくなり、これに
よって感度が低下し、好ましくない。また、本発明では
1■、41と1v−cl(直流バイアス電圧の絶対値)
との差であるlv、l−1v−を0〜200 Vと特定
していることも重要である。即ち、lv Hl −1v
DJ<Ovの場合にはカブリが発生してしまい、また
、1vHI lvl、cl> 200V(7)場合4
;tニーt−+ ’J T付iF <二成分現像剤のと
き)や逆極性トナーの付着(両極性−成分現像剤のとき
)が生じてしまうのである。
従って、本発明に基づいて、IVll+= 400〜9
00V(望ましくは500〜700 V )とすべきで
あり、かつ1vHI IVoJ= o〜2QOV (
望ましくは50〜150■)とすべきであり、これらの
条件で反転現像を行うことが高感度を保持しながら、高
画質で黒ポチのない良好な画像を得るための必須不可欠
な条件である。
00V(望ましくは500〜700 V )とすべきで
あり、かつ1vHI IVoJ= o〜2QOV (
望ましくは50〜150■)とすべきであり、これらの
条件で反転現像を行うことが高感度を保持しながら、高
画質で黒ポチのない良好な画像を得るための必須不可欠
な条件である。
しかも、反転現像法によるものであるから、特に、プリ
ンタに適用した場合等においては、文字部(黒地部)が
白地部よりも面積が小(即ち、露光面積が小)であり、
正規現像法による場合に比べて感光体の劣化防止等の面
で有利である。
ンタに適用した場合等においては、文字部(黒地部)が
白地部よりも面積が小(即ち、露光面積が小)であり、
正規現像法による場合に比べて感光体の劣化防止等の面
で有利である。
以上述べてきたように、本発明によれば、キャリア発生
物質の種類と電荷ブロッキング層の材質とを特に選択す
ること等により、反転現像において黒ポチ、画像ムラ、
キャリア付着、カブリを防止し、かつ均一で画像濃度が
高い高品質の画像を提供できる。
物質の種類と電荷ブロッキング層の材質とを特に選択す
ること等により、反転現像において黒ポチ、画像ムラ、
キャリア付着、カブリを防止し、かつ均一で画像濃度が
高い高品質の画像を提供できる。
本発明に使用する感光体、例えば電子写真感光体の一般
的な構成を第1図に例示する。
的な構成を第1図に例示する。
第1図の感光体においては、導電性基体1の上に電荷ブ
ロッキング層7を介してキャリア発生層6が設けられ、
キャリア発生層6上にキャリア輸送層4が設けられてい
る。8は感光層を示す。
ロッキング層7を介してキャリア発生層6が設けられ、
キャリア発生層6上にキャリア輸送層4が設けられてい
る。8は感光層を示す。
第1図のような感光体において、キャリア発生層とキャ
リア輸送層との間に、ブロッキング機能等を付与された
中間層を設けても良い。また、耐刷性向上等のため感光
体表面に保護層(保護膜)を形成しても良く、例えば合
成樹脂被膜をコーティングして良い。
リア輸送層との間に、ブロッキング機能等を付与された
中間層を設けても良い。また、耐刷性向上等のため感光
体表面に保護層(保護膜)を形成しても良く、例えば合
成樹脂被膜をコーティングして良い。
キャリア発生層において一般的には、粒状のキャリア発
生物質とキャリア輸送物質とがバインダー物質で結着さ
れている。即ち、層中に顔料の形で分散されている。
生物質とキャリア輸送物質とがバインダー物質で結着さ
れている。即ち、層中に顔料の形で分散されている。
次に、本発明でキャリア発生物質として使用するフタロ
シアニン化合物について述べる。
シアニン化合物について述べる。
即ち、有機系光導電材料の一つであるフタロシアニン系
化合物は、他のものに比べ感光域が長波長域に拡大して
いることが知られている。そしてα型のフタロシアニン
化合物が結晶形の安定なβ型のフタロシアニン化合物に
変わる過程で各種結晶形のフタロシアニン化合物が見出
されている。
化合物は、他のものに比べ感光域が長波長域に拡大して
いることが知られている。そしてα型のフタロシアニン
化合物が結晶形の安定なβ型のフタロシアニン化合物に
変わる過程で各種結晶形のフタロシアニン化合物が見出
されている。
これらの光導電性を示すフタロシアニン系化合物として
は、例えば特公昭49−4338号公頼記載のX型無金
属フタロシアニン化合物、特開昭58−182639号
公報、特開昭60−19151号公報に記載されている
τ、τ゛、η、η°型型金金属フタロシアニン化合物特
願昭61−295784号明細書に記載されているフタ
ロシアニン化合物等の他、各種の金属フタロシアニン化
合物が例示される。例えばチタニルフタロシアニン化合
物について特願昭62−241938号明細書に記載さ
れているものがある。
は、例えば特公昭49−4338号公頼記載のX型無金
属フタロシアニン化合物、特開昭58−182639号
公報、特開昭60−19151号公報に記載されている
τ、τ゛、η、η°型型金金属フタロシアニン化合物特
願昭61−295784号明細書に記載されているフタ
ロシアニン化合物等の他、各種の金属フタロシアニン化
合物が例示される。例えばチタニルフタロシアニン化合
物について特願昭62−241938号明細書に記載さ
れているものがある。
この他、特に半導体レーザーに好適なフタロシアニン化
合物を例示する。
合物を例示する。
フタロシアニン例示化合物
次に、置換若しくは未置換のビニルフェノール構造単位
を有する樹脂について述べる。
を有する樹脂について述べる。
ビニルフェノール構造単位としては次のものが例示され
る。
る。
等が例示される。
また、上記ビニルフェノール構造単位と他の単量体、ビ
ニル単量体とを共重合せしめた共重合体樹脂でもよい。
ニル単量体とを共重合せしめた共重合体樹脂でもよい。
かかる単量体(モノマー)は種々選択でき、共重合体の
特性を最適に調整することができる。
特性を最適に調整することができる。
共重合酸モノマーとしては、公知のものを使用でき、例
えば酢酸ビニル、プロピオン酸等のビニルエステル、塩
化ビニル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、スチレン、アクリル酸、メタクリル酸、
種々のアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、エ
チレン、プロピレン、イソブチン、ブタジェン、イソプ
レン、ビニルエーテル、アリールエーテル、アリールエ
ステル、アクリルアミド、メタクリルアミド、マレイン
酸エステル等が例示される。
えば酢酸ビニル、プロピオン酸等のビニルエステル、塩
化ビニル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、スチレン、アクリル酸、メタクリル酸、
種々のアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、エ
チレン、プロピレン、イソブチン、ブタジェン、イソプ
レン、ビニルエーテル、アリールエーテル、アリールエ
ステル、アクリルアミド、メタクリルアミド、マレイン
酸エステル等が例示される。
上記樹脂は乳化重合、溶液重合、懸濁重合、塊状重合等
の重合法により重合される。いずれの方法においても、
必要に応じて分子量調節剤、重合開始剤、モノマーの分
割添加あるいは連結添加などの公知の技術が応用できる
。
の重合法により重合される。いずれの方法においても、
必要に応じて分子量調節剤、重合開始剤、モノマーの分
割添加あるいは連結添加などの公知の技術が応用できる
。
下記に具体的な共重合体樹脂を例示する。
ビニルフェノ−JL/−MMA共重波型ビニルフェノー
ノヘチレン共重合物 ビニルフェノール−HEMA共重合物 ビニルフェノール−フェニルマレイミド共重合物上記に
おいて、ビニルフェノール構造単位のモル比は50%以
上であることが好ましい。具体的な商品名としては、マ
ルカ リンカ−M(平均分子1i2000〜30000
)、マルカ リンカ−MB (平均分子量6000〜7
000) 、マルカ リンカMの各種誘導体、マルカ
リンカ−CMM、マルカ リンカC3T−6、マルカ
リンカC3T−7、マルカリンカC3T−9、マルカ
リンカCHM、マルカ リンカCMI、マルカ リンカ
CMA−2(以上、丸善石油化学社製)等を例示できる
。
ノヘチレン共重合物 ビニルフェノール−HEMA共重合物 ビニルフェノール−フェニルマレイミド共重合物上記に
おいて、ビニルフェノール構造単位のモル比は50%以
上であることが好ましい。具体的な商品名としては、マ
ルカ リンカ−M(平均分子1i2000〜30000
)、マルカ リンカ−MB (平均分子量6000〜7
000) 、マルカ リンカMの各種誘導体、マルカ
リンカ−CMM、マルカ リンカC3T−6、マルカ
リンカC3T−7、マルカリンカC3T−9、マルカ
リンカCHM、マルカ リンカCMI、マルカ リンカ
CMA−2(以上、丸善石油化学社製)等を例示できる
。
電荷ブロッキング層の膜厚は0.05〜2μmの範囲内
とするのが好ましく、0.1〜0.5μmが更に好まし
い。
とするのが好ましく、0.1〜0.5μmが更に好まし
い。
キャリア発生層において、キャリア発生物質のバインダ
ー物質に対する含有量比は3/1〜1/10とするのが
好ましく、3/1〜1/3とすると更に好ましい。キャ
リア発生物質の含有量比が上記範囲より大きいと、黒ポ
チ等が著しく現れるか或いは現れ易くなる。但し、キャ
リア発生物質の割合があまり小さいと、却って光感度等
が低下してしまう。
ー物質に対する含有量比は3/1〜1/10とするのが
好ましく、3/1〜1/3とすると更に好ましい。キャ
リア発生物質の含有量比が上記範囲より大きいと、黒ポ
チ等が著しく現れるか或いは現れ易くなる。但し、キャ
リア発生物質の割合があまり小さいと、却って光感度等
が低下してしまう。
キャリア発生層の膜厚は0.1μm以上とすることが好
ましく、0.2〜5μmの範囲内とすることがより好ま
しい。
ましく、0.2〜5μmの範囲内とすることがより好ま
しい。
キャリア輸送層の膜厚は10μm以上であることが好ま
しい。
しい。
感光層全体の膜厚は10〜40μmの範囲内とするのが
好ましく、15〜30μmの範囲内とすると更に好まし
い。この膜厚が上記範囲よりも小さいと、薄いために帯
電電位が小さ(なり、耐剛性も低下する傾向がある。ま
た、膜厚が上記範囲よりも大きいと、かえって残留電位
は上昇する上に、上記したキャリア発生層が厚すぎる場
合と同様の現象が発生して、十分な輸送能が得がたくな
る傾向が現れ、このため繰り返し使用時には残留電位の
上昇が起こり易くなる。
好ましく、15〜30μmの範囲内とすると更に好まし
い。この膜厚が上記範囲よりも小さいと、薄いために帯
電電位が小さ(なり、耐剛性も低下する傾向がある。ま
た、膜厚が上記範囲よりも大きいと、かえって残留電位
は上昇する上に、上記したキャリア発生層が厚すぎる場
合と同様の現象が発生して、十分な輸送能が得がたくな
る傾向が現れ、このため繰り返し使用時には残留電位の
上昇が起こり易くなる。
キャリア発生層中にキャリア輸送物質をも含有せしめる
ことも可能である。
ことも可能である。
粒状のキャリア発生物質を分散せしめて感光層を形成す
る場合においては、当該キャリア発生物が好ましい。
る場合においては、当該キャリア発生物が好ましい。
また、キャリア輸送層において、キャリア輸送物質はバ
インダー物質との相溶性に優れたものが好ましい。これ
により、バインダー物質に対する量を多くしても濁り及
び不透明化を生ずることがないので、バインダー物質と
の混合割合を非常に広くとることができ、また、相溶性
が優れていることから電荷発生層が均一、かつ安定であ
り、結果的に感度、帯電特性がより良好となり、更に高
感度で鮮明な画像を形成できる感光体をうろことができ
る。更に、特に反復転写式電子写真に用いたとき、疲労
劣化を生ずることが少ないという作用効果を奏すること
ができる。
インダー物質との相溶性に優れたものが好ましい。これ
により、バインダー物質に対する量を多くしても濁り及
び不透明化を生ずることがないので、バインダー物質と
の混合割合を非常に広くとることができ、また、相溶性
が優れていることから電荷発生層が均一、かつ安定であ
り、結果的に感度、帯電特性がより良好となり、更に高
感度で鮮明な画像を形成できる感光体をうろことができ
る。更に、特に反復転写式電子写真に用いたとき、疲労
劣化を生ずることが少ないという作用効果を奏すること
ができる。
本発明においては、フタロシアニン化合物と共に、他の
キャリア発生物質の一種又は二種以上を併用することも
可能である。併用できるキャリア発生物質としては、ア
ントラキノン顔料、ペリレン顔料、多環牛ノン顔料、ス
クアリック酸メチン顔料、シアニン色素、アズレニウム
化合物等が挙げられる。
キャリア発生物質の一種又は二種以上を併用することも
可能である。併用できるキャリア発生物質としては、ア
ントラキノン顔料、ペリレン顔料、多環牛ノン顔料、ス
クアリック酸メチン顔料、シアニン色素、アズレニウム
化合物等が挙げられる。
本発明で使用するキャリア輸送物質は、カルバゾール誘
導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、
チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾー
ル誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン誘導体、
イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、ス
チリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、
オキサシロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズ
イミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン
誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノ
スチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニ
レンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリ−N−ビ
ニルカルバゾール、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9
−ビニルアントラセン等から選ばれた一種又は二種以上
であってよい。
導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、
チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾー
ル誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン誘導体、
イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、ス
チリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、
オキサシロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズ
イミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン
誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノ
スチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニ
レンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリ−N−ビ
ニルカルバゾール、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9
−ビニルアントラセン等から選ばれた一種又は二種以上
であってよい。
かかるキャリア輸送物質の具体的化合物例は特願昭61
−195881号明細書に記載されている。以下にその
一般式を掲げる。
−195881号明細書に記載されている。以下にその
一般式を掲げる。
キャリア輸送物質としての次の一般式(1)又は(II
)のスチリル化合物が使用可能である。
)のスチリル化合物が使用可能である。
−最大〔■〕 :
(但、この一般式中、
R1、R2、置換若しくは未置換のアルキル基、了り−
ル基を表わし、置換基とし てはアルキル基、アルコキシ基、 置換アミノ基、水酸基、ハロゲン 原子、アリール基を用いる。
ル基を表わし、置換基とし てはアルキル基、アルコキシ基、 置換アミノ基、水酸基、ハロゲン 原子、アリール基を用いる。
Ar’、Ar” :置換若しくは未置換のアリール基
を表わし、置換基としてはアル キル基、アルコキシ基、置換アミ ノ基、水酸基、ハロゲン原子、ア リール基を用いる。
を表わし、置換基としてはアル キル基、アルコキシ基、置換アミ ノ基、水酸基、ハロゲン原子、ア リール基を用いる。
R3、R4:置換若しくは未置換のアリール基、水素原
子を表わし、置換基として はアルキル基、アルコキシ基、置 換アミノ基、水酸基、ハロゲン原 子、アリール基を用いる。) 一般式〔■〕 : 占・ (但、この一般式中、 R5,置換若しくは未置換のアリール基、R6,水素原
子、ハロゲン原子、置換若しくは未置換のアルキル基、
アル コキシ基、アミノ基、置換アミノ 基、水酸基、 R?、置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは
未置換の複素環基を 表わす。) また、キャリア輸送物質として次の一般式(III)(
IV)、(■a)、(IVb)又は(V)のヒドラゾン
化合物も使用可能である。
子を表わし、置換基として はアルキル基、アルコキシ基、置 換アミノ基、水酸基、ハロゲン原 子、アリール基を用いる。) 一般式〔■〕 : 占・ (但、この一般式中、 R5,置換若しくは未置換のアリール基、R6,水素原
子、ハロゲン原子、置換若しくは未置換のアルキル基、
アル コキシ基、アミノ基、置換アミノ 基、水酸基、 R?、置換若しくは未置換のアリール基、置換若しくは
未置換の複素環基を 表わす。) また、キャリア輸送物質として次の一般式(III)(
IV)、(■a)、(IVb)又は(V)のヒドラゾン
化合物も使用可能である。
一般式〔■〕 :
(但、この−最大中、
R8及びR9:それぞれ水素原子又はハロゲン原子・
RIO及びR■:それぞれ置換若しくは未置換のアリー
ル基、 Ar3.置換若しくは未置換のアリーレン基を表す。) 一般式〔■〕 : (但、この−最大中、 R1!:置換若しくは未置換のアリール基、置換若しく
は未置換のカルバゾリ ル基、又は置換若しくは未置換の 複素環基を表し、 R”I R”及びRIS:水素原子、アルキル基、置換
若しくは未置換のアリール基、 又は置換若しくは未置換のアラル キル基を表す。) 一般式(IVa): 占・・ (但、この−最大中、 R16:メチル基、エチル基、2−ヒドロキシエチル基
又は2−クロルエチ ル基、 R”:メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニル基
、 R1l+、メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニ
ル基を示す。
ル基、 Ar3.置換若しくは未置換のアリーレン基を表す。) 一般式〔■〕 : (但、この−最大中、 R1!:置換若しくは未置換のアリール基、置換若しく
は未置換のカルバゾリ ル基、又は置換若しくは未置換の 複素環基を表し、 R”I R”及びRIS:水素原子、アルキル基、置換
若しくは未置換のアリール基、 又は置換若しくは未置換のアラル キル基を表す。) 一般式(IVa): 占・・ (但、この−最大中、 R16:メチル基、エチル基、2−ヒドロキシエチル基
又は2−クロルエチ ル基、 R”:メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニル基
、 R1l+、メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニ
ル基を示す。
一般式(IVb):
(但、この−最大中、RI9は置換若しくは未置換のナ
フチル基;R20は置換若しくは未置換のアルキル基、
アラルキル基又はアリール基;R”は水素原子、アルキ
ル基又はアルコキシ基:R2を及びR23は置換若しく
は未置換のアルキル基、アラルキル基又はアリール基か
らなる互いに同一の若しくは異なる基を示す。) −最大〔■〕 : (但、この−最大中、 R24:置換若しくは未置換のアリール基又は置換若し
くは未置換の複素環 基、 R25:水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基又
は置換若しくは米量 換のアリール基、 Q:水素原子、ハロゲン原子、アルキ ル基、置換アミノ基、アルコキシ 基又はシアノ基、 S:O又は1の整数を表す。) ′ また、キャリア輸送物質として、次の一般式(Vl
)のピラゾリン化合物も使用可能である。
フチル基;R20は置換若しくは未置換のアルキル基、
アラルキル基又はアリール基;R”は水素原子、アルキ
ル基又はアルコキシ基:R2を及びR23は置換若しく
は未置換のアルキル基、アラルキル基又はアリール基か
らなる互いに同一の若しくは異なる基を示す。) −最大〔■〕 : (但、この−最大中、 R24:置換若しくは未置換のアリール基又は置換若し
くは未置換の複素環 基、 R25:水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基又
は置換若しくは米量 換のアリール基、 Q:水素原子、ハロゲン原子、アルキ ル基、置換アミノ基、アルコキシ 基又はシアノ基、 S:O又は1の整数を表す。) ′ また、キャリア輸送物質として、次の一般式(Vl
)のピラゾリン化合物も使用可能である。
−最大〔■〕 :
〔但、この−最大中、
l:0又は1、
R2h及びR27:置換若しくは未置換のアリール基、
R28:置換若しくは未置換のアリール基若しくは複素
環基、 R29及びR30:水素原子、炭素原子数1〜4のアル
キル基、又は置換若しくは来貢 換のアリール基若しくはアラルキ ル基(但、R”及びR”は共に水 素原子であることはなく、また前 記!が0のときはR29は水素原子 ではない。)〕 更に、次の一般式〔■〕のアミン誘導体もキャリア輸送
物質として使用できる。
R28:置換若しくは未置換のアリール基若しくは複素
環基、 R29及びR30:水素原子、炭素原子数1〜4のアル
キル基、又は置換若しくは来貢 換のアリール基若しくはアラルキ ル基(但、R”及びR”は共に水 素原子であることはなく、また前 記!が0のときはR29は水素原子 ではない。)〕 更に、次の一般式〔■〕のアミン誘導体もキャリア輸送
物質として使用できる。
一般式〔■〕 :
(但、この−最大中、
Ar’、Ar5 :置換若しくは未置換のフェニル基を
表し、置換基としてはハロゲン 原子、アルキル基、ニトロ基、ア ルコキシ基を用いる。
表し、置換基としてはハロゲン 原子、アルキル基、ニトロ基、ア ルコキシ基を用いる。
Ar’ :置換若しくは未置換のフェニル基、ナフチ
ル基、アントリル基、フル オレニル基、複素環基を表し、置 換基としてはアルキル基、アルコ キシ基、ハロゲン原子、水酸基、 アリールオキシ基、アリール基、 アミノ基、ニトロ基、ピペリジノ 基、モルホリノ基、ナフチル基、 アンスリル基及び置換アミノ基を 用いる。但、置換アミノ基の置換 基としてアシル基、アルキル基、 アリール基、アラルキル基を用い る。) 更に、次の一般式〔■〕の化合物もキャリア輸送物質と
して使用できる。
ル基、アントリル基、フル オレニル基、複素環基を表し、置 換基としてはアルキル基、アルコ キシ基、ハロゲン原子、水酸基、 アリールオキシ基、アリール基、 アミノ基、ニトロ基、ピペリジノ 基、モルホリノ基、ナフチル基、 アンスリル基及び置換アミノ基を 用いる。但、置換アミノ基の置換 基としてアシル基、アルキル基、 アリール基、アラルキル基を用い る。) 更に、次の一般式〔■〕の化合物もキャリア輸送物質と
して使用できる。
一般式〔■〕 :
(但、この−最大中、
Ar’ :置換又は未置換のアリーレン基を表し、
R”t R”+ R33及びR34:置換若しくは
未置換のアルキル基、 置換若しくは未置換のアリール基、 又は置換若しくは未置換のアラル キル基を表す。) 更に、次の一般式(IX)の化合物もキャリア輸送物質
として使用できる。
未置換のアルキル基、 置換若しくは未置換のアリール基、 又は置換若しくは未置換のアラル キル基を表す。) 更に、次の一般式(IX)の化合物もキャリア輸送物質
として使用できる。
一般式〔■〕 :
〔但、この−最大中、R”% R3b% R”及びR3
aは、それぞれ水素原子、置換若しくは未置換のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、
ベンジル基又はアラルキル基、 R”及びR”は、それぞれ水素原子、置換若しくは未置
換の炭素原子数1〜40のアルキル基、シクロアルキル
基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基又
はアラルキル基(但、R”とR40とが共同して炭素原
子数3〜10の飽和若しくは不飽和の炭化水素環を形成
してもよい。) R”% R”、R43及びR”は、それぞれ水素原子、
ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換若しくは未置換の
アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキ
ルアミノ基又はアリールアミノ基である。〕キャリア輸
送層、キャリア発生層中に酸化防止剤を含有せしめるこ
とができる。これにより放電で発生するオゾンの影響を
抑制でき、繰り返し使用時の残留電位上昇や帯電電位の
低下を防止できる。
aは、それぞれ水素原子、置換若しくは未置換のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、
ベンジル基又はアラルキル基、 R”及びR”は、それぞれ水素原子、置換若しくは未置
換の炭素原子数1〜40のアルキル基、シクロアルキル
基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基又
はアラルキル基(但、R”とR40とが共同して炭素原
子数3〜10の飽和若しくは不飽和の炭化水素環を形成
してもよい。) R”% R”、R43及びR”は、それぞれ水素原子、
ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換若しくは未置換の
アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキ
ルアミノ基又はアリールアミノ基である。〕キャリア輸
送層、キャリア発生層中に酸化防止剤を含有せしめるこ
とができる。これにより放電で発生するオゾンの影響を
抑制でき、繰り返し使用時の残留電位上昇や帯電電位の
低下を防止できる。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダー
ドアミン、パラフェニレンジアミン−アリールアルカン
、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン
及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等
が挙げられる。
ドアミン、パラフェニレンジアミン−アリールアルカン
、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン
及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等
が挙げられる。
これらの具体的化合物としては、特願昭61−1628
66号、同61−188975号、同61−19587
8号、同61−157644号、同61−195879
号、同61−162867号、同61−204469号
、同61−217493号、同61−217492°号
及び同61−221541号に記載がある。
66号、同61−188975号、同61−19587
8号、同61−157644号、同61−195879
号、同61−162867号、同61−204469号
、同61−217493号、同61−217492°号
及び同61−221541号に記載がある。
感光層中に高分子有機半導体を含有せしめることもでき
る。こうした高分子有機半導体のうちポリ−N−ビニル
カルバゾール又はその誘導体が効果が大であり、好まし
く用いられる。かかるポリ−N−ビニルカルバゾール誘
導体とは、その繰り返し単位における全部又は一部のカ
ルバゾール環が種々の置換基、例えばアルキル基、ニト
ロ基、アミノ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子によっ
て置換されたものである。
る。こうした高分子有機半導体のうちポリ−N−ビニル
カルバゾール又はその誘導体が効果が大であり、好まし
く用いられる。かかるポリ−N−ビニルカルバゾール誘
導体とは、その繰り返し単位における全部又は一部のカ
ルバゾール環が種々の置換基、例えばアルキル基、ニト
ロ基、アミノ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子によっ
て置換されたものである。
また、感光層内に感度の向上、残留電位ないし反復使用
時の疲労低減等を目的として、少なくとも1種の電子受
容性物質を含有せしめることができる。
時の疲労低減等を目的として、少なくとも1種の電子受
容性物質を含有せしめることができる。
本発明の感光体に使用可能な電子受容性物質としては、
例えば無水こはく酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、
4−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジ
メタン、O−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン
、1.3.5− )ジニトロベンゼン、バラニトロベン
ゾニトリル、ビクリルクロライド、キノンクロルイミド
、クロラニル、ブルマニル、2−メチルナフトキノン、
ジクロロジシアノバラベンゾキノン、アントラキノン、
ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、9
−フルオレニリデンー〔ジシアノメチレンマロノジニト
リル〕、ポリニトロ−9−フルオレニリデンー〔ジシア
ノメチレンマロノジニトリル〕、ピクリン酸、0−ニト
ロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3.5−ジニトロ安
息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニトロサリチル
酸、3.5−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット
酸、その他の電子親和力の大きい化合物の一種又は二種
以上を挙げることができる。
例えば無水こはく酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、
4−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジ
メタン、O−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン
、1.3.5− )ジニトロベンゼン、バラニトロベン
ゾニトリル、ビクリルクロライド、キノンクロルイミド
、クロラニル、ブルマニル、2−メチルナフトキノン、
ジクロロジシアノバラベンゾキノン、アントラキノン、
ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、9
−フルオレニリデンー〔ジシアノメチレンマロノジニト
リル〕、ポリニトロ−9−フルオレニリデンー〔ジシア
ノメチレンマロノジニトリル〕、ピクリン酸、0−ニト
ロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3.5−ジニトロ安
息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニトロサリチル
酸、3.5−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット
酸、その他の電子親和力の大きい化合物の一種又は二種
以上を挙げることができる。
これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、CI C
N、 Now等の電子吸引性の置換基のあるベンゼン誘
導体が特によい。
N、 Now等の電子吸引性の置換基のあるベンゼン誘
導体が特によい。
また更に表面改質剤としてシリコーンオイル、フッ素系
界面活性剤を存在させてもよい。また耐久性向上剤とし
てアンモニウム化合物が含有されていてもよい。
界面活性剤を存在させてもよい。また耐久性向上剤とし
てアンモニウム化合物が含有されていてもよい。
更に紫外線吸収剤を用いてもよい。好ましい紫外線吸収
剤としては、安息香酸、スチルベン化合物等及びその誘
導体、トリアゾール化合物、イミダゾール化合物、トリ
アジン化合物、クマリン化合物、オキサジアゾール化合
物、チアゾール化合物及びその誘導体等の含窒素化合物
類が用いられる。
剤としては、安息香酸、スチルベン化合物等及びその誘
導体、トリアゾール化合物、イミダゾール化合物、トリ
アジン化合物、クマリン化合物、オキサジアゾール化合
物、チアゾール化合物及びその誘導体等の含窒素化合物
類が用いられる。
感光体の構成層に使用可能なバインダ樹脂としては、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アル
キッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラミン樹脂、メ
タクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合
型樹脂並びにこれらの繰り返し単位のうちの2つ以上を
含む共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹
脂等の絶縁性樹脂、スチレン−ブタジェン共重合体樹脂
、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体樹脂等、
更にはN−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体を
挙げることができる。
えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アル
キッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラミン樹脂、メ
タクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合
型樹脂並びにこれらの繰り返し単位のうちの2つ以上を
含む共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹
脂等の絶縁性樹脂、スチレン−ブタジェン共重合体樹脂
、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体樹脂等、
更にはN−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体を
挙げることができる。
上記のバインダーは、単独であるいは二種以上の混合物
として用いることができる。
として用いることができる。
必要に応じて設けられる保護層のバインダーとしては、
体積抵抗10”Ω・1以上、好ましくはIQI@Ω・値
以上、より好ましくは1013Ω・C以上の透明樹脂が
用いられる。又前記バインダーは光又は熱により硬化す
る樹脂を用いてもよく、かかる光又は熱により硬化する
樹脂としては、例えば熱硬化性アクリル樹脂、エポキシ
樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂、ポリエステル樹脂、ア
ルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性桂皮酸樹脂等又
はこれらの共重合若しくは縮合樹脂があり、その他電子
写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂の全てが利用さ
れる。又前記保護層中には加工性及び物性の改良(亀裂
防止、柔軟性付与等)を目的として必要により熱可塑性
樹脂を50重量%未満含有せしめることができる。かか
る熱可塑性樹脂としては、例えばポリプロピレン、アク
リル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、又はこ
れらの共重合樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の
高分子有機半導体、その他電子写真材料に供される熱可
塑性樹脂の全てが利用される。
体積抵抗10”Ω・1以上、好ましくはIQI@Ω・値
以上、より好ましくは1013Ω・C以上の透明樹脂が
用いられる。又前記バインダーは光又は熱により硬化す
る樹脂を用いてもよく、かかる光又は熱により硬化する
樹脂としては、例えば熱硬化性アクリル樹脂、エポキシ
樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂、ポリエステル樹脂、ア
ルキッド樹脂、メラミン樹脂、光硬化性桂皮酸樹脂等又
はこれらの共重合若しくは縮合樹脂があり、その他電子
写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂の全てが利用さ
れる。又前記保護層中には加工性及び物性の改良(亀裂
防止、柔軟性付与等)を目的として必要により熱可塑性
樹脂を50重量%未満含有せしめることができる。かか
る熱可塑性樹脂としては、例えばポリプロピレン、アク
リル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、又はこ
れらの共重合樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の
高分子有機半導体、その他電子写真材料に供される熱可
塑性樹脂の全てが利用される。
キャリア発生層は、次のような方法によって設けること
ができる。
ができる。
(イ)キャリア発生物質等にバインダー、溶媒を加えて
混合溶解した溶液を塗布する方法。
混合溶解した溶液を塗布する方法。
(ロ)キャリア発生物質等をボールミル、ホモミキサー
、サンドミル、超音波分散機、アトライタ等によって分
散媒中で微細粒子とし、バインダーを加えて混合分散し
て得られる分散液を塗布する方法。
、サンドミル、超音波分散機、アトライタ等によって分
散媒中で微細粒子とし、バインダーを加えて混合分散し
て得られる分散液を塗布する方法。
これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。
ると、均一分散が可能になる。
また、キャリア輸送層は、既述のキャリア輸送物質を単
独であるいは既述したバインダー樹脂と共に溶解、分散
せしめたものを塗布、乾燥して形 。
独であるいは既述したバインダー樹脂と共に溶解、分散
せしめたものを塗布、乾燥して形 。
成することができる。
この場合、キャリア発生層中にキャリア輸送物質を含有
せしめる場合には、上記(イ)の溶液、(ロ)の分散液
中に予めキャリア輸送物質を溶解又は分散せしめる方法
、即ちキャリア発生層中にキャリア輸送物質を添加する
方法がある。この場合は、キャリア輸送物質の添加量を
バインダー100重量部に対して1〜100重量部の範
囲内とするのが好ましい。また、キャリア輸送物質を含
有する溶液をキャリア発生層上に塗布し、キャリア発生
層を膨潤あるいは一部溶解せしめてキャリア輸送物質を
キャリア発生層内に拡散せしめる方法がある。この方法
を採用した場合は、上述のようにキャリア発生層中にキ
ャリア輸送物質を添加しておく必要はないが、上述の三
方法を同時に行うことも差し支えない。
せしめる場合には、上記(イ)の溶液、(ロ)の分散液
中に予めキャリア輸送物質を溶解又は分散せしめる方法
、即ちキャリア発生層中にキャリア輸送物質を添加する
方法がある。この場合は、キャリア輸送物質の添加量を
バインダー100重量部に対して1〜100重量部の範
囲内とするのが好ましい。また、キャリア輸送物質を含
有する溶液をキャリア発生層上に塗布し、キャリア発生
層を膨潤あるいは一部溶解せしめてキャリア輸送物質を
キャリア発生層内に拡散せしめる方法がある。この方法
を採用した場合は、上述のようにキャリア発生層中にキ
ャリア輸送物質を添加しておく必要はないが、上述の三
方法を同時に行うことも差し支えない。
層の形成に使用される溶剤あるいは分散媒としては、n
−ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、
イソプロパツールアミン、トリエタノールアミン、トリ
エチレンジアミン、N、 N−ジメチルホルムアミド
、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、1,2
−ジクロロエタン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロパ
ツール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシ
ド等を挙げることができる。
−ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、
イソプロパツールアミン、トリエタノールアミン、トリ
エチレンジアミン、N、 N−ジメチルホルムアミド
、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、1,2
−ジクロロエタン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロパ
ツール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシ
ド等を挙げることができる。
上記感光層、下引き層、中間層、保護層等は、例えばブ
レード塗布、デイツプ塗布、スプレー塗布、ロール塗布
、スパイラル塗布等により設けることができる。
レード塗布、デイツプ塗布、スプレー塗布、ロール塗布
、スパイラル塗布等により設けることができる。
なお、導電性基体は金属板、金属ドラム又は導電性ポリ
マー、酸化インジウム等の導電性化合物若しくはアルミ
ニウム、パラジウム、金等の金属より成る導電性薄層を
塗布、蒸着、ラミネート等の手段により、紙、プラスチ
ックフィルム等の基体に設けて成るものが用いられる。
マー、酸化インジウム等の導電性化合物若しくはアルミ
ニウム、パラジウム、金等の金属より成る導電性薄層を
塗布、蒸着、ラミネート等の手段により、紙、プラスチ
ックフィルム等の基体に設けて成るものが用いられる。
次に、本発明の好ましい実施の態様について説明する。
第2図は本発明の方法を実施する記録装置の一例を示す
構成概要図、第3図は像露光のためのレーザービームス
キャナの概要構成図、第4図は現像器の一例を示す部分
断面図、第5図は本発明の方法の実施フローチャートで
ある。
構成概要図、第3図は像露光のためのレーザービームス
キャナの概要構成図、第4図は現像器の一例を示す部分
断面図、第5図は本発明の方法の実施フローチャートで
ある。
第2図の装置において、23は上述した有機光導電性物
質の感光層を有し、矢印方向に回転するドラム状の像担
持体、22は像担持体23の表面を一様帯電する本帯電
器、24は像露光、15は現像器である。20は像担持
体23上にトナー像が形成された画像を記録体Pに転写
し易くするために必要に応じて設けられる転写前露光ラ
ンプ、21は転写器、19は分離用コロナ放電器、12
は記録体Pに転写されたトナー像を定着させる定着器で
ある。13は除電ランプと除電用コロナ放電器の一方又
は両者の組合せからなる除電器、14は像担持体23の
画像を転写した後の表面の残留トナーを除去するための
クリーニングブレ−ドやファーブラシを有するクリーニ
ング装置である。像露光を半導体レーザーで行う場合、
第2図の記録装置のようにドラム状の像担持体23を用
いるものにあっては、像露光24は、第3図に示したよ
うなレーザービームスキャナによるものが好ましい。
質の感光層を有し、矢印方向に回転するドラム状の像担
持体、22は像担持体23の表面を一様帯電する本帯電
器、24は像露光、15は現像器である。20は像担持
体23上にトナー像が形成された画像を記録体Pに転写
し易くするために必要に応じて設けられる転写前露光ラ
ンプ、21は転写器、19は分離用コロナ放電器、12
は記録体Pに転写されたトナー像を定着させる定着器で
ある。13は除電ランプと除電用コロナ放電器の一方又
は両者の組合せからなる除電器、14は像担持体23の
画像を転写した後の表面の残留トナーを除去するための
クリーニングブレ−ドやファーブラシを有するクリーニ
ング装置である。像露光を半導体レーザーで行う場合、
第2図の記録装置のようにドラム状の像担持体23を用
いるものにあっては、像露光24は、第3図に示したよ
うなレーザービームスキャナによるものが好ましい。
第3図のレーザービームスキャナの動作を次に述べる。
半導体レーザー41で発生されたレーザービームは、駆
動モータ42により回転されるポリゴンミラー43によ
り回転走査され、f−θレンズ44を経て反射鏡45に
より光路を曲げられて像担持体23の表面上に投射され
輝線46を形成する。47はビーム走査開始を検出する
ためのインデックスセンサで、48.49は倒れ角補正
用の ・シリンドリカルレンズである。50a、50b
、50Cは反射鏡でビーム走査光路及びビーム検知の光
路を形成する。
動モータ42により回転されるポリゴンミラー43によ
り回転走査され、f−θレンズ44を経て反射鏡45に
より光路を曲げられて像担持体23の表面上に投射され
輝線46を形成する。47はビーム走査開始を検出する
ためのインデックスセンサで、48.49は倒れ角補正
用の ・シリンドリカルレンズである。50a、50b
、50Cは反射鏡でビーム走査光路及びビーム検知の光
路を形成する。
走査が開始されるとビームがインデックスセンサ47に
よって検知され、信号によるビームの変調が図示省略し
た変調部によって開始される。変調されたビームは、帯
電器22により予め一様に帯電されている像担持体23
上を走査する。レーザービーム51による主走査と像担
持体23の回転による副走査によりドラム表面に潜像が
形成されてゆく。
よって検知され、信号によるビームの変調が図示省略し
た変調部によって開始される。変調されたビームは、帯
電器22により予め一様に帯電されている像担持体23
上を走査する。レーザービーム51による主走査と像担
持体23の回転による副走査によりドラム表面に潜像が
形成されてゆく。
また、像担持体がベルト状のように平面状態をとり得る
記録装置にあっては、像露光をフラッシュ露光とするこ
ともできる。
記録装置にあっては、像露光をフラッシュ露光とするこ
ともできる。
現像器15としては第4図に示したような構造のものが
好ましく用いられる。第4図において現像剤Deは磁気
ロール62が矢印F方向、スリーブ61が矢印G方向に
回転することにより矢印G方向に搬送される。現像剤D
eは、搬送途中で穂立規制ブレード63によりその厚さ
tが規制される。穂立規制ブレード63は弾性金属板製
でスリーブ61の表面を押圧し、搬送される現像剤の厚
さを制御する。現像剤溜り66内には現像剤()eの攪
拌が十分に行われるよう攪拌スクリュー65が設けられ
ており、現像剤溜り66内の現像剤Deが消費された時
には、トナー供給ローラ68が回転することによりトナ
ーホッパー67からトナーTが補給される。そして、ス
リーブ61に現像バイアスを印加する直流電源69及び
保護抵抗70が直列に接続されている。また、スリーブ
61と像担持体23とは間隙dを隔てて対向配列され、
現像領域Eで現像剤が像担持体23に対し接触し、t>
dとなっている。
好ましく用いられる。第4図において現像剤Deは磁気
ロール62が矢印F方向、スリーブ61が矢印G方向に
回転することにより矢印G方向に搬送される。現像剤D
eは、搬送途中で穂立規制ブレード63によりその厚さ
tが規制される。穂立規制ブレード63は弾性金属板製
でスリーブ61の表面を押圧し、搬送される現像剤の厚
さを制御する。現像剤溜り66内には現像剤()eの攪
拌が十分に行われるよう攪拌スクリュー65が設けられ
ており、現像剤溜り66内の現像剤Deが消費された時
には、トナー供給ローラ68が回転することによりトナ
ーホッパー67からトナーTが補給される。そして、ス
リーブ61に現像バイアスを印加する直流電源69及び
保護抵抗70が直列に接続されている。また、スリーブ
61と像担持体23とは間隙dを隔てて対向配列され、
現像領域Eで現像剤が像担持体23に対し接触し、t>
dとなっている。
図は現像スリーブ61と磁石体62がそれぞれ矢印G、
F方向に回転するものであることを示しているが、現像
スリーブ61が固定であっても、磁石体62が固定であ
っても、或いは現像スリーブ61と磁石体62が同方向
に回転するようなものであってもよい。磁石体62を固
定とする場合は、通常、像担持体23に対向する磁極の
磁束密度を他の磁極の磁束密度よりも大きくするために
、磁化を強くしたり、そこに同極或いは異極の2個の磁
極を近接させて設けたりすることが行われる。
F方向に回転するものであることを示しているが、現像
スリーブ61が固定であっても、磁石体62が固定であ
っても、或いは現像スリーブ61と磁石体62が同方向
に回転するようなものであってもよい。磁石体62を固
定とする場合は、通常、像担持体23に対向する磁極の
磁束密度を他の磁極の磁束密度よりも大きくするために
、磁化を強くしたり、そこに同極或いは異極の2個の磁
極を近接させて設けたりすることが行われる。
上記した装置において、本発明に基づいて、静電潜像の
IV nlが400〜900vとなるように帯電せしめ
、かつ反転現像時の1■司−1vncl=o〜200■
とする。但し、■1は像担持体23に対向する現像剤搬
送担体としてのスリーブ61に印加する直流バイアス電
圧である。
IV nlが400〜900vとなるように帯電せしめ
、かつ反転現像時の1■司−1vncl=o〜200■
とする。但し、■1は像担持体23に対向する現像剤搬
送担体としてのスリーブ61に印加する直流バイアス電
圧である。
直流バイアス電圧には交流バイアス電圧を重畳すること
が好ましい。この際、交流バイアス電圧の実効値は0.
5〜4KVが好ましく、周波数は0.1KHz〜IMH
zが好ましい。
が好ましい。この際、交流バイアス電圧の実効値は0.
5〜4KVが好ましく、周波数は0.1KHz〜IMH
zが好ましい。
以上のような記録装置によって、第5図に示したような
本発明の方法を実施することができる。
本発明の方法を実施することができる。
第5図は、像露光部が背景部よりも低電位の静電像とな
る静電像形成法によって静電像が形成され、現像が静電
像に背景部電位と同極性に帯電するトナーが付着するこ
とによって行われる、本発明の反転現像の例を示してい
る。
る静電像形成法によって静電像が形成され、現像が静電
像に背景部電位と同極性に帯電するトナーが付着するこ
とによって行われる、本発明の反転現像の例を示してい
る。
第2図の記録装置を用いた場合の第5図の例について説
明する。
明する。
最初に、除電器13で除電され、クリーニング装置14
でクリーニングされて、電位がOとなっている初期状態
の像担持体23の表面に、帯電器22によって一様に帯
電を施し、その帯電面に像露光24を投影して静電像部
の電位が略0となる像露光を行い、得られた静電像を現
像器15(トナーT)によって現像する。
でクリーニングされて、電位がOとなっている初期状態
の像担持体23の表面に、帯電器22によって一様に帯
電を施し、その帯電面に像露光24を投影して静電像部
の電位が略0となる像露光を行い、得られた静電像を現
像器15(トナーT)によって現像する。
なお、本発明の画像形成方法は、ハロゲンランプ、タン
グステンランプ、LED (発光ダイオード)、ヘリウ
ム−ネオン、アルゴン、ヘリウム−カドミウム等の気体
レーザー、半導体レーザー等の各種光源に対し通用でき
る。
グステンランプ、LED (発光ダイオード)、ヘリウ
ム−ネオン、アルゴン、ヘリウム−カドミウム等の気体
レーザー、半導体レーザー等の各種光源に対し通用でき
る。
本発明の画像形成方法は、電子写真複写機、プリンタ等
の多種多様の用途を有するものである。
の多種多様の用途を有するものである。
ホ、実施例
以下、本発明を実施例について更に詳細に説明するが、
これにより本発明は限定されるものではなく、種々の変
形した他の実施例も勿論含むものである。
これにより本発明は限定されるものではなく、種々の変
形した他の実施例も勿論含むものである。
くフタロシアニン系化合物の合成〉
まず、実施例に先立って第6図ないし第7図に示す特性
をもつ無金属フタロシアニン化合物Aの合成例、τ型無
金属フタロシアニン化合物の合成例及びチタニルフタロ
シアニンの合成例を示す。
をもつ無金属フタロシアニン化合物Aの合成例、τ型無
金属フタロシアニン化合物の合成例及びチタニルフタロ
シアニンの合成例を示す。
(無金属フタロシアニン化合物Aの合成例)リチウムフ
タロシアニン50gを0℃において十分攪拌した濃硫酸
の600m lに加える。次いでその混合物はこの温度
において2時間°攪拌される。
タロシアニン50gを0℃において十分攪拌した濃硫酸
の600m lに加える。次いでその混合物はこの温度
において2時間°攪拌される。
次いでできた溶液は粗い焼結されたガラス濾斗を通して
濾過されて、4リツトルの氷と水の中へ撹拌しながら徐
々に注入される。数時間放置した後に、その混合物は濾
過され、得られた塊は中性になるまで水で洗浄される。
濾過されて、4リツトルの氷と水の中へ撹拌しながら徐
々に注入される。数時間放置した後に、その混合物は濾
過され、得られた塊は中性になるまで水で洗浄される。
ついでその塊は最終的にメタノールで数回洗浄されかつ
空気中で乾燥させられる。この乾燥された粉末は24時
間連続抽出装置中でアセトンによって抽出されかつ空気
中で乾燥させられて青い粉末となる。
空気中で乾燥させられる。この乾燥された粉末は24時
間連続抽出装置中でアセトンによって抽出されかつ空気
中で乾燥させられて青い粉末となる。
上記においてリチウムに対して塩の残渣を保証するため
に析出は反復される。このようにして30.5 gの青
い粉末が得られた。この得られたものは、そのX線回折
図形がすでに出版されている資料に記載されているα型
フタロシアニン化合物のX線回折図形と一致していた。
に析出は反復される。このようにして30.5 gの青
い粉末が得られた。この得られたものは、そのX線回折
図形がすでに出版されている資料に記載されているα型
フタロシアニン化合物のX線回折図形と一致していた。
このようにして得られた金属を含まないα型フタロシア
ニン化合物30gを直径13/16インチのボールで半
分溝たされた内容積900m1の磁製ボールミル中に仕
込み、約80 rpn+で164時間ミリングした。そ
の後テトラヒドロフラン、1.2−ジクロロエタン等の
有機溶剤200m Itをボールミル中に加え、24時
間再度ミリングした。このミリングした後の分散液につ
いて有機溶剤の除去及び乾燥を行い、無金属フタロシア
ニン化合物A 28.2 gを得た。
ニン化合物30gを直径13/16インチのボールで半
分溝たされた内容積900m1の磁製ボールミル中に仕
込み、約80 rpn+で164時間ミリングした。そ
の後テトラヒドロフラン、1.2−ジクロロエタン等の
有機溶剤200m Itをボールミル中に加え、24時
間再度ミリングした。このミリングした後の分散液につ
いて有機溶剤の除去及び乾燥を行い、無金属フタロシア
ニン化合物A 28.2 gを得た。
(τ型無金属フタロシアニンの合成例)α型無金属フタ
ロシアニン化合物(ICI製モノライトファーストプル
GS)を加熱したジメチルホルムアルデヒドにより3回
抽出して精製した。
ロシアニン化合物(ICI製モノライトファーストプル
GS)を加熱したジメチルホルムアルデヒドにより3回
抽出して精製した。
この操作により精製物はβ型に転移した。次にこのβ型
無金属フタロシアニン化合物の一部分を濃硫酸に溶解し
、この溶液を氷水中に注いで再沈澱させることにより、
α型に転移させた。この再沈澱物をアンモニア水、メタ
ノール等で洗浄後10℃で乾燥した。次に上記により精
製したα型無金属フタロシアニン化合物を磨砕助剤及び
分散剤とともにサンドミルに入れ、温度100±20℃
で15〜25時間混練した。この操作により結晶形がτ
型に転移したのを確認後、容器より取り出し、水及びメ
タノール等で磨砕助剤及び分散剤を十分除去した後乾燥
して鮮明な青味を帯びたτ型無金属フタロシアニンの青
色結晶を得た。
無金属フタロシアニン化合物の一部分を濃硫酸に溶解し
、この溶液を氷水中に注いで再沈澱させることにより、
α型に転移させた。この再沈澱物をアンモニア水、メタ
ノール等で洗浄後10℃で乾燥した。次に上記により精
製したα型無金属フタロシアニン化合物を磨砕助剤及び
分散剤とともにサンドミルに入れ、温度100±20℃
で15〜25時間混練した。この操作により結晶形がτ
型に転移したのを確認後、容器より取り出し、水及びメ
タノール等で磨砕助剤及び分散剤を十分除去した後乾燥
して鮮明な青味を帯びたτ型無金属フタロシアニンの青
色結晶を得た。
(チタニルフタロシアニンの合成例)
フタロジニトリル40gと4塩化チタン18g及びα−
クロロナフタレン500rrlの混合物を肇素気流下2
40〜250℃で3時間加熱攪拌して反応を完結させた
。その後濾過し、生成物であるジクロロチタニウムフタ
ロシアニンを収得した。得られたジクロロチタニウムフ
タロシアニンと淵アンモニア水300mff1の混合物
を1時間加熱還流し、目的物であるチタニルフタロシア
ニン18gを得た。生成物はアセトンにより、ソックス
レー抽出器で充分洗浄を行った。
クロロナフタレン500rrlの混合物を肇素気流下2
40〜250℃で3時間加熱攪拌して反応を完結させた
。その後濾過し、生成物であるジクロロチタニウムフタ
ロシアニンを収得した。得られたジクロロチタニウムフ
タロシアニンと淵アンモニア水300mff1の混合物
を1時間加熱還流し、目的物であるチタニルフタロシア
ニン18gを得た。生成物はアセトンにより、ソックス
レー抽出器で充分洗浄を行った。
この生成物を質量スペクトル分析したところ、チタニル
フタロシアニン(M+!576)を主成分とし、クロル
化チタニルフタロシアニン(Mt610) ’fc少量
含むものであった。
フタロシアニン(M+!576)を主成分とし、クロル
化チタニルフタロシアニン(Mt610) ’fc少量
含むものであった。
〈感光体の製造〉
下記のようにして実施例の感光体A−M及び比較例の感
光体a /%= dを製造した。即ち、各感光体の製造
手順は共通である。
光体a /%= dを製造した。即ち、各感光体の製造
手順は共通である。
表−2に示す所定のバインダー樹脂15gをアセトン/
シクロヘキサノン(1: 1)混合溶媒11中に溶解さ
せて得た電荷ブロッキング層用塗布液を、rKON I
CA U−Bix1550 (コニカ社製)用アル
ミニウム製基体ドラム(径80Iu)にデイツプ塗布し
、所定膜厚の電荷ブロッキング層を得た。
シクロヘキサノン(1: 1)混合溶媒11中に溶解さ
せて得た電荷ブロッキング層用塗布液を、rKON I
CA U−Bix1550 (コニカ社製)用アル
ミニウム製基体ドラム(径80Iu)にデイツプ塗布し
、所定膜厚の電荷ブロッキング層を得た。
次に、表−2に示す所定のキャリア発生物質(CGM)
を磁性ボールミルにて4Orpmで18時間粉砕した後
、ポリカーボネート「パンライトに一1300J (
奇人化成社製)20gを1.2−ジクロロエタン100
0.m lに溶解させた溶液を加えて更に24時間分散
させ、得られたキャリア発生層用塗布液を前記電荷ブロ
ッキング層上にデイツプ塗布し、表−2に示すP/B比
(キャリア発生物質/バインダー物質の重量比)を有す
るキャリア発生層を得た。
を磁性ボールミルにて4Orpmで18時間粉砕した後
、ポリカーボネート「パンライトに一1300J (
奇人化成社製)20gを1.2−ジクロロエタン100
0.m lに溶解させた溶液を加えて更に24時間分散
させ、得られたキャリア発生層用塗布液を前記電荷ブロ
ッキング層上にデイツプ塗布し、表−2に示すP/B比
(キャリア発生物質/バインダー物質の重量比)を有す
るキャリア発生層を得た。
但し、比較例の感光体Cについては電荷ブロッキング層
を設けず、導電性基体上に直接キャリア発生層を形成し
た。
を設けず、導電性基体上に直接キャリア発生層を形成し
た。
更に、下記構造式(5)のキャリア輸送物質112.5
gとポリカーボネート樹脂「ニーピロンZ−200J
(三菱瓦斯化学社製> 150gとを1.2−ジクロ
ロエタン10100O!に溶解し、得られた溶液をキャ
リア発生層上にデイツプ塗布し、温度90℃で1時間乾
燥してキャリア輸送層を形成し、膜厚約20μmの感光
層とした。
gとポリカーボネート樹脂「ニーピロンZ−200J
(三菱瓦斯化学社製> 150gとを1.2−ジクロ
ロエタン10100O!に溶解し、得られた溶液をキャ
リア発生層上にデイツプ塗布し、温度90℃で1時間乾
燥してキャリア輸送層を形成し、膜厚約20μmの感光
層とした。
以上のようにして、共通の製造手順により、それぞれ個
別の構成及び処方を有する各感光体A〜M及びawdが
製造された。
別の構成及び処方を有する各感光体A〜M及びawdが
製造された。
即ち、各感光体において、電荷ブロッキング層の材質、
キャリア発生物質等はそれぞれ互いに変化させられてい
る。
キャリア発生物質等はそれぞれ互いに変化させられてい
る。
CGM (1)
無金属フタロシアニン化合物A
CGM (2)
τ型無金属フタロシア、コン
CGM (3)
前記チタニルフタロシアニン 。
CGM (4)
キャリア輸送物質(5)
樹脂(S)
ポリエステル樹脂[バイロン200J (東洋紡社製
)樹脂(T) 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 rVYHHJ (ユニオンカーバイド社製)樹脂(X
) マルカ リンカ−M(丸善石油化学社製)樹脂(Y) マルカ リンカ−CHM (同上) 樹脂(Z) マルカ リンカ−TM50(同上) 1 び 較例1 実施例、比較例の各感光体を、半導体レーザーを光源と
するrKON I CA U−Bix1550J(コ
ニカ社製)改造機に搭載し、vHが一600±10(V
)になるようにグリッド電圧を調節し、現像バイアス−
480(V)で反転現像し、複写画像の白地部分の黒ポ
チ、黒地部分(原画の白地部分に対応する部分)の画像
濃度D□8、キャリア発生層の塗布性、画像欠陥を評価
した。
)樹脂(T) 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂 rVYHHJ (ユニオンカーバイド社製)樹脂(X
) マルカ リンカ−M(丸善石油化学社製)樹脂(Y) マルカ リンカ−CHM (同上) 樹脂(Z) マルカ リンカ−TM50(同上) 1 び 較例1 実施例、比較例の各感光体を、半導体レーザーを光源と
するrKON I CA U−Bix1550J(コ
ニカ社製)改造機に搭載し、vHが一600±10(V
)になるようにグリッド電圧を調節し、現像バイアス−
480(V)で反転現像し、複写画像の白地部分の黒ポ
チ、黒地部分(原画の白地部分に対応する部分)の画像
濃度D□8、キャリア発生層の塗布性、画像欠陥を評価
した。
なお、黒ポチの評価は、画像解析装置「オムニコン30
00形」 (島津製作所社製)を用いて黒ポチの粒径と
個数を測定し、φ(径> 0.05m以上の黒ポチがl
c4当たり何個あるかにより判定した。
00形」 (島津製作所社製)を用いて黒ポチの粒径と
個数を測定し、φ(径> 0.05m以上の黒ポチがl
c4当たり何個あるかにより判定した。
黒ポチ評価の判定基準は、表−1に示す通りである。
表−1
なお、黒ポチ判定の結果が◎、○、△であれば実用にな
るが、×、××である場合は実用に適さない。
るが、×、××である場合は実用に適さない。
キャリア発生層の塗布性の良、不良については次のよう
にした。
にした。
即ち、キャリア発生層のデイツプ塗布時における塗布液
液面の相対的降下速度を一定(0,5cm/sec )
とし、キャリア発生層を塗布した時の100 cd (
1d nf)当たりのCGMの付着量を測定し、これが
2■/ d rd未満の場合は塗布不良とした。また、
キャリア発生層の凝集については、キャリア発生層の濃
度ムラの有無を目視により確認した。なお、キャリア発
生層の凝集が見られる場合も塗布不良とした。
液面の相対的降下速度を一定(0,5cm/sec )
とし、キャリア発生層を塗布した時の100 cd (
1d nf)当たりのCGMの付着量を測定し、これが
2■/ d rd未満の場合は塗布不良とした。また、
キャリア発生層の凝集については、キャリア発生層の濃
度ムラの有無を目視により確認した。なお、キャリア発
生層の凝集が見られる場合も塗布不良とした。
また、画像欠陥については、複写画像の黒ベタ部分の濃
度ムラの有無等を目視により確認した。
度ムラの有無等を目視により確認した。
各感光体における黒ポチ評価の結果等は下記表−2に示
す。
す。
(以下余白、次ページに続()
表−2に示す結果から、本発明の画像形成方法に基づい
て複写画像形成を行えば、黒ポチが著しく減少し、画像
の濃度ムラも生じず、また画像濃度も高くでき、均一か
つ高品質の画像が得られることが解る。
て複写画像形成を行えば、黒ポチが著しく減少し、画像
の濃度ムラも生じず、また画像濃度も高くでき、均一か
つ高品質の画像が得られることが解る。
2 び ′12
下記表−3に示す条件で、実施例1 (又は比較例1)
と同様に反転現像を行い、黒ポチ、複写画像の黒地部分
の画像濃度DIIllX、キャリア付着及びカブリをみ
た。但し、キャリア付着については、0は付着のないこ
とを表し、×は付着の発生を表す。
と同様に反転現像を行い、黒ポチ、複写画像の黒地部分
の画像濃度DIIllX、キャリア付着及びカブリをみ
た。但し、キャリア付着については、0は付着のないこ
とを表し、×は付着の発生を表す。
(以下余白、次ページに続く)
表−3
*10回コピー後に950Vまでは帯電不能となった。
この結果から、次のことが明らかである。
感光体Aの場合:
lv、l < 400Vでは画像濃度不足。
IVHI −IVocl> 200Vテ&;!−t−+
I77付着発生。
I77付着発生。
IV Ht lv ocl< OV i’は全面カブ
リ発生。
リ発生。
感光体dの場合:
黒ポチが発生、画像濃度不足。
第1図〜第7図は本発明の実施例を示すものであって、
第1図は本発明に使用する感光体の例の断面図、第2図
は像形成装置の構成概要図、 第3図は像露光のためのレーザービームスキャナの構成
概要図、 第4図は現像器の要部断面図、 第5図は像形成の過程を示すフローチャート、第6図は
無金属フタロシアニン化合物のX線回折スペクトル図、 第7図は無金属フタロシアニン化合物の近赤外吸収スペ
クトル図 である。 第8図は従来イ衷用されている感光体の一部断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 1 ・・・−導電性基体 4 ・・・・キャリア輸送層 6 ・・・・キャリア発生層 7 ・・・・電荷ブロッキング層 8 ・・・・感光層 12・・・・定着器 13・・・・除電器 14・・・・クリーニング装置 15・・・・現像器 20・・・・転写前露光ランプ 21・・・・転写器 22・・・・帯電器 23・・・・像担持体 41・・・・レーザー 43・・・・ミラースキャナ 44・・・・結像用f−θレンズ 48.49・・・・シリンドリカルレンズ51・・・・
レーザービーム 61 ・・・・現像スリーブ 62 ・・・・磁石体 63 ・・・・層厚規制ブレード 69 ・・・・バイアス電源 70 ・・・・保護抵抗 である。 代理人 弁理士 逢 坂 宏 第1図 第2図 <itt*i (Absorbance (Arb、U
、) )χ穐先度(COUNTS) 昭和63年3月11 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和62年 特許願第329069号 2、発明の名称 画像形成方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号名 称
(127)コニカ株式会社 4、代理人 住 所 東京都立川市柴崎町2−4−11FINIIi
ビルf1 0425−24−5411■ −へ (1)、明細書第18頁1行目の 一以 上−
は像形成装置の構成概要図、 第3図は像露光のためのレーザービームスキャナの構成
概要図、 第4図は現像器の要部断面図、 第5図は像形成の過程を示すフローチャート、第6図は
無金属フタロシアニン化合物のX線回折スペクトル図、 第7図は無金属フタロシアニン化合物の近赤外吸収スペ
クトル図 である。 第8図は従来イ衷用されている感光体の一部断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 1 ・・・−導電性基体 4 ・・・・キャリア輸送層 6 ・・・・キャリア発生層 7 ・・・・電荷ブロッキング層 8 ・・・・感光層 12・・・・定着器 13・・・・除電器 14・・・・クリーニング装置 15・・・・現像器 20・・・・転写前露光ランプ 21・・・・転写器 22・・・・帯電器 23・・・・像担持体 41・・・・レーザー 43・・・・ミラースキャナ 44・・・・結像用f−θレンズ 48.49・・・・シリンドリカルレンズ51・・・・
レーザービーム 61 ・・・・現像スリーブ 62 ・・・・磁石体 63 ・・・・層厚規制ブレード 69 ・・・・バイアス電源 70 ・・・・保護抵抗 である。 代理人 弁理士 逢 坂 宏 第1図 第2図 <itt*i (Absorbance (Arb、U
、) )χ穐先度(COUNTS) 昭和63年3月11 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 1、事件の表示 昭和62年 特許願第329069号 2、発明の名称 画像形成方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号名 称
(127)コニカ株式会社 4、代理人 住 所 東京都立川市柴崎町2−4−11FINIIi
ビルf1 0425−24−5411■ −へ (1)、明細書第18頁1行目の 一以 上−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、キャリア発生層の上にキャリア輸送層を設けてなる
感光層を有する感光体を使用する画像形成方法において
、 (a)、フタロシアニン化合物がキャリア発生物質とし
て含有されているキャリア発生層と:このキャリア発生
層と導電性基体との間に設けられかつ置換若しくは未置
換のビニルフェノール構造単位を有する樹脂が含有され
ている電荷ブロッキング層とを有する感光体を使用し、 (b)、この感光体に帯電電位の絶対値が400V〜9
00Vである帯電を付与した後、露光により静電潜像を
形成し、次いで前記帯電電位の絶対値よりも0〜200
V低い絶対値を有する直流バイアス電圧を印加して、前
記静電潜像の反転現像を行なう ことを特徴とする画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32906987A JPH01170967A (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32906987A JPH01170967A (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01170967A true JPH01170967A (ja) | 1989-07-06 |
Family
ID=18217268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32906987A Pending JPH01170967A (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01170967A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5399103A (en) * | 1993-02-18 | 1995-03-21 | Yazaki Corporation | Connector device for connecting batteries |
-
1987
- 1987-12-25 JP JP32906987A patent/JPH01170967A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5399103A (en) * | 1993-02-18 | 1995-03-21 | Yazaki Corporation | Connector device for connecting batteries |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7223507B2 (en) | Imaging members | |
JP5077441B2 (ja) | 電子写真感光体、その製造方法および電子写真装置 | |
JP3409540B2 (ja) | 電子写真感光体およびそれを用いた画像形成装置 | |
JPH01170967A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01217359A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01217360A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01170948A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01217361A (ja) | 画像形成方法 | |
JP2002040693A (ja) | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、電荷発生層の分散塗布液の製造方法、画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ | |
JPH0193772A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01158468A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01169473A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01206358A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01170968A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01158467A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01302264A (ja) | 感光体および画像形成方法 | |
JPH0466350B2 (ja) | ||
JPH01217354A (ja) | 画像形成方法 | |
JP4023074B2 (ja) | 電子写真感光体、及び該電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、プロセスカートリッジ | |
JPH01277248A (ja) | 感光体 | |
JPH01302360A (ja) | 感光体および画像形成方法 | |
JP2000242014A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH0193770A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH0193769A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01156777A (ja) | 画像形成方法 |