JPH01150529A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光記録媒体例えば光記録ディスクや光記録カ
ードの如き光記録媒体に関する。

［従来の技術］ 従来、光ディスクの製造は、例えば基板に設けられた記
録層と光透過性保護材とを光硬化剤により接着すること
により行われている。このような用途に用いられる光硬
化剤として好ましいものは、短時間で接着できることお
よび記録層に悪影響を与える成分を含まぬことさらには
透明性などの基板の光学特性を損わないことなどの諸性
質を有するものである。

従来、種々の活性エネルギー光線硬化型エポキシ樹脂組
成物が知られている。

しかしながら、それらの多くのものは硬化初期における
接着性に劣り、また硬化時間が比較的長いため例えば光
ディスクの製造ラインのスピードを上げられないという
難点を有している。また、これらの多くのものは耐湿接
着性にも劣るという欠点も有している。

また、光記録媒体の光デイスク用基板としても種々の樹
脂製のものが知られているが、溶融成形による固化時の
小さな収縮、優れた耐熱性あるいは使用条件下での長期
に亘る寸法安定性、特に高温多湿下での吸湿による小さ
な寸法変化を有する樹脂製のものが求められている。

［発明が解決しようとする問題点］ 本発明の目的は、新規な光記録媒体を提供することにあ
る。

本発明の他の目的は、接着強度が大きく、基材の光学特
性を損なわず且つ耐水、耐湿性に優れた接着剤層、およ
び使用条件特に高温多湿下においてさえ寸法安定性の優
れた基板層を有する光記録媒体を提供することにある。

本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明
らかとなろう。

本発明によれば、本発明のかかる目的および利点は、 （■）、下記式（１） ％式％ 互に独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜２
０のアルキル基であり、Ｒ９又はＲ”とＲ１又はＲ１２
は、さらに、互に結合して３〜６員の環を形成していて
もよく、ｎは正の整数であり、 ｎが２以上の場合には、複数のＲ５、Ｒ６、Ｒ７および
Ｒ８は同一でも異っていてもよい、で表わされる重合単
位および下記式（２）％式％ で表わされる重合単位とから実質的になるエチレン・環
状オレフィン共重合体で製造された光デイスク用基板、
および （ｎ）、（Ａ）　　エポキシ樹脂 （Ｂ）　　スルホニウム塩およびシクロペンタジェニル
鉄化合物よりなる群から選ばれる化合物、 （Ｃ）　　アクリレート、メタアクリレートおよびそれ
らのオリゴマーよりなる群から選ばれる化合物、 および （Ｄ）　　有機過酸化物 を含有してなる組成物の硬化物を接着層とする、 ことを特徴とする光記録媒体によって達成される。

本発明の光記録媒体を形成する光デイスク用基板（Ｉ）
はエチレン・環状オレフィン共重合体から製造される。

エチレン・環状オレフィン共重合体としては、上記式（
１）の重合単位１０〜６０モル％と上記式（２）の重合
単位９０〜４０モル％がら実質的になるものが好ましい
。

上記式（１）の重合単位は、下記式（１）′ここで、Ｒ
’、Ｒ２、Ｒコ、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ’、Ｒ７、Ｒａ、　Ｒ
％、ＲＩＯ１Ｒ口、Ｒ”および。

の定義は上記式（１）に同じである、 で表わされる環状オレフィン（モノマー）に由来する。

また、上記式（２）の重合単位はエチレンに由来する。

上記式（１）′において、Ｒ１〜Ｒ”のハロゲン原子と
しては、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、特に好ま
しくは塩素又は臭素をあげることができる。

炭素数１〜２０のアルキルは、直鎖状であっても分枝鎮
状であってもよく、その例としては例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｎ
−ヘキシル等を挙げることができる。

また、Ｒ９又はＲＩｏとＲ”又はＲ”は、互に結合して
３〜６員の環を形成していてもよい。環は炭素環が好ま
しい。

ｎは正の整数である。

ｎがＯの場合、上記式（１）′は下記式（１）’Ｉに″ ここで、Ｒ１，Ｒ２、Ｒ：１．Ｒ４、Ｒ＠、ＲＩｏ、Ｒ
”およびＲ１２の定義は上記に同じである、で表わされ
る。また、例えばｎが１の場合、上記式（１）′は下記
式（１）’２ ここで、Ｒ’〜Ｒ１２の定義は上記に同じである、 で表わされる。

また、上記式（１）′において、ｎが２の場合、下記式
（１）’３、 ここで、Ｒ１−Ｒ１２の定義は上記に同じであり、 そして上記式に２度現われるＲ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ
８はそれぞれが互いに異っていてもよい、 で表わされる。

式（１）′の環状オレフィンとしては、式（１）’２で
表わされるものが、入手し易く且つ製造し易いので、好
ましい。特に、Ｒ１−Ｒ１２がいずれも水素であるが、
耐熱性あるいは耐溶剤性の優れなポリマーを与えるので
好ましい。

式（１）′の化合物としては、例えば下記化合物を例示
できる： 上記の如き環状オレフィンは、例えば米国特許３５５７
０７２号（特公昭４６−１４９１０号公報）や特開昭５
７−１５４１３３号公報の方法を適用することによって
製造することができる。

上記式（１）′のモノマーとエチレンとの共重合体は、
周知のチーグラー触媒とくにバナジウム系のチーグラー
触媒を使用して重合することにより製造される。そのよ
うな触媒や重合方法は、たとえば特開昭６０−１６８．
７０８号公報に記載されている。

また、共重合体の製造の際には、その性質を損なわない
範囲、たとえばエチレンと等モル未満で他のモノマー成
分を共重合させることができる。具体的にはα−オレフ
ィンや環状オレフィンなどが挙げられ、通常炭素原子数
３〜２０、好適には３〜１０のα−オレフィン、たとえ
ばプロピレン、１−ブテン、３−メチル−１−ブテン、
１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン、４−メチル
−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デ
セン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−へキサデ
セン、１−エイコセンなどを例示できる。環状オレフィ
ンは、架橋のないシクロオレフィンやスチレン類があり
、たとえばシクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−
ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、
２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、スチ
レン、α−メチルスチレンなどを例示できる。ジシクロ
ペンタジェン、エチリデンノルボルネン、ビニルノルボ
ルネン、といったポリエンも同様に共重合可能である。

また（無水）マレイン酸等の不飽和カルボン酸類も共重
合可能である。

本発明で用いられるエチレン・環状オレフィン共重合体
としては、好ましくはデカリン溶媒中、１３５℃で測定
した極限粘度［η］が０．０３〜１０　ｄ１７ｇ、更に
は０．１〜５　ｄｌ／ｇ、　Ｘ線回折による結晶化度が
１０％以下、更には５％以下、沃素価が５以下、更には
１以下、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５０〜２５０℃、更
には６０〜２００℃の範囲のものが用いられる。

上記エチレン・環状オレフィン共重合体の特徴は、式（
１）′のモノマー成分が重合体中において主として式（
１）で示される構造をとっていることであり、これによ
り重合体の沃素価は上記のとおり通常５以下、多くが１
以下となる。またこの構成をとることは１３Ｃ−ＮＭＲ
によっても裏付けられる。

そして本構造をとることにより、重合体は化学的に安定
であって、耐水性及びアルカリや酸などの耐薬品性に優
れ、更に耐溶剤性、耐熱性、耐候性にも優れる。また極
めて低含水率である。さらに寸法精度にも優れる。

上記エチレン・環状オレフィン共重合体からなる光デイ
スク用基板は通常それ自体公知の溶融成型法によって製
造することができる。

本発明の光記録媒体の接着層（ＩＩ）は、エポキシ樹脂
（Ａ）、スルホニウム塩およびシクロペンタジェニル鉄
化合物よりなる群から選らばれる化合物（Ｂ）、アクリ
レート、メタクリレートおよびそれらのオリゴマーより
なる群から選らばれる化合物（Ｃ）および有機過酸化物
（Ｄ）を含有する組成物の硬化物である。

上記組成物に含有されるエポキシ樹脂（Ａ）としては、
例えば１分子中に２個以上のエポキシ基を含有する化合
物が好ましく、例えば樹脂族あるいは脂環式のエポキシ
化合物が特に好ましい。

エポキシ樹脂（Ａ）としては、たとえば、ビスフェノー
ルＡ、ビスフェノールＦ、１，１，２．２−テトラキス
（４′−ヒドロキシフェニル）エタンなどのポリフェノ
ール類化合物のグリシジルエーテル系エポキシ樹脂：カ
テコール、レゾルシン、ヒドロキノン、フロログルシン
などの多価フェノール類のグリシジルエーテル系エポキ
シ樹脂；エチレングリコール、ブタンジオール、グリセ
ロール、エリスリトール、ポリオキシアルキレングリコ
ールなどの多価アルコール類のグリシジルエーテル系エ
ポキシ樹脂；ノボラック型エポキシ樹脂；ビニルシクロ
ヘキセンジオキシド、リモネンジオキシド、ジシクロペ
ンタジェンオキシドなどの環状脂肪族系エポキシ樹脂；
フタル酸、シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸など
のポリカルボン酸のエステル縮合物のポリグリシジルエ
ステル系エポキシ樹脂；ポリグリシジルアミン系エポキ
シ樹脂などがあげられる。これらのエポキシ樹脂のうち
ではポリフェノール類化合物のグリシジルエーテル系エ
ポキシ樹脂またはノボラック型エポキシ樹脂が好ましく
、またビスフェノールＡまたはビスフェノールＦのグリ
シジルエーテル系エポキシ樹脂がさらに好ましく、就中
ビスフェノールＡのグリシジルエーテル系エポキシ樹脂
が特に好ましい。

また、上記組成物には、スルホニウム塩またはシクロペ
ンタジェニル鉄化合物（Ｂ）が含有される。

スルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩
が好ましく、とりわけｌ・リフェニルスルホニウム塩が
特に好ましい。かかるスルホニウム塩のアニオンとして
は、例えばＡｓＦ　ｓ−あるいはＢＦ４−等が好ましい
。

かかるスルホニウム塩としては、例えばトリノＳＢＦ、
　　）などを挙げることができる。

シクロペンタジェニル鉄化合物としては、分子中にシク
ロペンタジェニル基を２つ含有する化合物、又は分子中
にシクロペンタジェニル基を１つとフェニルもしくはイ
ソプロピルフェニルの如き芳香族基を１つ含有する化合
物が挙げられる。これらのうち、後者の化合物がより好
ましく、さらにシクロペンタジェニル基とイソプロピル
フェニル基とを有するものが特に好ましい。

シクロペンタジェニル化合物としては、例えばの如きシ
クロペンタジェニルイソプロビルフェニル鉄（ＩＩ）塩
を例示することができる。

上記組成物における化合物（Ｂ）としては、スルホニウ
ム塩およびシクロペンタジェニル鉄化合物を夫々単独で
使用することができ、また両者を併用することもできる
。化合物（Ｂ）としては、上記式で示されるシクロペン
タジェニルイソプロビルフェニル鉄（Ｉｆ）塩が特に好
ましい。

また、上記組成物に含有される（Ｃ）成分は、アクリレ
ート、メタアクリレートおよびそれらのオリゴマーより
なる群から選らばれる。

かかるアクリレートおよびメタアクリレートとしては、
モノヒドロキシ化合物又はジ以上のポリヒドロキシ化合
物とアクリル酸又はメタアクリル酸とのエステルが用い
られる。

かかるエステルとしては、例えば、炭素数１〜２０の一
価の脂肪族アルコール、炭素数１〜３０の脂環式アルコ
ール、炭素数１〜２０の二価の脂肪族アルコール、炭素
数１〜２０の二価の脂環式アルコール、炭素数１〜２０
の三価の脂肪族アルコール、水酸化幕末端のポリエステ
ル、等のヒドロキシ化合物のアクリル酸又はメタアクリ
ル酸とのエステルが挙げられる。

かかるエステルの具体例としては、例えばメチルアクリ
レート、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート
、エチルメタアクリレート；シクロへキシルアクリレー
ト、ノルボニルアクリレート、ジシクロペンタニルアク
リレート、ジシクロペンテニルアクリレート、イソボロ
ニルアクリレ−１−、シクロへキシルメタアクリレート
、ヘキサシクロ［６，６４，１３，ｓ、　１＋ｏ、＋ｚ
、　０２．７゜ｏ９．ｌ＝］ヘプタデシル−４−アクリ
レート１２−メチルへキサシクロ［６，６，１，１”。

１１０．１．　Ｑ　２°７．　Ｑ　！１．１４］ヘプタ
デシルー４−アクリレート １１−メチルへキサシクロ［６，６，１，１’゛’。

１１０．１３．　Ｑ２・７．　Ｑ９．＋４］ヘプタデシ
ル−４−アクリレート １２−エチルへキサシクロ［６，６，１，１”。

１１０．１ｆｆ、　Ｑ　２．７．　Ｑ　９．１４］ヘプ
タデシル−４−アクリレート １１−エチルへキサシクロ［６，６，１，１’−’。

１　ＩＱ°１３．　Ｑ　２．７．　Ｑ　９．＋４］ヘプ
タデシル−４−アクリレート オクタシクロ［８，８，１”、１”、１．”　１’。

１１１、ｌｌｉ、　Ｑ　、　Ｑ　５．＠、　　Ｑ　１２
．１７］　トコシル−５−アクリレート １５−メチルオクタシクロ［８，８，１”、１’・７゜
１目・Ｉｌｌ、　　ｌ、　１３　目、ｏ、ｏ”、ｏ”・
＋７］　トコシル−５−アクリレート、 ２．７−ジメチルテトラシクロ［４，４，０、１”。

１　’１０］ドデシルー３−アクリレート、２．１０−
ジメチルテトラシクロ［４，４，０、１２５゜１７１０
］　ドデシル−３−アクリレート、１１．１２−ジメチ
ルテトラシクロ［４，４，０，１２，５，１７，１０コ
ドデシル−３−アクリレート、テトラシクロ［４，４，
０，１”、１７１’コドデシル−３−アクリレート、 ９−置換テトラシクロ［４，４，０，１２・５，１７・
１０］ドデシル−３−アクリレート（９位の置換基＝メ
チル、エチル、プロピル、イソブチル、ヘキシル、シク
ロヘキシル、ステアリル、ブロモ、フルオロ）、 ８−置換テトラシクロ［４，４，０，１２５，１’ｌ’
］ドデシル−３−アクリレート（８位の置換基＝メチル
、エチル、プロピル、イソブチル、ヘキシル、シクロヘ
キシル、ステアリル、ブロモ、フルオロ）、 ８．９−ジ置換テトラシクロ［４，４，０，１２５゜１
７１０］ドデシル−３−アクリレート（８位、９位の置
換基＝メチル、エチル、プロピル、イソブチル、ヘキシ
ル、シクロヘキシル、ステアリル、ブロモ、フルオロ）
、 ヘキサシクロ［６，６，１，１”、１１０”、Ｏ”。

０ｇ・１４］ヘプタデシル−４−メタクリレート、１２
−メチルへキサシクロ［６，６，１，１”。

１１０．１３．　Ｑ　２．？、　Ｑ　５・１４コヘプタ
デシル−４−メタクリレート、 １１−メチルへキサシクロ［６，６，１，１３・６゜１
１０・＋３．　Ｑ２・７．０９・１４］ヘプタデシル−
４−メタクリレート、 １２−エチルへキサシクロ［６，６，１，１”。

１１０・＋３．　Ｑ２・７．　Ｑ９・＋４］ヘプタデシ
ル−４−メタクリレート、 １１−エチルへキサシクロ［６，６，１，１”。

１１０．１３．　Ｑ　２．？、　Ｑ　Ｓ目］ヘプタデシ
ル−４−メタクリレート、 オクタシクロ［８，８，１２・Ｓ、　ｌ　４．７．　ｌ
　、　＋１．１６゜ｌｌ３０，０，０３８．　　Ｑ　１
２．１７コドコシルー５−メタクリレート １５−メチルオクタシクロ［８，８，１２９，］、”。

１１１、＋１．　ｌ　１３・１４．０．０３・−Ｑ　１
２．１７］トコシル−５−メタクリレート、 ２．７−ジメチルテトラシクロ［４，４，０，１２５゜
１７．１０］　ドデシル−３−メタクリレート、２．１
０−ジメチルテトラシクロ［４，４，０，１”。

１７．１０］　ドデシル−３−メタクリレート、１１．
１２−ジメチルテトラシクロ［４，４，０，１２，５，
ｌ　７．１０］　ドデシル−３−メタクリレート、テト
ラシクロ［４，４，０，１２°５，１７・１０］ドデシ
ル−３−メタクリレート、 ９−置換テトラシクロ［４，４，０，１”・５，１７・
１０コドデシル−３−メタクリレート〈９位の置換基＝
メーｊ−ル、エチル、プロピル、イソブチル、ヘキシル
、シクロヘキシル、ステアリル、ブロモ、フルオロ）、 ８−置換テトラシクロ［４，４，０，１２５，１’１’
コドデシル−３−メタクリレート（８位の置換基＝メチ
ル、エチル、プロピル、イソブチル、ヘキシル、シクロ
ヘキシル、ステアリル、ブロモ、フルオロ）、および ８．９−ジ置換テトラシクロ［４，４，０，１２・５゜
１７１０］ドデシル−３−メタクリレート（８位。

９位の置換基−メチル、エチル、プロピル、イソブチル
、ヘキシル、シクロヘキシル、ステアリル、ブロモ、フ
ルオロ）、 並びに下記式（Ｉ） Ａ　−（Ｍ−Ｎ）ｎ−Ｍ−Ａ ここで、Ａはアクリル酸残基であり、 Ｍは２価の脂肪族又は脂環性アルコー ル残基であり、 Ｎは２塩基酸の残基であり、そして ｎは正の数である、 で表わされる両末端をアクリル酸で封鎖したポリエステ
ル、下記式（Ｉｔ） Ａ　−（Ｘ−Ｙ）ｍ−Ｘ−Ａ ここで、Ａの定義は上記に同じであり、Ｘは３価以上の
多価の脂肪族又は脂環 族アルコール残基であり、 Ｎは２価以上の多塩基酸の残基であり、そしてｍは正の
数である、 で表わされる両末端および鎖中の水酸基をアクリル酸で
封鎖したポリエステルである。

これらのアクリレート又はメタアクリレートのうちの一
部の化合物は、特開昭６１−１３６５２９号公報に開示
されている。これらのアクリレート又はメタアクリレー
トはさらにそれ自体公知の方法に従って予備重合せしめ
られて製造されたオリゴマーとして使用することもでき
る。

上記組成物に使用される（Ｃ）成分としては、アクリル
酸又はメタアクリル酸のアルキルエステル、上記（１）
の化合物および上記式（ＩＩ）の化合物の混合物が好ま
しい。

上記組成物はさらに、有機過酸化物（Ｄ）を含有する。

有機過酸化物としては、例えばベンゾイルペルオキシド
、ジクロルベンゾイルオキシド、クメンハイドロペルオ
キシド、ジクミルペルオキシド、ジーｔｅｒｔ−ブチル
ペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ペルオ
キシドベンゾエート）ヘキシン−３，１，４−ビス（ｔ
ａｒｔ−ブチルペルオキシイソプロビル）ベンゼン、ラ
ウロイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルベルアセテー
ト、２゜５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル
ペルオキシ）ヘキシン−３，２，５−ジメチル−２，５
−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサン、ｔｅｒ
ｔ　−ブチルベルベンゾエート、ｔｅｒｔ−ブチルベル
フェニルアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルベルイソブチレ
ート、ｔｅｒｔ−ブチルベルー５ｅｃ−オクトエート、
ｔｅｒＬ−ブチルベルビバレート、クミルベルビバレー
トおよびｔｅｒｔ−ブチルベルジエチルアセテートがあ
る。

これらのうちではジクミルペルオキシド、ジーｔｅｒｔ
−ブチルペルオキシド、２．５−ジメチル−２，５−ジ
（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド）ヘキシン−３，２，
５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキ
シ）ヘキサン、１．４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオ
キシイソプロビル）ベンゼンなどのジアルキルペルオキ
シドが好ましい。

上記組成物は上記のとおり、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）お
よび（Ｄ）成分を必須の構成成分とする。

上記組成物は、好ましくは（Ａ）成分１００重量部に対
しくＢ）成分、（Ｃ）成分および（Ｄ）成分をそれぞれ
１５〜３５重量部（より好ましくは２０〜３０重量部）
、１〜１０重量部（より好ましくは２〜５重景部）およ
び１〜１０重量部（より好ましくは２〜５重址部）で含
有する。

上記組成物には光重合開始助剤は必ずしも必要ではない
が、ｕｖなどの比較的低エネルギーの活性エネルギー光
線を用いる場合には配合した方が望ましい。光重合開始
助剤は、ｕｖなどを照射されると分解してラジカルを発
生する分解型あるいは水素を引き抜かれてラジカルを発
生する水素引抜き型などの公知の種々のものを使用でき
る。かかる光重合開始助剤の具体例としては、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブ
チルエーテルなどのベンゾインまたはそのエーテル；ベ
ンゾフェノン、ｐ−クロルベンゾフェノン、ｐ−メトキ
シベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物；ベン
ジル、ベンジルジメチルケタールなどのベンジル系化合
物；１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−プロパノン、１−フェニル−２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパノン、１（４−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−プロパンなどのヒドロキシアルキルフェニルケ
トン系化合物などを挙げることができる。

さらに増感剤として、例えばアントラセン、ナフタレン
、クリセン、フェナントレンなどの炭化水素系；ｐ−ジ
ニトロベンゼン、ｐ−ニトロアニリン、１，３．５−ト
リニトロベンゼン、ｐ−ニトロジフェニルなどのニトロ
化合物；ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ト
リエチルアミン、ジエチルアミノエチルメタクリレート
、ｐ−ニトロアニリン、Ｎ−アセチル−４−ニトロ−１
−ナフチルアミンなどのアミノ化合物；フェノール、ｐ
−ニトロフェノール、２．４−ジニトロフェノール、２
，４．６−）ジニトロフェノールなどのフェノール化合
物；ベンズアルデヒド、９−アントラアルデヒド、アセ
トフェノン、ベンゾフェノン、ジベンザルアセトン、ベ
ンジル、ｐ、ｐ’−ジアミノベンゾフェノン、ｐ、ｐ’
−テトラメチルジアミノベンゾフエノンなどのケトン類
；アントラキノン、１．２−ベンゾアントラキノン、ベ
ンゾキノン、１．２−ナフトキノン、１，４−ナフトキ
ノンなどのキノン類；アントロン、１，９−ベンゾアン
トロン、６−フェニル−１，９−ベンゾアンＩ・ロン、
３−フェニル−１，９−ベンゾアントロン、２−ケト−
３−アザ−１，９−ベンゾアントロン、３−メチル−１
，３−ジアザ−１，９−ベンゾアントロン、などのアン
トロン類などを挙げることができる。

上記組成物は基本的には無溶媒であるが、溶媒を添加し
てもよく、さらに反応性希釈剤、増感剤、増粘剤、ダレ
防止剤、保存安定剤、可塑剤等通常の無溶剤型接着剤に
配合され得る成分の配合をさまたげるものではない。

本発明の光記録媒体は、例えば光デイスク用基板（Ｉ）
の表面上に、上記組成物を有機溶剤例えばアセトン、メ
チルエチルケトンあるいはメチルイソブチルケトンの如
き有機ケトンに溶解した溶液として塗布し、例えばこれ
をもう−枚の光デイスク用基板（１）とはり合せ、次い
で紫外線、電子線、放射線、γ−線好ましくは紫外線な
いし電子線あるいは放射線を照射して該組成物を接着剤
として硬化させることによって製造することができる。

本発明の光記録媒体としては、例えば光記録層の形成さ
れた光デイスク用基板同志を接着剤層で接着したもの、
光記録層の形成された光デイスク用基板と光記録層のな
い光デイスク用基板とを接着剤層で接着したもの等を挙
げることができる。

この基板の上には、それ自体公知の方法に従って、光磁
気記録層や相変化型記録層からなる光記録層を設けるこ
とができる。また、この光記録層上には、さらに必要に
応じて金属膜等からなる反射層を形成してもよいし、基
板と光記録層の間にあるいは光記録層上に誘電体からな
るエンハンス層などを形成していてもよい。

以下実施例により本発明をさらに詳述する。

実施例１ くコーティング剤の調整〉 ビスフェノールＡｆｆＪエポキシ樹脂（ＥＰＯＭＩＫ　
　Ｐ−１４０、三井石油化学工業（株）製）とアクリル
エステルモノマー（東亜合成化学（株）品Ｍ−５７００
）及びアクリルオリゴマー（東亜合成化学く株）品Ｍ−
６１００、Ｍ−６３００、Ｍ−８０３０）をエポキシ樹
脂：　Ｍ−５７００：　Ｍ−６１００：Ｍ−６３００：
Ｍ−８０３０の重量比が８０ニア：５：３：５となる割
合で混合した。得られた配合物にシクロペンタジェニル
イソプロビルフェニル鉄（ＩＩ）塩、アントラセン及び
シクロへキシルハイドロパーオキサイドをこの順で１０
０／２１０．２５／２．５の重量比で混合し、これを７
倍のアセトンで希釈してコーティング剤を調整した。

くＺ−ポリマーの製造〉 撹拌翼を備えた２１のガラス製重合器を用いて、連続的
に、エチレンと多環状オレフィン１，４，５゜８−ジメ
タノ−１，２，３，４，４ａ、５．８．８ａ−オ以下Ｄ
ＭＯＮと略す）の共重合反応を行った。すなわち、重合
器上部から、ＤＭＯＮのシクロヘキサン溶液、ＶＯ（Ｏ
Ｃ２Ｈ６）Ｃ１２のシクロヘキサン溶液（触媒）、およ
びエチルアルミニウムセスキクロリド（Ａｆｆｉ（Ｃ２
Ｈｓ）＋、ｉＣＬ、ｓ）のシクロヘキサン溶液（触媒）
を、重合器内に連続的に供給した。それぞれの添加量は
、重合器内でのＤＭＯＮ濃度６０ｇ／ｌ、重合器内での
バナジウム濃度０゜９ｎｍｏｌ／１、および重合器内で
のアルミニウム濃度が７．２ｍｍｏｌ／ｌとなるような
量とした。一方、重合器下部から、重合器内の重合液が
常に１１になるように連続的に抜き出した。また、重合
器上部から、エチレンを毎時８５Ｎ、水素を毎時６Ｎ、
窒素を毎時４５１の速度で供給した。共重合反応は、重
合外部にとりつけられたジャケットに冷媒を循環させる
ことにより１０℃で行った。

上記条件で共重合反応を行うと、エチレン多環状オレフ
ィン（エチレン・ＤＭＯＮ）共重合体を含む重合反応混
合物が得られた。重合器下部から抜き出した重合液に、
イソプロピルアルコールを少量添加して重合反応を停止
させた。この後重合液に対して約３倍量のアセトンが入
れである家庭用ミキサー中に、ミキサーを回転させなが
ら重合液を投入し、生成共重合体を析出させた。析出さ
せた共重合体は濾過により採取し、ポリマー濃度が約５
０　ｇ／ｌになるようにアセトン中に分散させ、アセト
ンの沸点で約２時間共重合体を処理した。上記記載の処
理後、沢過により共重合体を採取し、１２０℃で一昼夜
減圧乾燥した。

以上のようにして得られたエチレン・ＤＭＯＮランダム
共重合体（エチレン多環状オレフィン共重合体）の”ｃ
−ＮＭＲ分析で測定した共重合体中のエチレン組成は５
９ｍｏ１％、１３５℃デカリン中で測定した極限粘度［
η］は０．４２ｄ１７ｇ、ガラス転移温度は１３６℃で
あった。

上記Ｚポリマーから常法に従って厚さ１２ｍｍ、直径１
３０Ｉの光ディスクを製造し、その上に光磁気記録層を
設けた。

〈コーティング及びはりあわせ〉 前記コーティング剤を、光デイスク上に２−滴下し、ス
ピナーでコーティングした。コーティングした２枚のデ
ィスクをはり合わせプレスにがけ（２０Ｋｇ／　ａｍ２
）、続いて、紫外線照射（１６０ｍＷＺＣ彌、３０秒）
した。

く物性の測定〉 この様にしてはり合わせた光ディスクの接着強度は、第
１図に示す治具を用いて測定しな。第１図に示すとおり
、上下治具の間にはり合わせディスクをおき、減圧にし
、ディスクを上下治具につけたまま、インストロンを上
下に引き強度を測定する。初期強度、耐水、耐湿テスｌ
−＜７０℃、８５％、２００時間）後の強度を併せて表
１に記す。

又、この際ディスクの反りもなく、接着層の変化は見ら
れなかった。

実施例２ 実施例１のコーティング剤の調製においてアントラセン
のかわりに１．２−ベンゾアントラキノンを加えコーテ
ィング剤を調製した。これを用い、実施例１と同様にデ
ィスクのはり合わせを行い、接着強度を測定した。結果
を表１に示す。

実施例３ 実施例１のコーティング剤の調製において、シクロペン
タジェニルイソプロビルフェニル鉄（Ｉｆ）塩のかわり
にトリフェニルスルホニウムテトラフーティング剤を調
製した。これを用い、実施例１と同様にディスクのはり
合わせを行い、接着強度を測定した。結果を表１に示す
。

表　　１

【図面の簡単な説明】

第１図は光ディスクの接着強度を測定する治具の概要を
示す模式図である。 インストロン 手続補正口 昭和６３年１１月１　日 特許庁長官　　吉　１）文　毅　　殿 １、事件の表示 昭和６２年特許願第３０９４２８号 ２、発明の名称 光記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係　　　　特許出願人 名称　’（５８８）三井石油化学工業株式会社５、補正
命令の日付　　　（自発） ６、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ７、補正の内容 別紙のとおり。 （１）明細書第２８頁末行〜′ｆｒＪ２９頁２行ノ「１
５〜３５重量部（より好ましくは２０〜３０重量部）、
１−１０重量部（より好ましくは２〜５重量部）」を、
「１〜ＩＯ重量部（より好ましくは２〜５重量部）、１
５〜３５重量部（より好ましくは２０〜３０重量部）」
と訂正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ I ）、下記式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１） ここで、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ
   ＾６、Ｒ＾７、Ｒ＾８、Ｒ＾９、Ｒ＾１＾０、Ｒ＾１＾
   １およびＲ＾１＾２は、互に独立に、水素原子、ハロゲ
   ン原子又は炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ＾９
   又はＲ＾１＾０とＲ＾１＾１又はＲ＾１＾２は、さらに
   、互に結合して３〜６員の環を形成していてもよく、 ｎは正の整数であり、 ｎが２以上の場合には、複数のＲ＾５、Ｒ＾６、Ｒ＾７
   およびＲ＾８は同一でも異なっていてもよい、で表わさ
   れる重合単位および下記式（２） −ＣＨ＿２ＣＨ＿２− で表わされる重合単位とから実質的になるエチレン・環
   状オレフィン共重合体で製造された光ディスク用基板、
   および （II）、（Ａ）エポキシ樹脂 （Ｂ）スルホニウム塩およびシクロペンタジエニル鉄化
   合物よりなる群から選ばれる化合物、 （Ｃ）アクリレート、メタアクリレートおよびそれらの
   オリゴマーよりなる群から選ばれる化合物、 および （Ｄ）有機過酸化物を含有してなる組成物の硬化物を接
   着層とする、 ことを特徴とする光記録媒体。