JPH01142748A - 現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的Ｊ （産業上の利用分野） 本発明は、電子複写機などにおける画像形成装置に装備
される現！＠装置の改良に関するものであり、さらに詳
しくは、帯電しにくい非磁性一成分系現像剤を用いても
、かぶりのない高品位の画像を長時間安定して取得可能
であり、しかも駆動トルクを軽減した現像装置に関する
ものである。

（従来の技術） 一般に、電子複写装置などの画像形成装置における現像
装置には、像担持体である感光体上に形成された静電潜
像を可視化するための現像処理手段として、例えば二成
分系あるいは磁性−成分系現像剤を用いるものが知られ
ている。

しかしながら、上記した二成分系現像剤を用いた現像処
理手段では、現像剤であるトナーとキャリアとの濃度比
を正確にコントロールする必要があり、一方磁性一成分
系現像剤を用いる現像処理手段では、トナーが暗色系の
磁性体を含んでいるため、カラー化が困難であるなどの
不都合を有するばかりか、いずれの現像処理手段におい
ても、現像剤保持体である現像ローラとしてマグネット
ローラを必要とするため、コスト的に非常に高価たもの
となっていた。

そこで、上記のような不具合を解消するものとして、最
近非磁性の一成分現像剤を用いた現像処理手段が提案さ
れている。

このような非磁性一成分系現像剤を用いた現像装置にお
いては、トナーを収納したホッパーにミキサーおよびト
ナー供給ローラを配設し、これらの回転作用によりトナ
ー保持体である現像ローラにトナーを供給すると共に、
この現像ローラの外周に薄層化規制部材としての弾性ブ
レードを当接させて、前記現像ローラ上に厚さ約３０μ
ｍ程度のトナー薄膜層を形成する。

そして、このトナー薄膜層を像担持体である感光体に近
接対面させることにより、前記感光体上の静電潜像を現
像するようになっている。

ところで、上述した従来の非磁性−成分現像剤を用いた
現像装置においては、前記感光体として負極性のものを
用いているため、コーテイング後の帯電量が約＋１２μ
Ｃ／ｇ程度となるような正帯電性のトナーが用いられて
いる。

このような視像方式は、基本的に高抵抗の一成分系トナ
ーを用いるものであり、トナーの帯電は現像ローラと弾
性ブレードとの摩（寮帯電によってなされる。

また、トナーは、トナーと現像ローラとの回転に連れて
搬送されるため、二成分系現象剤や磁性−成分系現像剤
のように、磁気による搬送を必要としない。

したがって、従来の非磁性−成分現像剤を用いた現像装
置によれば、きわめて簡単な構造で高品位の画像を実現
でき、コスト面でも有利で、カラー化にも最適であると
されていた。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、上述した従来の非磁性一成分系現像剤を
用いた現像装置においては、長時間運転している内に、
トナー保持体としての現像ローラおよび薄層化規制部材
としての弾性ブレードが、トナーとの摩擦により摩耗し
、画像濃度の低下や文字のかすれが顕著になるという問
題があった。

また、弾性ブレードとして金属製またはゴム製のものを
使用しているため、トナーとの摩擦が大きり、現像装置
の駆動トルクが増大するという問題があった。

さらには、帯電しにくいトナーを十分に帯電させること
ができず、帯電性の低いトナーを用いる場合には、地か
ぶりのある低品位の画像しか得られないという問題があ
った。

本発明は、上述した従来の現像装置における問題点を解
決するために検討した結果、達成されたものである。

したがって、本発明の目的は、帯電しにくい非磁性一成
分系現像剤を用いても、かぶりのない高品位の画像を長
時間安定して取得可能であり、しかも駆動トルクを軽減
した現像装置を提供することにある。

［発明の構成］ （問題点を解決するための手段） すなわち、本発明の現像装置は、静電潜像を現像するた
めに搬送される非磁性一成分系トナーを保持するトナー
保持体と、このトナー保持体に前記トナーを供給する手
段と、前記トナー保持体上のトナーを薄層化する薄層化
規制部材とを具備する現＠装置において、前記トナー保
持体表面に、Ａｌ、ＢおよびＣから選ばれた少なくとも
１種の原子を含有するセラミクスをコーティングし、さ
らに薄層化規制部材の表面に、Ｔｉ、Ｗから選ばれた少
なくとも１種の原子を含有するセラミクスをコーティン
グしたことを特徴とする。

（作用） 本発明の現像装置は、複写画像の長時間安定性および装
置の駆動効率がすぐれており、さらには帯電性の低いト
ナーを用いる場合にも、地かぶりのない高品位の画像を
得ることができる。

すなわち、前記セラミクスは硬度が高く、しかも耐摩耗
性にすぐれているため、トナー保持体および薄層化規制
部材の摩擦による摩耗が減少し、現像装置を長時間運転
しても、安定して良好な画像を得ることができる。

また、前記セラミクスは摩擦係数が小さいため、トナー
保持体と薄層化規制部材との間の摩擦が減少し、現＠装
置の駆動トルクを軽減することができる。

しかも、前記セラミクスは絶縁性にすぐれており、帯電
しにくいトナーを十分帯電させることができるため、帯
電性の低いトナーを用いる場合にも地かぶりのない高品
位の画像を得ることができる。

したがって、本発明の現像装置によれば、画像濃度の低
下、文字のかすれおよび地かぶりなどを発生することが
なく、常に鮮明な画像を得ることができる。

（実施例） 以下に、図面を参照しつつ、本発明の現像装置の実施例
について、詳細に説明する。

第１図は本発明の現像装置を搭載した電子複写機の概略
断面説明図、第２図は本発明の現像装置を示す概略断面
説明図、第３図は同部分正面説明図、第４図は本発明の
現像装置におけるトナー保持体と薄層化規制部材の当接
状態を示す概略断面説明図、第５図は薄層化規制部材に
対するセラミクスのプラズマＣＶＤコーティング装置を
示す概略断面説明図、第６図はトナー保持体に対するセ
ラミクスのプラズマＣＶＤコーティング装置を示す概略
側断面説明図、第７図は同概略平断面説明図、第８図は
薄層化規制部材に対するセラミクスのスパッタリングコ
ーティング装置を示す概略断面説明図である。

第１図において、複写様本体１内の略中火には、像担持
体としての感光体２が矢印方向に回転自在に設けられて
いる。

この感光体２の周囲には、その回転方向にしたがって、
帯電装置３、結像レンズ４、現像Ｈ置５、転写装置６、
クリーナー７および除電装置８が順次配設さ札ている。

また、本体１の上部側には、原稿を露光する光学系９が
設けられており、前記本体１の下部側には給紙カセット
１０が装着されている。

この給紙カセット１０から用紙が供給され、供給さ机だ
用紙は搬送路１１に沿って搬送されるように構成されて
いる。

搬送路１１には用紙の搬送方向に沿ってレジストローラ
１２、定着装置１３および排紙ローラ１４が配設されて
いる。

なお、図中の１５は排紙トレイ、１６は原稿台である。

上述した構成からなる複写機を用いて画像を形成するに
際しては、光学系９により原稿台１６上の原稿に光が照
射され、その反射光が結像レンズ４を介して感光体２に
結像されることにより、前記感光体２の表面に静電潜像
が形成される。

そして、この静電潜像に対し、現像装置５から非磁性一
成分系現像剤（以下単にトナーと略称する）が供給され
て可視像化される。

一方、給紙カセット１０から用紙が供給されて、感光体
２と転写装置６との間に送られ、前記感光体２上の可視
像が用紙に転写される。

転写された用紙は搬送路１１に沿って定着装置１３へ搬
送され、定着された後、排紙ローラ１４を介して排紙ト
レイ１５へと排紙されるようになっている。

次に、本発明の現像装置について第２〜４図にしたがっ
て詳述する。

第２図および第３図において、本発明の現像装置５はホ
ッパー状の現像ユニット５１を具備し、この現像ユニッ
ト５１内には非磁性一成分系現像剤（トナー）５２が収
納されている。

そして、現像ユニット５１内には、トナー保持体として
の現像ローラ５５にトナー５２を供給する供給ローラ５
４が、現像ローラ５５に接して設けられており、前記現
像ローラ５５の回転方向と逆方向に回転するように構成
されている。

さらに、現像ユニット５１内には、収納されているトナ
ー５２を攪拌するミキサー（攪拌羽根）５３が回転可能
に設けられている。

前記現像ローラ５５には、その周面に現像剤の′ｉａ層
を形成する薄層化規制部材としての弾性ブレード５７が
、たとえば約２０〜５００Ｑ／ＣＩ程度の圧力で圧接さ
れている。

この弾性ブレード５７の上端部はホルダー５６によって
導通状態に保持されている。

また、航記現像ローラ５５の下部には、この現像ローラ
５５の表面に残存しているトナー５２を回収するための
回収ブレード５８が接触されている。

なお、前記現像ローラ５５は感光体２に対向し、図示し
ない駆動手段により、前記感光体２の周速の１〜３倍の
周速で変速回転可能となっており、静電潜像が形成され
た感光体２と前記現像ローラ５５との間には、直流バイ
アス、交流バイアスまたは直流と交流とを重畳したバイ
アスが印加されている。

次に、この現＠装置５の動作について説明する。

現像ユニット５１内に収納されているトナー５２は、ミ
キサー５３および供給ローラ５４の回転により攪拌され
ると共に、供給〇−ラ５４により搬送されて、現像ロー
ラ５５に擦り付けられ、さらに弾性ブレード５７により
圧接されて、その層厚が制御されつつ、ｌＪ［帯電され
る。

そして、十分に帯電されたトナー５２は、感光体２に対
面する位置に搬送され、この感光体２に形成された静電
潜像に対面して、これを可視像化する。

また、現像ローラ５５の表面に残存したトナー５２は、
回収ブレード５８により現像ユニット５１内へと戻され
る。

そして、通常現像ローラ５５は金属表面からなり、また
弾性ブレード５７は金属またはゴムの薄膜から構成され
ているが、本発明においては、これら現像ローラ５５お
よび／または弾性ブレード５７の表面に、Ａｌ、Ｂおよ
びＣから選ばれた少なくとも１種の原子を含むセラミク
スがコーティングされていることを特徴としている。

すなわち、第４図に示したように、本発明の現像装置に
おいて、現像ローラ５５の表面にはセラミクス層５５Ａ
が均一な厚みでコーティングされており、また弾性ブレ
ード５７の表裏表面にもセラミクスｆｆ１５７Ａおよび
５７Ｂが均一な厚みでコーティングされている。

セラミクスとは、耐熱はうろうの１種であり、通常は酸
化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化クロムおよび粘土な
どを主成分とするものであるが、本発明で用いるΔｆｌ
、ＢおよびＣから選ばれた少なくとも１種の原子を含む
セラミクスは、とくに硬度が高く、しかも耐摩耗性およ
び絶縁性にすぐれているため、これらをコーティングす
ることにより、現像ローラ５５および弾性ブレード５７
の１１ｊ擦による摩耗を効果的に減少させることができ
るばかりか、帯電性の低いトナーを用いる場合であって
も、前記トナーを十分帯電させることができる。

本発明でコーティングに用いるセラミクスは、Ａｌ、Ｂ
およびＣから選ばれた少なくとも１種の原子の含有を必
須とするが、その他の構成成分としては、Ｎ、Ｏ、ト１
およびハロゲン原子などが挙げられ、なかでもＨまたは
ハロゲン原子が１〜４０　ａｔｏｍｉｃ％含有されてい
ることが望ましい。

本発明においては、Ａｌ、ＢおよびＣから選ばれた少な
くとも１種の原子を含むセラミクスを、現像ローラ５５
および弾性ブレード５７のいずれか一方の表面にコーテ
ィングすることにより、目的とする効果が得られるが、
現像ローラ５５および弾性ブレード５７の両者の表面に
コーティングすることにより、さらに望ましい効果を取
得することができる。

また、Ａｌ、ＢおよびＣから選ばれた少なくとも１種の
原子を含むセラミクスを、現像ローラ５５および弾性ブ
レード５７のいずれか一方の表面にコーティングした場
合には、残る他方の表面にＡｌ、ＢおよびＣから選ばれ
た少なくとも１種の原子を含まない通常のセラミクスを
コーティングすることができるが、この場合に他方のセ
ラミクスとして、なかでもとくにＴｔ、ｗ、ｓｒおよび
Ｇｅから選ばれた少なくとも１種の原子を含有するセラ
ミクスを使用することにより、たとえば画像品位をさら
に向上させるなどの効果を期待することができる。

なお、弾性ブレード５７の表面にセラミクスをコーティ
ングする場合には、その表裏両面にセラミクスをコーテ
ィングすることが望ましく、片面にのみのコーティング
では、弾性ブレードにゆがみを生じ、寸法および形状安
定性が低下することがあるため好ましくない。

以下に、現像ローラおよび／または弾性ブレードに対す
るセラミクスのコーティング方法について説明する。

本発明の方法においては、現像ローラおよび／または弾
性ブレードに対し、Ａｌ、ＢおよびＣから選ばれた少な
くとも１種の原子を母体とするセラミクスをコーティン
グするが、−船釣なせラミクスのコーティング方法とし
ては、スパッタリング、イオンブレーティング、真空蒸
着、プラズマＣｖＤ、ＥＣＲプラズマＣＶＤ１熱ＣＶＤ
おＪｌ：び光ＣＶＤなどの方法が挙げられる。

これらの方法のなかでも、膜の密着性が良いこと、比較
的低温で処理でき、基板の特性が損われないことおよび
膜の電気的特性や光学的特性が容易にコントロールでき
ることなどの点から、本発明にとってはプラズマＣＶＤ
およびスパッタリングによる方法が最適である。

第５図は、現像スリーブに対するプラズマＣＶＤコーテ
ィング装置の概略新面説明図であり、詳しくは平行平板
型の容量結合型プラズマＣＶＤ装置の概略図を示す。

第５図において、真空チャンバー１０１内には、平板状
接地電極１０２と高周波電極１０３が対向して設置され
、たとえば金属製弾性ブレードなどの基板１０４は前記
平板状接地電極１０２上に置かれる。

そして、図示しない真空ポンプによりチャンバー１０１
内を１Ｏ−３Ｔｏｒｒ程度に排気した後、平板状接地電
極１０２に取付けたヒーター１０５により、基板１０４
を１５０〜４５０℃程度に加熱する。

次いでガス導入口１０６より△Ａ　（ＣＨ３）３、Ｎ２
　、Ｈ２などの原料ガスをチャンバー１０１内に供給し
ツツ、０．０５Ｔｏｒｒ　〜１．０Ｔｏｒｒの真空度に
保つようにして排気しながら、高周波電ｆｆ１ｌ　０３
にマツチングボックス１０７を介して高周波電源１０８
からの電力を投入する。

すると、電極間にてグロー１１ｉ電が起こり、原料ガス
がプラズマ化してヒラミクスの薄膜が基板１０４上に形
成される。

次に、現像ローラに対するセラミクスのプラズマＣＶＤ
コーティング方法について、第６図および第７図にした
がって説明する。

第６図は現像ローラに対するセラミクスのプラズマＣＶ
Ｄコーティング装置の概略側断面説明図、第７図は同概
略平断面説明図である。

第６図および第７図において、角筒状の平断面を有する
反応室２０１は、メカニカルブースターポンプおよび油
回転ポンプ（図示せず）などにより排気口２０２を介し
て排気され、約１Ｏ−３ＴＯｒｒの真空度に保持される
ようになっている。

また、反応室２０１内には、ガス導入口２０５を介して
種々の原料ガスが導入されるように構成されている。

反応ｖ２０１の上方には、絶縁体２０６を介して収納室
２０７が設置されており、この収納室２０７は前記絶縁
体２０６により前記反応室２０１と電気的に絶縁されて
いる。

また、収納室２０７は、反応室２０１と仕切板２０８に
より仕切られている。

仕切板２０８には、複数個の支持ロンド２０９が、その
長手方向を垂直として挿通されている。

各支持ロンド２０９には、カラー２１０が嵌合固定され
ており、前記カラー２１０が仕切り板２０８に係止され
ることにより、前記各支持ロンド２０９が抜は落ちない
ようになっている。

各支持ロッド２０９の上端部には、駆動手段としてのギ
ア２１２が嵌合されており、その下方において前記各支
持ロンド２０９に嵌合固定された押え２１１により、前
記ギア２１２が各支持ロツド２０９に支持されている。

各ギア２１２は、隣接するもの同士が相互に噛合してお
り、駆動装置２１４により中央のギアが回転駆動される
と、全てのギア２１２が回転し、各支持ロッド２０９が
回転するようになっている。

各支持ロッド２０９の″Ｆ端部には、雌ネジ（図示せず
）が形成されており、コーティングに供する支持体く現
像ローラ）２１３の上端部には雄ネジ（図示せず）が形
成されている。

したがって、これらのネジを螺合することにより、前記
支持体２１３が各支持ロンド２０９に取付けられる。

また、駆動装置２１４が収納室２０７の上方に設けられ
ており、この駆動装置２１４の駆動によりギア２１２が
回転すると、支持体２１３はその軸を中心として回転す
る。

第７図に示したように、支持体２１３は反応室２０１内
の実質的中央に一列に配列するように配設されている。

そして、この支持体２１３の列を挟むようにしてその両
側に、一対の平板状電極２１５および２１６が対設され
ている。

この平板状電極２１５および２１６には多数の孔が開設
されているため、ガス導入口２０５を介して反応室２０
１内に導入された原料ガスは、この孔を介して反応室２
０１の中心部へと供給される。

また、平板状電極２１５および２１６は、反応Ｗ２Ｏ１
と同一の電位となるように、反応室２０１に取付けられ
ており、マツチングボックス２１７を介して高周波電源
２１８に接続されている。

上述の構成からなるプラズマＣＶＤコーティング装置を
運転する場合には、まず反応室２０１内に複数個の支持
体２１３を取付けた後、駆動装置２１４により前記支持
体２１３を適宜の速度で回転させると共に、前記反応ｖ
２０１内を約１Ｏ−３Ｔ　ｏｒｒ程度に排気する。

このようにして排気を継続しつつ、ガス導入口２０５を
介して原料ガスを導入し、反応室２０１内をたとえば０
．１　Ｔｏｒｒ　〜１　、０Ｔｏｒｒの圧力に調節する
と、前記支持体２１３は収納￥２０７を介して接地され
ているから、平板状電極２１５Ｊ３よび２１６と前記支
持体２１３との間にプラズマが生起され、原料ガス中の
主な構成元素を含有する組成のＲｎが前記支持体２１３
上に形成される。

この場合に、支持体２１３は回転しているので、薄膜は
前記支持体２１３の周面に均一に形成されることになる
。

上述のプラズマＣＶＤコーティング装置を用いてたとえ
ばＡΩ２０３または△ｆｌＮなどを母体とするセラミク
スをコーティングするためには、原料ガスとして△Ω（
ＣＨ３）３またはＡＣ（Ｃ２ｔ−１ｓ　）３　、　Ｎ２
．０２　；１３よびＮＨ３なトラ用イルことができる。

この場合に、Ａり（ＣＨ３）３または／Ｍ　（０２Ｈ５
）：ｌは蒸気圧があまり高くないので、これらが入った
容器内に１１２を吹き込んで、キャリアガスとして強制
的に容器から追い出すことがのぞましい。

したがってチャンバー内には八〇（ＣＨ３）３、Ｎ２お
よび０２などのガスの他にＨ２も導入される。

また、ダイヤモンド、グラファイト、炭素重合膜および
非晶質炭素などのＣ原子を含むセラミクスをコーティン
グする場合の原料ガスとしては、ＣＨ４、Ｃ２Ｈａおよ
びＣ２Ｈ２などの炭化水素とＨ２が用いられる。

さらに、ＢＮまたはＢＣを母体とするセラミクスをコー
ティングする場合の原料ガスとしては、Ｂ２Ｈ８、ＢＦ
３、およびＢＣΩ３などと、Ｎ２、ＮＨ３、ＣＨ４およ
びＣ２Ｈｅなどとの混合ガスが挙げられる。

本発明の目的とする組成をプラズマコーティングするた
めに使用する原料ガス、圧力および電力の代表的な条件
を下記する。

１゜ＡΩ２０３ 原料ガス Ａ１１（ＣＨ：＋　）３　３０３ＣＣＭ○３　　　　　
　１００　〃　゛ Ｉ」２　　　　　　　　１０００　　ノ！圧力　　　　
１．０Ｔｏｒｒ 電力　　　　４００Ｗ ２、Ａ　　Ω　Ｎ 原料ガス △Ｑ　（ＣＨ３）３　３０ＳＣＣＭ Ｎ２　　　　　　２００　ＩＩ Ｈ２１０００〃 圧力　　　　１．０Ｔｏｒｒ 電力　　　　４００Ｗ ３、ダイヤモンド 原料ガス ＣＨ４１０Ｓ１０５ ＣＣ５００ＩＩ 圧力　　　　５．０Ｔｏｒｒ 電力　　　　１ＫＷ 基板温度　　８００℃ ４、グラファイト 原料ガス ＣＨ４５０ＳＣＣＭ Ｈ２２００ＩＩ 圧力　　　　１，０ＴＯｒｒ 電力　　　　５００Ｗ 基板温度　　５００℃ ５、　８Ｎ 原料ガス Ｂ２　Ｈｅ　　　１０ＳＣＣＭ Ｈｅ　　　　２０Ｏｎ Ｎ２　　４００　ＩＩ 圧力　　　　１．０Ｔｏｒｒ 電力　　　　２００Ｗ ６．８Ｃ 原料ガス Ｂ２Ｈａ　　　　１０３００Ｍ Ｈｅ　　　　２００＃ ＣＨ３１００〃 圧力　　　　１．０ＴＯｒｒ 電力　　　　２００Ｗ なお、上記の３および４において、ダイヤモンドなどの
炭素系セラミクスは、他のセラミクスよりも基板温度と
成模時の圧力および電力が高めであるが、これらを低め
にすると非晶質炭素やグラファイトになる。

さらに、上記の５および６において、原料ガスとしてＢ
２　Ｈａを用いる場合には、膜中に０．１〜４　Ｑ　ａ
ｔｏｍｉｃ％の水素が含有され、ＢＦ３を用いる場合に
は、膜中にＦが同程度に含有される。

したがって、それらの含有量により膜の硬度が多少変化
するため、所望の硬度が得られるように、原料ガスの条
件を選択すればよい。

一般に、ＨおよびＦが少ない場合に膜の硬度が高く、こ
のような膜は基板温度および高周波電力を高くすること
により得られる。

また、第８図は弾性スリーブに対するセラミクスのスパ
ッタリングコーティング装置を示す概略断面説明図であ
る。

第８図に示した装置は、原料が固体であり、しかも通常
ターゲット１１つと呼ばれる部位に高周波または直流電
圧を印加する点以外は、上述の第５図に示したプラズマ
ＣＶＤ装置とほとんど類似している。

このスパッタリングコーティング装置においては、ガス
尋人口１０６からＡｒガスまたは場合によってはこれに
原料ガスを混合したものを導入づるが、それらのガスが
プラズマ化し、へｒイオンがターゲットとなる金属を原
子状あるいは分子状にしてたたき出した後、反応ガスの
プラズマ中で反応しながら、様々な組成のセラミクスを
形成し、基板１０４に薄層として付着する。

本発明の目的とする組成をスパッタリングコーティング
するために使用するターゲット、原料ガス、圧力および
電力の代表的な条件を下記する。

１、Ａｇ３０３ ターゲット　　焼結Ａｆ１２０３ 原料ガス 八ｒ　　　　　１１０８ＣＣ 圧力　　１．０Ｘ１０−３丁ｏｒｒ 電力　　　　８００Ｗ ２、ＢＮ ターゲット　　結晶窒化硼素 原料ガス Ａｒ　　　　　１１０８ＣＣ 圧力　　１　、　ＯＸ　１０’　Ｔｏｒｒ電力　　　　
８００Ｗ 以下に、本発明の現像装置を用いる場合の効果を具体的
に示す試験例および比較例について説明する。

（試験例） ＳＵＳ３０４製の弾性ブレードの表裏両面に、第５図に
示したプラズマＣＶＤコーティング装置によりＡＣ原子
を含有するセラミクスを厚み０゜１〜２０μｍでコーテ
ィングした。

また、アルミニウム製のローラの表面をサンドブラスト
により表面粗さが３．０μｍＲｚとなるように研磨した
現像ローラの表面に、第６図および第７図に示したプラ
ズマＣＶＤコーティング装置によりＡΩ原子を含有する
セラミクスを厚み０゜１〜２０μｍでコーティングした
。

上記の弾性スリーブおよび現像ローラをセットした現像
装置のホッパー内に、磁性粉１０重量％を含有する非磁
性一成分系トナーを収納し、これに２０ｋｃ＋の線荷重
をかけた状態とし、この現像装置を第１図に示した構造
の複写別に搭載して、用紙１０万枚の画像形成を行なっ
たところ、前記弾性スリーブおよび現像ローラのセラミ
クスコーティング層は、いずれも表面粗さに変化を生じ
ておらず、１０万枚の画像形成後にも継続して良好な画
像を得ることができた。

また、画像形成中の現象装置における駆動トルクを測定
したところ、１．８ｋｑ−ｃｍであった。

次に、非磁性一成分系トナーの組成を、スチレン−アク
リロニトリル共重合体にカーボン４．０重量％およびそ
の他の添加剤４重量％を配合した正帯電非磁性一成分系
トナーに変更した以外は、上記と同様の条件で画像の形
成を行なったところ、上記と同様に地かぶりのない鮮明
な画像を得ることができた。

なお、この場合のトナーの帯電量を測定したところ、１
２μＣ／Ｆときわめて十分に帯電していた。

（比較例） 上述した試験例において、セラミクスをコーティングし
ない５ＵＳ３０４製の弾性ブレードおよびアルミニウム
製のローラの表面に無電解Ｎ１メツキを施した現像ロー
ラを用いで、上記試験例と同一の条件で用紙１０万枚の
画像形成を行なったところ、前記弾性スリーブは前記現
像ローラとの接触部分が２．０μｍ摩耗し、また前記現
像ローラは初期の表面粗さ３．０μｍＲＺであったもの
が、０．６μｍＲｚまで低Ｔしたため、前記現象ローラ
上のトナー搬送けが減少し、以後の画像形成において、
十分な画像濃度を得ることができなかった。

また、画像形成中の現ｆＩＩｌ装置における駆動トルク
を測定したところ、２．５ｋＭＣＩ１１と高く、上述し
た試験例に比較して駆動装置に対する負担が大きかった
。

さらに、非磁性一成分系トナーの組成を、スチレン−ア
クリロニトリル共重合体に対し、カーボン４．０重量％
およびその他の添加剤４重量％を配合した正帯電非磁性
一成分系トナーに変更した以外は、上記と同様の条件で
画像の形成を行なったところ、トナーの帯電量が１０ｕ
Ｃ／ｑと低く、画像に地かぶりが見られた。

［発明の効果コ 以上詳細に説明したとおり、本発明の現像装置は、複写
画像の長時間安定性および装置の駆動効率がすぐれてお
り、さらには帯電性の低いトナーを用いる場合にも、地
かぶりのない高品位の画像を（ｑることができる。

すなわち、前記セラミクスは硬度が高く、しかも耐摩耗
性にすぐれているため、トナー保持体および薄層化規制
部材の１′！Ｊ隙による摩耗が減少し、現像装置を長時
間運転しても、安定して良好な画像を得ることができる
。

また、前記セラミクスは摩擦係数が小さいため、トナー
保持体と薄層化規制部材との間の摩擦が減少し、現像装
置の駆動トルクを軽減することができる。

しかも、前記セラミクスは絶縁性にすぐれておリ、帯電
しにくい１〜ナーを十分帯電させることができるため、
帯電性の低いトナーを用いる場合にも地かぶりのない高
品位の画像を得ることができる。

したがって、本発明の現像装置によれば、画像濃度の低
下、文字のかすれおよび地かぶりなどを発生づることか
なく、常に鮮明な画像を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の現象装置を搭載した電子複写はの概略
断面説明図、第２図は本発明の現＠装置を示す概略断面
説明図、第３図は同部分正面説明図、第４図は本発明の
現像装置におけるトナー保持体と薄層化規制部材の当接
状態を示す断面説明図、第５図は薄層化規制部材に対す
るセラミクスのプラズマＣＶＤコーティング装置を示す
概略断面説明図、第６図はトナー保持体に対するセラミ
クスのプラズマＣＶＤコーティング装置を示す概略側断
面説明図、第７図は同概略平断面説明図、第８図は薄層
化規制部材に対するセラミクスのスパッタリングコーテ
ィング装置を示す概略断面説明図である。 ５・・・・・・現像装置

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）静電潜像を現像するために搬送される非磁性一成
   分系トナーを保持するトナー保持体と、このトナー保持
   体に前記トナーを供給する手段と、前記トナー保持体上
   のトナーを薄層化する薄層化規制部材とを具備する現像
   装置において、前記トナー保持体表面に、Ａｌ、Ｂおよ
   びＣから選ばれた少なくとも１種の原子を含有するセラ
   ミクスをコーティングし、さらに薄層化規制部材の表面
   に、Ｔｉ、Ｗから選ばれた少なくとも１種の原子を含有
   するセラミクスをコーティングしたことを特徴とする現
   像装置。
2. （２）コーティングに使用するセラミクス中には、Ｎ、
   Ｏ、Ｈおよびハロゲンから選ばれた少なくとも１種の原
   子が含有されていることを特徴とする特許請求の範囲第
   （１）項に記載の現像装置。
3. （３）コーティングに使用するセラミクス中には、Ｈま
   たはハロゲン原子が１〜４０ａｔｏｍｉｃ％含有されて
   いることを特徴とする特許請求の範囲第（１）及び（２
   ）項に記載の現像装置。