JPH01139776A - 化学ミリング用マスキング組成物およびその適用方法 - Google Patents
化学ミリング用マスキング組成物およびその適用方法Info
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- JPH01139776A JPH01139776A JP63240647A JP24064788A JPH01139776A JP H01139776 A JPH01139776 A JP H01139776A JP 63240647 A JP63240647 A JP 63240647A JP 24064788 A JP24064788 A JP 24064788A JP H01139776 A JPH01139776 A JP H01139776A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/32—Processes for applying liquids or other fluent materials using means for protecting parts of a surface not to be coated, e.g. using stencils, resists
- B05D1/322—Removable films used as masks
- B05D1/325—Masking layer made of peelable film
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
- C23F1/04—Chemical milling
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は化学ミリングエ稈に使用される水付マスキング
組成物に関し、かつ上記マスキング組成物をミリングさ
れるべき金B製晶に適用する方法を包含するものである
。
組成物に関し、かつ上記マスキング組成物をミリングさ
れるべき金B製晶に適用する方法を包含するものである
。
従来の技術
金属製品の不要部分をエツチングにより取り除くために
強酸または強塩基を用いる化学ミリングはよく知られて
おり、特に航空機産業においては航空様部品の重量の減
量を目的として使用されている。この従来方法において
は、使用されるエツチング浴に耐えるポリマーマスキン
グが直接金属基材に例えば、浸漬により塗布される。塗
布されたマスクを次に適当な型板を用いて彫り(基材の
金属が露出するまで切り抜り)、塗布されたマスクの所
定部分を剥離させて選択的にエツチングしようと思う金
属の部分を露出させる。
強酸または強塩基を用いる化学ミリングはよく知られて
おり、特に航空機産業においては航空様部品の重量の減
量を目的として使用されている。この従来方法において
は、使用されるエツチング浴に耐えるポリマーマスキン
グが直接金属基材に例えば、浸漬により塗布される。塗
布されたマスクを次に適当な型板を用いて彫り(基材の
金属が露出するまで切り抜り)、塗布されたマスクの所
定部分を剥離させて選択的にエツチングしようと思う金
属の部分を露出させる。
エツチング組成物(エツチング剤)の特性は基材の金属
と共に変ることになる。即ち、アルカリ浴がアルミニウ
ム部品をエツチングするために使用され、また酸浴がチ
タン部品をエツチングするために使用される。露出され
た金属がエツチング剤により除去される速度はその濃度
とその温度により変ることになる。
と共に変ることになる。即ち、アルカリ浴がアルミニウ
ム部品をエツチングするために使用され、また酸浴がチ
タン部品をエツチングするために使用される。露出され
た金属がエツチング剤により除去される速度はその濃度
とその温度により変ることになる。
エツチング(化学ミリング)工程の完了後、残りのマス
クを除去し、エツチングした部品を適切な程度にすすぎ
洗いし、必要に応じて脱酸し、乾燥する。適切なマスキ
ングして、所定個所の剥離の準備をするには、実際には
浸漬及び乾燥工程を数回くりかえすことが必要とされる
。
クを除去し、エツチングした部品を適切な程度にすすぎ
洗いし、必要に応じて脱酸し、乾燥する。適切なマスキ
ングして、所定個所の剥離の準備をするには、実際には
浸漬及び乾燥工程を数回くりかえすことが必要とされる
。
今航空機製造者により使用されている通常のマスキング
組成物は、有機溶媒(例えば、トルJン/キシレンまた
はパークロロエチレン)に溶解されたゴムエラストマー
である。優者の溶媒はその有効性の故にしばしば採用さ
れている。この現在使用されているコーティング系は揮
発性有機溶媒を高濃度で含む低固形分系である。このマ
スキング組成物はパネルを前記組成物中に浸漬し、余分
の材料を流し落したのち、通常オーブン内で、乾燥させ
るという、2〜3回の浸漬操作により塗布される。この
工程は適当なマスクの厚さが造り上げられるまで繰返さ
れる。一般に用いられている工程は以下のように要約さ
れる。
組成物は、有機溶媒(例えば、トルJン/キシレンまた
はパークロロエチレン)に溶解されたゴムエラストマー
である。優者の溶媒はその有効性の故にしばしば採用さ
れている。この現在使用されているコーティング系は揮
発性有機溶媒を高濃度で含む低固形分系である。このマ
スキング組成物はパネルを前記組成物中に浸漬し、余分
の材料を流し落したのち、通常オーブン内で、乾燥させ
るという、2〜3回の浸漬操作により塗布される。この
工程は適当なマスクの厚さが造り上げられるまで繰返さ
れる。一般に用いられている工程は以下のように要約さ
れる。
1、第1被膜を塗る。
2.100下で45分間焼付()る。
3.150″Fで45分間焼付ける。
4、冷却させる。
5、部品を「上下逆さに」回転させる。
6、第2被膜を塗る。
7.100下で45分間焼付ける。
8.150下で45分間焼付ける。
9、大きなアルミニウム部品を取り去る。
10、コンベヤー上に総ての押出し成型品、真トリム部
品、18インチより短い部品を残す。
品、18インチより短い部品を残す。
11、工程10で残された部品に第3被膜を塗る。
12.100下で45分間焼付ける。
13.150下で45分間焼付ける。
14、工程10で残された部品を取り去る。
15、マスキングされたチタン部品を別のラックにのせ
る。
る。
16、別のオーブン内でチタンを225下で焼付ける。
17、チタン部品を取り去る。
これらの系において使用される溶媒も例外ではなく、そ
して揮発性右機物含有聞(VOC)と見なされねばなら
ない。マスク塗布に使用されている上記有機溶媒系は固
形分濃度が低いために通常これらの系のvOCは高く、
12009/1程度となる。
して揮発性右機物含有聞(VOC)と見なされねばなら
ない。マスク塗布に使用されている上記有機溶媒系は固
形分濃度が低いために通常これらの系のvOCは高く、
12009/1程度となる。
マスキング系のVOCを減らすための一方法は溶媒回収
を行ってマスク塗布工程の間に放出される溶媒の大部分
を再生利用することである。しかし、溶媒回収システム
を付加することは工程が複雑となり、また費用が余分に
かかることとなる。
を行ってマスク塗布工程の間に放出される溶媒の大部分
を再生利用することである。しかし、溶媒回収システム
を付加することは工程が複雑となり、また費用が余分に
かかることとなる。
若干の航空機製造業名は現在溶媒回収系を、マスキング
溶液中の溶媒としてパークロロエチレンを使用すること
と組合せて用いている。全コーティング系はクローズド
システムとなって居り、溶媒は浸漬領域と焼イ4け領域
の両方から回収される。
溶液中の溶媒としてパークロロエチレンを使用すること
と組合せて用いている。全コーティング系はクローズド
システムとなって居り、溶媒は浸漬領域と焼イ4け領域
の両方から回収される。
この系の現在の効率は91%である。溶媒は捕集されて
から、回加I することなしにマスキング溶液のうすめ
液として使用される。
から、回加I することなしにマスキング溶液のうすめ
液として使用される。
発明が解決しようとする課題
上記のクローズドシステムのA!設及び運転には費用が
かかることは明らかであり、漏洩はその効率を減じ、そ
して若干のパークロロエチレンはマスク膜の中に保持さ
れて、以後の加工の際に放出される。パークロロエチレ
ンは周知の発がん性の危険を与えるので、そのような危
険は避1ノることが望ましい。
かかることは明らかであり、漏洩はその効率を減じ、そ
して若干のパークロロエチレンはマスク膜の中に保持さ
れて、以後の加工の際に放出される。パークロロエチレ
ンは周知の発がん性の危険を与えるので、そのような危
険は避1ノることが望ましい。
課題を解決ケるための手段
本発明によれば、コーティングされるべき多価金属の塩
の層で表面被覆処理をしたのち、金属部品は少な(とも
20%の顔料を含みかつ顔料の結合剤に対する比が0.
75:1〜1 :0.57である高固形分の融合性ゴム
粒子のアニオン性エマルションの中に浸漬される。前記
の塩で表面被覆処理をした金属部品をアニオン性エマル
ションの中で、所望のコーティングの厚さにまで堆積す
るまで保持し、所望によりすすぎ洗いをし、次いで取り
出し、焼付けしてマスクの形成を完成させる。
の層で表面被覆処理をしたのち、金属部品は少な(とも
20%の顔料を含みかつ顔料の結合剤に対する比が0.
75:1〜1 :0.57である高固形分の融合性ゴム
粒子のアニオン性エマルションの中に浸漬される。前記
の塩で表面被覆処理をした金属部品をアニオン性エマル
ションの中で、所望のコーティングの厚さにまで堆積す
るまで保持し、所望によりすすぎ洗いをし、次いで取り
出し、焼付けしてマスクの形成を完成させる。
このマスクは金属表面の完全な密封を保証するためラテ
ックス密封被膜により上塗りされることが望ましい。
ックス密封被膜により上塗りされることが望ましい。
この水切m占及び同特許請求の範囲におけるすべての部
と比率は、特に指示されなければ、干出によるものであ
る。
と比率は、特に指示されなければ、干出によるものであ
る。
上記により明らかなように、従来技術の溶媒溶液系の問
題の多くは取りのぞかれる。したがって、本発明の陽極
析出工程は有機溶媒を含まず(あるいは含んでも極めて
少なり)、要求される厚い被膜が一回の適用で直接に堆
積され、そして過剰のマスキング溶液の滴F除去はもは
や必要ではなくなる。
題の多くは取りのぞかれる。したがって、本発明の陽極
析出工程は有機溶媒を含まず(あるいは含んでも極めて
少なり)、要求される厚い被膜が一回の適用で直接に堆
積され、そして過剰のマスキング溶液の滴F除去はもは
や必要ではなくなる。
陽極析出工程についてさらに詳しく述べれば、マスクす
る部品を、陽極ラテックス用凝固剤として働く多価塩の
薄い層でまず被覆する。この操作は部品を多価塩を溶解
しである水の中に浸漬し、次いでその塩水溶液から取り
出し、乾燥させることにより都合好く達成される。多(
の多価塩が陽極析出工程に使用するために知られており
、それらのいずれ−bここで使用することができる。こ
の成分としてはg4酸カルシウムが例として挙げられる
が、塩化亜鉛もまたアニオン性ラテックスを凝固させる
ために有効な多価塩である。
る部品を、陽極ラテックス用凝固剤として働く多価塩の
薄い層でまず被覆する。この操作は部品を多価塩を溶解
しである水の中に浸漬し、次いでその塩水溶液から取り
出し、乾燥させることにより都合好く達成される。多(
の多価塩が陽極析出工程に使用するために知られており
、それらのいずれ−bここで使用することができる。こ
の成分としてはg4酸カルシウムが例として挙げられる
が、塩化亜鉛もまたアニオン性ラテックスを凝固させる
ために有効な多価塩である。
ここで強調しておきたいことは、多価塩およびそのアニ
オン性エマルジョンにより被覆されるべき対象物に対す
る水性媒体中での適用自身は公知であって、ここに開示
されているものの決定的廿素を構成するものではないこ
とである。
オン性エマルジョンにより被覆されるべき対象物に対す
る水性媒体中での適用自身は公知であって、ここに開示
されているものの決定的廿素を構成するものではないこ
とである。
その表面に乾燥した多価塩被覆処理した部品をついで顔
料を加えたアニオン性ラテックス中に浸漬し、そして所
望の膜J9が堆積するまで保持する。
料を加えたアニオン性ラテックス中に浸漬し、そして所
望の膜J9が堆積するまで保持する。
適当な厚さは0.008〜0.020インチ、好ましく
は0.010〜0.012インチであり、この方法では
2分間以内に堆積される。
は0.010〜0.012インチであり、この方法では
2分間以内に堆積される。
ラテックス被覆した部品は次に7ニオン性ラテツクス浴
から取り出して、通常すすぎ洗いをする。
から取り出して、通常すすぎ洗いをする。
例えば、すすぎ洗い用水溶液の中に浸漬して過剰のラテ
ックスを除く。次いで、乾燥し、そのコーティングした
部品に焼付けする。すすぎ洗い操作は必らずしも必要で
はない。
ックスを除く。次いで、乾燥し、そのコーティングした
部品に焼付けする。すすぎ洗い操作は必らずしも必要で
はない。
追加のラテックス密封被膜を金属表面の完全な密封を保
証するために用心として通常塗布されるが、しかしこの
密封被膜は非常に薄く、通常2ミル以下の厚さである。
証するために用心として通常塗布されるが、しかしこの
密封被膜は非常に薄く、通常2ミル以下の厚さである。
ゴム粒子のアニオン性エマルジョンは、エツチング剤と
して使用される強酸および強塩基に対し抵抗性を与える
いかなるゴムポリマーであってもよい。これらのエマル
シコンはゴムポリマーを水性アニオンコロイド系の形に
製造することにより調製されるが、この方法自身は公知
である。発明者らはデュポン社により商品名842Aで
供給されているアニオン性ネオブレン樹脂ラテックスを
使用することを特に好む。ネオブレンはポリクロロプレ
ンホモポリマーである。
して使用される強酸および強塩基に対し抵抗性を与える
いかなるゴムポリマーであってもよい。これらのエマル
シコンはゴムポリマーを水性アニオンコロイド系の形に
製造することにより調製されるが、この方法自身は公知
である。発明者らはデュポン社により商品名842Aで
供給されているアニオン性ネオブレン樹脂ラテックスを
使用することを特に好む。ネオブレンはポリクロロプレ
ンホモポリマーである。
ネオブレンはその強酸および強塩基に対する卓越した抵
抗性のために特に好まれるが、しかしその他のゴムポリ
マー(例えば、天然ゴムおよびニトリルゴム)も水性ア
ニオンラテックスの形でネオブレンの代りに使用するこ
とができる。
抗性のために特に好まれるが、しかしその他のゴムポリ
マー(例えば、天然ゴムおよびニトリルゴム)も水性ア
ニオンラテックスの形でネオブレンの代りに使用するこ
とができる。
強度と靭性な与えるために、ポリ塩化ごニリデンエマル
ション、例えば、Daran 143を添加する(ネオ
ブレンに基づいて0.5%〜5%)。
ション、例えば、Daran 143を添加する(ネオ
ブレンに基づいて0.5%〜5%)。
硬化剤をゴムポリマーを硬化させるためにアニオン性ラ
テックスエマルションに加えてもよく、硬化剤の種類お
よび使用割合はよく知られている。
テックスエマルションに加えてもよく、硬化剤の種類お
よび使用割合はよく知られている。
発明者らは好んで酸化亜鉛を使うが、酸化マグネジrク
ムbまた有効である。
ムbまた有効である。
水性マスキング組成物について平凹な点は、7ニオン性
ラテツクスが存在する水を最小にするため全固形分を少
なくとも約45%(好ましく(ま55%以上)右するよ
うに配合すること、および前に規定したように高い顔料
含有量で顔料を加えることである。これは、形成される
マスクが速やかにかつ均一に要求される厚さに堆積し、
またマスキングされる部品の端から引きはがされない被
膜を堆積するために必要である。多聞の顔料添加はさら
に、堆積した被ffQかけば立たないことを保証する。
ラテツクスが存在する水を最小にするため全固形分を少
なくとも約45%(好ましく(ま55%以上)右するよ
うに配合すること、および前に規定したように高い顔料
含有量で顔料を加えることである。これは、形成される
マスクが速やかにかつ均一に要求される厚さに堆積し、
またマスキングされる部品の端から引きはがされない被
膜を堆積するために必要である。多聞の顔料添加はさら
に、堆積した被ffQかけば立たないことを保証する。
微粉砕された天然クレーは好まれる顔料であり、そして
それはケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、シリカな
どにより増量されてもよい。
それはケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、シリカな
どにより増量されてもよい。
水性マスキングエマルションは通常脱イオン水を用いて
配合され、また補助的な目的のため各種助剤を加えても
よい。これらの例を挙げれば、酸化防止剤(例えば、2
.2−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブヂルフェ
ニル)メタン)、キーレート剤(例えば、エチレンジア
ミン四酢酸)、消泡剤(例えば、Drcwplus
L 475 ) 、着色剤(例えば、フタロブルー着色
剤)、界面活性剤(例えば、Dresinate 73
1のような変性ロジンのナトリウム石けん)、並びに水
性媒体のpHを調節する助けになるグリシンなどである
。
配合され、また補助的な目的のため各種助剤を加えても
よい。これらの例を挙げれば、酸化防止剤(例えば、2
.2−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブヂルフェ
ニル)メタン)、キーレート剤(例えば、エチレンジア
ミン四酢酸)、消泡剤(例えば、Drcwplus
L 475 ) 、着色剤(例えば、フタロブルー着色
剤)、界面活性剤(例えば、Dresinate 73
1のような変性ロジンのナトリウム石けん)、並びに水
性媒体のpHを調節する助けになるグリシンなどである
。
本発明の水性凝固剤浴は、また耐W&食性を高めるため
の可溶性クロム酸塩顔1”l(例えば、重クロム酸ナト
リウム)、基材の湿潤を確実にするための界面活性剤、
および陽極的に析出したマスク被膜の金Ii!基材への
接着を調節して望みの時に容易にかつ完全に斜頌するこ
とを確実ならしめる助けとなるシリコーン剥離剤を含ん
でいてもよい。
の可溶性クロム酸塩顔1”l(例えば、重クロム酸ナト
リウム)、基材の湿潤を確実にするための界面活性剤、
および陽極的に析出したマスク被膜の金Ii!基材への
接着を調節して望みの時に容易にかつ完全に斜頌するこ
とを確実ならしめる助けとなるシリコーン剥離剤を含ん
でいてもよい。
マスキング組成物の一例は次のようである。
■ 重量部1−アニオ
ン性ゴムラテックス(註1)462−ポリ塩化ビニリデ
ンラテックス (註2> 1.1 3−酸化亜鉛 2.54−
クレー(註3)48 5−消泡剤(註4) 0.56
−酸化防止剤(註5) 0.87−
キレート剤(註6) 0.058−界
面活性剤(註7) 1.009−グ
リシン I)H調節用註1−デ
ュポン製品ネオブレン842Aを使用できる。
ン性ゴムラテックス(註1)462−ポリ塩化ビニリデ
ンラテックス (註2> 1.1 3−酸化亜鉛 2.54−
クレー(註3)48 5−消泡剤(註4) 0.56
−酸化防止剤(註5) 0.87−
キレート剤(註6) 0.058−界
面活性剤(註7) 1.009−グ
リシン I)H調節用註1−デ
ュポン製品ネオブレン842Aを使用できる。
註2−11.R,Grace & Co、 New Y
ork、 NY発売のDaran 143を使用できる
。
ork、 NY発売のDaran 143を使用できる
。
註3−Englehart Chemical Com
pany、 Hen1゜Park、 NJ発売の微粉砕
天然クレー、△5P602を使用できる。
pany、 Hen1゜Park、 NJ発売の微粉砕
天然クレー、△5P602を使用できる。
註4−Drew Chemial Corporati
on、 Boonton。
on、 Boonton。
NJ発売のOrewplus L 475を使用でき
る。
る。
註5−2.2−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブ
ヂルフェニル)メタン 註6−ニチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩註7−ア
ニオン界面活性剤のナトリウム塩、例えば、1lerc
ules、 Wilmington、 DE発売のDr
esinate 731を使用できる。
ヂルフェニル)メタン 註6−ニチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩註7−ア
ニオン界面活性剤のナトリウム塩、例えば、1lerc
ules、 Wilmington、 DE発売のDr
esinate 731を使用できる。
ここで指摘しておきたいことは、成分5,6゜7 J5
よび9は自由選択成分であって、最良の性能を得るため
に使用されるが、しかしそれらは必須成分ではない。
よび9は自由選択成分であって、最良の性能を得るため
に使用されるが、しかしそれらは必須成分ではない。
従来の実施方法では顔料を水に混入してから、次に他の
材料を加えるが、本発明方法においては上記の材料を総
て一緒にして同時に混合する。これは水分を最小化し、
そして所望の高い全固形分を与える助けとなる。この場
合は、全固形分は64%および顔料含債は33%である
。通常のpHは9−11の範囲内にある。
材料を加えるが、本発明方法においては上記の材料を総
て一緒にして同時に混合する。これは水分を最小化し、
そして所望の高い全固形分を与える助けとなる。この場
合は、全固形分は64%および顔料含債は33%である
。通常のpHは9−11の範囲内にある。
上記に詳述された混合手順を用いて高い固形分を達成す
ることは特に好まれるが、これは必須条件ではなく、適
当な条件の下で他の方法により水分を最小化することが
できる。
ることは特に好まれるが、これは必須条件ではなく、適
当な条件の下で他の方法により水分を最小化することが
できる。
上記のマスキング組成物は望まれるよりさらに若干強く
金属基材に接着するので、これをきれいに剥離すること
を困難にする。10−20インヂボンド/リニヤ−イン
チの剥離強さを有することが望ましい。高い剥離強さは
許容することができ、またはそれは凝固剤溶液にシリコ
ーン’1JJfti剤を加えることにより減少させるこ
とができる。そのシリコーン剥離剤(水中30%固形分
)は、約200−4(30ボンドの硝酸カルシウムを含
む100ガロンの凝固剤溶液につき0.5−3ボンドの
量で使用される。特に好まれる凝固剤溶液はさらに10
0ガロンにつき約10ボンドの可溶性クロム!!2塩顔
料(例えば、重クロム酸ナトリウム)を含む。凝固剤溶
液は熱い、例えば、約60℃の温度で部品に適用される
ことが好ましい。
金属基材に接着するので、これをきれいに剥離すること
を困難にする。10−20インヂボンド/リニヤ−イン
チの剥離強さを有することが望ましい。高い剥離強さは
許容することができ、またはそれは凝固剤溶液にシリコ
ーン’1JJfti剤を加えることにより減少させるこ
とができる。そのシリコーン剥離剤(水中30%固形分
)は、約200−4(30ボンドの硝酸カルシウムを含
む100ガロンの凝固剤溶液につき0.5−3ボンドの
量で使用される。特に好まれる凝固剤溶液はさらに10
0ガロンにつき約10ボンドの可溶性クロム!!2塩顔
料(例えば、重クロム酸ナトリウム)を含む。凝固剤溶
液は熱い、例えば、約60℃の温度で部品に適用される
ことが好ましい。
代表的な操作において、凝固剤水溶液は100ガロンの
溶液につき30ボンドの硝酸カルシウム、2ボンドのシ
リコーン剥離剤、10ボンドの重クロム酸ナトリウム、
および湿潤を助けるために1%(7)非イオン界面活性
剤(Igepal CA −630。
溶液につき30ボンドの硝酸カルシウム、2ボンドのシ
リコーン剥離剤、10ボンドの重クロム酸ナトリウム、
および湿潤を助けるために1%(7)非イオン界面活性
剤(Igepal CA −630。
G A F Corpora口on、 NY、 NY製
、を使用できる)を含む。それは60℃に加熱され、ア
ルミニウム部品がその中に45〜60秒間浸漬される。
、を使用できる)を含む。それは60℃に加熱され、ア
ルミニウム部品がその中に45〜60秒間浸漬される。
その濡れた部品は次に60℃−80℃で5〜10分間強
制乾燥される。
制乾燥される。
乾燥侵ただちに(湿気の吸収を最小にするため)、室温
に冷却し、塩で表面被覆した乾燥部品を、alllo、
3にするため十分なグリシンを含む前記のマスキングエ
フルションに浸漬する。マスキングエマルション中に室
温で1分間浸漬の後、アニオン析出工程より10−14
ミルの乾燥厚さを有する被膜を堆積させる。被覆された
部品は次いで10分間空気乾燥してから、190℃で1
時間硬化させる。
に冷却し、塩で表面被覆した乾燥部品を、alllo、
3にするため十分なグリシンを含む前記のマスキングエ
フルションに浸漬する。マスキングエマルション中に室
温で1分間浸漬の後、アニオン析出工程より10−14
ミルの乾燥厚さを有する被膜を堆積させる。被覆された
部品は次いで10分間空気乾燥してから、190℃で1
時間硬化させる。
所望により、これらの硬化剤部品は更にその上に塗布、
焼付けた密封被膜をもっていてもよい。
焼付けた密封被膜をもっていてもよい。
これは希薄な水性ラテックス中への浸漬、30分間の空
気中での乾燥及び240下での30分間の焼付けよりな
る。もし密封被膜が施されない場合には、上記マスクを
同じ焼付は操作の下で焼付1ノる。90%塩化ごニリデ
ン/10%ブチルアクリレート共重合ラテックス(Po
lidcne33−004 。
気中での乾燥及び240下での30分間の焼付けよりな
る。もし密封被膜が施されない場合には、上記マスクを
同じ焼付は操作の下で焼付1ノる。90%塩化ごニリデ
ン/10%ブチルアクリレート共重合ラテックス(Po
lidcne33−004 。
Pacific 5cott Bader Inc、、
RichIllond、 CA発売)が密封被膜
用に使用できるが、その他のラテックスおよび水性分散
液も役に立つ。例えば、Re1chhold Chem
ical Co、、 Elizabeth NJ、から
商品名Tylac 68−010′c発売されているス
チレン−ブタジェン共重合体を含有するラテックス製品
も使用できる。
RichIllond、 CA発売)が密封被膜
用に使用できるが、その他のラテックスおよび水性分散
液も役に立つ。例えば、Re1chhold Chem
ical Co、、 Elizabeth NJ、から
商品名Tylac 68−010′c発売されているス
チレン−ブタジェン共重合体を含有するラテックス製品
も使用できる。
水性エマルション型のシーラー(密封剤)の使用が通常
必要とされる多量の厄介な揮発性有償溶媒の使用が回避
できるということは評価されるであろう。
必要とされる多量の厄介な揮発性有償溶媒の使用が回避
できるということは評価されるであろう。
Claims (1)
- 化学ミリングにおいて使用される強酸および強塩基のエ
ッチング剤による攻撃に耐える剥離性マスクにより金属
部品を被覆する方法において、前記金属部品を多価金属
の塩の層で表面被覆し、前記の塩で表面被覆をした金属
部品を、少なくとも約45%の全固形分および少なくと
も20%の顔料を含み、顔料の結合剤に対する比が0.
75:1〜1:0.57である、高固形分の融合性ゴム
粒子のアニオン性エマルションの中に浸漬し、前記の塩
で表面被覆した金属部品を前記アニオン性エマルション
中に、所望の被膜の厚さがその上に陽極的に析出するま
で保持し、次に被覆された部品を取り出してから焼付け
てマスクの形成を完成することを特徴とする前記の被覆
方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/108,430 US4806390A (en) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | Masking compositions for chemical milling and method for applying the same |
US108430 | 1987-10-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01139776A true JPH01139776A (ja) | 1989-06-01 |
Family
ID=22322138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63240647A Pending JPH01139776A (ja) | 1987-10-14 | 1988-09-26 | 化学ミリング用マスキング組成物およびその適用方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4806390A (ja) |
EP (1) | EP0311774B1 (ja) |
JP (1) | JPH01139776A (ja) |
AU (1) | AU602428B2 (ja) |
CA (1) | CA1331898C (ja) |
DE (1) | DE3878817T2 (ja) |
Families Citing this family (8)
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GB2253401A (en) * | 1991-03-05 | 1992-09-09 | Gramos Chemicals International | Protective coating formulation |
US5466739A (en) * | 1992-04-28 | 1995-11-14 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Water-based maskant composition and chemical milling method using the same |
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JP2003160898A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-06-06 | Fujitsu Ltd | マグネシウム材の着色方法およびこれにより着色されたマグネシウム材製筐体 |
NL1020341C2 (nl) * | 2002-04-09 | 2003-10-13 | Stichting Tech Wetenschapp | Werkwijze voor het uitvoeren van een etsbewerking. |
CN102321412A (zh) * | 2011-06-08 | 2012-01-18 | 沈阳飞机工业(集团)有限公司 | 一种铝合金化学铣切保护涂层缺陷快速修补剂 |
CN105316675A (zh) * | 2015-11-20 | 2016-02-10 | 沈阳黎明航空发动机(集团)有限责任公司 | 一种化学铣削时补涂化铣保护胶膜的方法 |
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1987
- 1987-10-14 US US07/108,430 patent/US4806390A/en not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-08-20 DE DE8888113562T patent/DE3878817T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-08-20 EP EP88113562A patent/EP0311774B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-12 CA CA000577150A patent/CA1331898C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-26 JP JP63240647A patent/JPH01139776A/ja active Pending
- 1988-10-13 AU AU23699/88A patent/AU602428B2/en not_active Ceased
Patent Citations (2)
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0311774A1 (en) | 1989-04-19 |
AU2369988A (en) | 1989-04-20 |
CA1331898C (en) | 1994-09-06 |
AU602428B2 (en) | 1990-10-11 |
DE3878817D1 (de) | 1993-04-08 |
US4806390A (en) | 1989-02-21 |
EP0311774B1 (en) | 1993-03-03 |
DE3878817T2 (de) | 1993-06-24 |
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