JPH01137662A - 半導体装置 - Google Patents
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- JPH01137662A JPH01137662A JP62295243A JP29524387A JPH01137662A JP H01137662 A JPH01137662 A JP H01137662A JP 62295243 A JP62295243 A JP 62295243A JP 29524387 A JP29524387 A JP 29524387A JP H01137662 A JPH01137662 A JP H01137662A
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- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
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- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置に関し、特に、動作が高速で、実
装に際してインピーダンス整合を必要とする半導体装置
に適用して有効な技術に関する。
装に際してインピーダンス整合を必要とする半導体装置
に適用して有効な技術に関する。
たとえば、動作が極めて高速な論理集積回路素子などか
らなる半導体装置においては、半導体装置が実装される
実装基板との間でのインピーダンス整合を図るなどの目
的で、信号伝送路と接地線などの間に、いわゆる終端抵
抗を介設することが必要となる。
らなる半導体装置においては、半導体装置が実装される
実装基板との間でのインピーダンス整合を図るなどの目
的で、信号伝送路と接地線などの間に、いわゆる終端抵
抗を介設することが必要となる。
従来、このような終端抵抗は、半導体装置とは別個に当
該半導体装置が実装される実装基板の一部に設けること
が一般的である。
該半導体装置が実装される実装基板の一部に設けること
が一般的である。
なお、このような半導体装置の実装技術などについては
、株式会社サイエンスフォーラム、昭和58年11月2
8日発行、「超LSIデバイスハンドブックJ、P23
2〜P238に記載されている。
、株式会社サイエンスフォーラム、昭和58年11月2
8日発行、「超LSIデバイスハンドブックJ、P23
2〜P238に記載されている。
ところが、上記の従来技術のように、半導体装置とは別
個に実装基板などの一部に終端抵抗を設けた場合には、
当該終端抵抗の配置に要する分だけ半導体装置の実装に
要する面積が増加し、実装密度の低下を招くという問題
がある。
個に実装基板などの一部に終端抵抗を設けた場合には、
当該終端抵抗の配置に要する分だけ半導体装置の実装に
要する面積が増加し、実装密度の低下を招くという問題
がある。
さらに、半導体装置から離れた位置に終端抵抗が設けら
れるため、半導体装置とKl抵抗との間に介在するボン
ディング・ワイヤや入出力ビンなどの伝送路におけるイ
ンピーダンスのばらつきなどによって、せっかく終端抵
抗を設けても、所期のインピーダンス整合を得ることが
できない場合があるなど、種々の問題があることを本発
明者は見出した。
れるため、半導体装置とKl抵抗との間に介在するボン
ディング・ワイヤや入出力ビンなどの伝送路におけるイ
ンピーダンスのばらつきなどによって、せっかく終端抵
抗を設けても、所期のインピーダンス整合を得ることが
できない場合があるなど、種々の問題があることを本発
明者は見出した。
本発明の目的は、実装密度を向上させることが可能な半
導体装置を提供することにある。
導体装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、人出力ピンなどの特性のばらつき
に影響されることなく、インピーダンス整合を効果的に
実現することが可能な半導体装置を提供することにある
。
に影響されることなく、インピーダンス整合を効果的に
実現することが可能な半導体装置を提供することにある
。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述右よび添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述右よび添付図面から明らかになるであろう
。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、能動素子が形成された第1のペレットの上に
受動素子が形成された第2のペレットを搭載した構造の
半導体装置を提供するものである。
受動素子が形成された第2のペレットを搭載した構造の
半導体装置を提供するものである。
上記した手段によれば、たとえば、終端抵抗などの受動
素子が形成された第2のペレットが、能動素子が形成さ
れた第1のペレットの上に配置されるので全体の投影面
積が大幅に減少し、従来のように外部に終端抵抗を別個
に設ける場合に比較して、実装に要する面積が低減され
、半導体装置の実装密度を向上させることができる。
素子が形成された第2のペレットが、能動素子が形成さ
れた第1のペレットの上に配置されるので全体の投影面
積が大幅に減少し、従来のように外部に終端抵抗を別個
に設ける場合に比較して、実装に要する面積が低減され
、半導体装置の実装密度を向上させることができる。
また、終端抵抗などの受動素子が形成された第2のペレ
ットと能動素子が形成された第1のペレットとの距離が
近いので、両者の間に介在する信号伝送路などにおける
特性のばらつきの影響が最小限に押さえられ、終端抵抗
などの受動素子が形成された第2のペレットによる、能
動素子が形成された第1のペレットと外部とのインピー
ダンス整合を効果的に行わせることができる。
ットと能動素子が形成された第1のペレットとの距離が
近いので、両者の間に介在する信号伝送路などにおける
特性のばらつきの影響が最小限に押さえられ、終端抵抗
などの受動素子が形成された第2のペレットによる、能
動素子が形成された第1のペレットと外部とのインピー
ダンス整合を効果的に行わせることができる。
第1図は本発明の一実施例である半導体装置の断面図で
ある。
ある。
本実施例の半導体装置は、いわゆるピン・グリッド・ア
レイ型の封止形態を呈している。
レイ型の封止形態を呈している。
すなわち、セラミックスやガラス繊維強化樹脂などから
なり、底面に複数の人出力ピン1aが垂直に突設された
パッケージベース1の上部中央には、第1のペレット2
が、たとえば、樹脂や低融点金属およびそれらの合金な
どからなる接合材層3を介して固着されている。
なり、底面に複数の人出力ピン1aが垂直に突設された
パッケージベース1の上部中央には、第1のペレット2
が、たとえば、樹脂や低融点金属およびそれらの合金な
どからなる接合材層3を介して固着されている。
パッケージベース1において第1のペレット2を取り囲
む領域には、個々の人出力ビン1aに個別に接続された
複数の配線構造1bが形成されている。
む領域には、個々の人出力ビン1aに個別に接続された
複数の配線構造1bが形成されている。
この配線構造1bは、たとえば高融点金属のペーストを
スクリーン印刷した後に焼成したり、金属箔をフォトリ
ングラフィによって所定のパターンにすることにより形
成されている。
スクリーン印刷した後に焼成したり、金属箔をフォトリ
ングラフィによって所定のパターンにすることにより形
成されている。
第1のペレット2は、たとえばンリフンなどの半導体で
構成されており、その内部には、フォトリングラフィな
どによって形成された図示しないトランジスタなどの能
動素子などを組み合わせることによって図示しない論理
集積回路などが形成されている。
構成されており、その内部には、フォトリングラフィな
どによって形成された図示しないトランジスタなどの能
動素子などを組み合わせることによって図示しない論理
集積回路などが形成されている。
さらに、第1のベレット2の上面の周辺部には、内部に
形成された図示しないトランジスタなどの能動素子から
なる論理集積回路と外部との人出力信号の授受を行うた
めの複数の入出力電極2aが配設されており、各々の入
出力電極2aは、たとえば金属などの導体からなる複数
のボンディング・ワイヤ4を介してパッケージベース1
の複数の配線構造1bに、すなわち人出力ピン1aに電
気的に接続されている。
形成された図示しないトランジスタなどの能動素子から
なる論理集積回路と外部との人出力信号の授受を行うた
めの複数の入出力電極2aが配設されており、各々の入
出力電極2aは、たとえば金属などの導体からなる複数
のボンディング・ワイヤ4を介してパッケージベース1
の複数の配線構造1bに、すなわち人出力ピン1aに電
気的に接続されている。
この場合、第1のベレット1の上面には、複数の前記人
出力2aの各々に接続され同電位にされた図示しない複
数の接続電極が設けられ、この接続電極の各々には、複
数の導体バンブ5が必要に応じて突設されており、対向
面に図示しない接続電極が形成された第2のベレット6
が、当該導体バンブ5を介して、いわゆるフリップ・チ
ップ・ボンディングによって搭載されている。
出力2aの各々に接続され同電位にされた図示しない複
数の接続電極が設けられ、この接続電極の各々には、複
数の導体バンブ5が必要に応じて突設されており、対向
面に図示しない接続電極が形成された第2のベレット6
が、当該導体バンブ5を介して、いわゆるフリップ・チ
ップ・ボンディングによって搭載されている。
この第2のベレット6は、たとえば第1のベレット2と
同系の物質であるシリコンなどで構成されているととも
に、その−側面には、前記の図示しない接続電極に接続
され、たとえば、厚膜または薄膜技術などによって形成
された、厚膜抵抗素子、厚膜容量素子、薄膜抵抗素子、
薄膜容量素子などからなる受動素子6aが配設されてお
り、必要に応じて設けられた前記バンブ5を介して、任
意の入出力電極2aに接続されている。
同系の物質であるシリコンなどで構成されているととも
に、その−側面には、前記の図示しない接続電極に接続
され、たとえば、厚膜または薄膜技術などによって形成
された、厚膜抵抗素子、厚膜容量素子、薄膜抵抗素子、
薄膜容量素子などからなる受動素子6aが配設されてお
り、必要に応じて設けられた前記バンブ5を介して、任
意の入出力電極2aに接続されている。
また、厚膜抵抗素子、厚膜容量素子、薄膜抵抗素子、薄
膜容量素子などからなる受動素子6aは、第2のベレッ
ト6が第1のベレット2にボンディングされる前に、レ
ーザ・トリミングなどによって抵抗値や容量値などが所
望の値に適宜調整されるものである。
膜容量素子などからなる受動素子6aは、第2のベレッ
ト6が第1のベレット2にボンディングされる前に、レ
ーザ・トリミングなどによって抵抗値や容量値などが所
望の値に適宜調整されるものである。
そして、この第2のベレット6に形成され、第1のベレ
ット2の複数の入出力電極2aに必要に応じて接続され
る受動素子6によって、第2のベレット2に接続される
ボンディング・ワイヤ4゜配線構造1b、入出力ピン1
aなどの信号伝送路におけるインピーダンスが適宜調整
され、たとえば、人出力ピン1aを介して図示しない実
装基板に装着される際のインピーダンス整合が実現され
るものである。
ット2の複数の入出力電極2aに必要に応じて接続され
る受動素子6によって、第2のベレット2に接続される
ボンディング・ワイヤ4゜配線構造1b、入出力ピン1
aなどの信号伝送路におけるインピーダンスが適宜調整
され、たとえば、人出力ピン1aを介して図示しない実
装基板に装着される際のインピーダンス整合が実現され
るものである。
さらに、第2のベレット6および第1のベレット2の周
囲には、当該第2のベレット6と第1のベレット2との
対向部の空間に充満されるとともに、ボンディング・ワ
イヤ4などを包囲するように樹脂7が被着されている。
囲には、当該第2のベレット6と第1のベレット2との
対向部の空間に充満されるとともに、ボンディング・ワ
イヤ4などを包囲するように樹脂7が被着されている。
また、パッケージベース1には、該パッケージベース1
に搭載された第1のベレット2および第2のベレット6
などを外部から遮断して収容するキャップ8が、たとえ
ば低融点ガラス、低融点ガラスよびその合金、樹脂など
の封止材9を介して封着され、パッケージベース1とと
もにいわゆるビン・グリッド・アレイ型のパッケージを
構成している。
に搭載された第1のベレット2および第2のベレット6
などを外部から遮断して収容するキャップ8が、たとえ
ば低融点ガラス、低融点ガラスよびその合金、樹脂など
の封止材9を介して封着され、パッケージベース1とと
もにいわゆるビン・グリッド・アレイ型のパッケージを
構成している。
ここで、本実施例の半導体装置では、第1のベレット2
に形成された図示しないトランジスタなどの能動素子か
らなる論理集積回路などと外部とのインピーダンス整合
をとるための受動素子6aが、当該第1のベレット2に
搭載された第2のベレット6に形成されているので、た
とえば、実装時に、パッケージベース1およびキャップ
8などで構成されるパッケージの外部に個別に終端抵抗
などの受動素子を配置する場合に比較して、実装基板を
占有する面積を大幅に低減することができ、実装密度を
向上させることができる。
に形成された図示しないトランジスタなどの能動素子か
らなる論理集積回路などと外部とのインピーダンス整合
をとるための受動素子6aが、当該第1のベレット2に
搭載された第2のベレット6に形成されているので、た
とえば、実装時に、パッケージベース1およびキャップ
8などで構成されるパッケージの外部に個別に終端抵抗
などの受動素子を配置する場合に比較して、実装基板を
占有する面積を大幅に低減することができ、実装密度を
向上させることができる。
また、第1のベレット2に形成された図示しない能動素
子の入出力電極2aと、第2のベレット6に形成された
受動素子6aとが極めて近い位置にあるため、従来では
回避できなかった、両者の間に介在するボンディング・
ワイヤや外部接続端子などに起因するインピーダンスの
ばらつきも改善され、受動素子6aによる第1のベレッ
ト2に形成された図示しない能動素子の外部とのインピ
ーダンス整合の実現を効果的に行うことができる。
子の入出力電極2aと、第2のベレット6に形成された
受動素子6aとが極めて近い位置にあるため、従来では
回避できなかった、両者の間に介在するボンディング・
ワイヤや外部接続端子などに起因するインピーダンスの
ばらつきも改善され、受動素子6aによる第1のベレッ
ト2に形成された図示しない能動素子の外部とのインピ
ーダンス整合の実現を効果的に行うことができる。
さらに、第1のベレット2と第2のベレット6とが、た
とえばシリコン半導体などの同系の物質で構成されてい
るので、両者の熱膨張率の差異に起因して導体バンブ5
の接合部などに作用する熱応力を低減することができ、
半導体装置の動作の信頼性を向上させることができる。
とえばシリコン半導体などの同系の物質で構成されてい
るので、両者の熱膨張率の差異に起因して導体バンブ5
の接合部などに作用する熱応力を低減することができ、
半導体装置の動作の信頼性を向上させることができる。
また、第1のペレット2と第2のペレット6との間に樹
脂7が充満されていることにより、導体バンブ5および
接続電極の耐蝕性が向上し、半導体装置の動作の信頼性
を向上させることができる。
脂7が充満されていることにより、導体バンブ5および
接続電極の耐蝕性が向上し、半導体装置の動作の信頼性
を向上させることができる。
このように本実施例においては以下の効果を得ることが
できる。
できる。
(1)、論理集積回路などを構成するトランジスタなど
の能動素子が形成された第1のペレット2の上に、当該
能動素子と外部とのインピーダンス整合をとるための受
動素子6aが形成された第2のペレット6をフリップ・
チップ・ボンディングによって搭載した構造であるため
、たとえば、実装時に、パッケージベース1およびキャ
ップ8などで構成されるパッケージの外部に個別に抵抗
などの受動素子を配置する場合に比較して、実装基板を
占有する面積を大幅に低減することができ、実装密度を
向上させることができる。
の能動素子が形成された第1のペレット2の上に、当該
能動素子と外部とのインピーダンス整合をとるための受
動素子6aが形成された第2のペレット6をフリップ・
チップ・ボンディングによって搭載した構造であるため
、たとえば、実装時に、パッケージベース1およびキャ
ップ8などで構成されるパッケージの外部に個別に抵抗
などの受動素子を配置する場合に比較して、実装基板を
占有する面積を大幅に低減することができ、実装密度を
向上させることができる。
また、第1のペレット2に形成された能動素子の入出力
電極2aと、第2のペレット6に形成された受動素子6
aとが極めて近いため、従来では回避できなかった、両
者の間に介在するボンディング・ワイヤや外部接続端子
などに起因するインピーダンスのばらつきも改善され、
受動素子6aによる第1のペレット2に形成された図示
しない能動素子の外部とのインピーダンス整合の実現を
効果的に行うことができる。
電極2aと、第2のペレット6に形成された受動素子6
aとが極めて近いため、従来では回避できなかった、両
者の間に介在するボンディング・ワイヤや外部接続端子
などに起因するインピーダンスのばらつきも改善され、
受動素子6aによる第1のペレット2に形成された図示
しない能動素子の外部とのインピーダンス整合の実現を
効果的に行うことができる。
(2)、第1のペレット2とこの第1のペレット2にフ
’II yプ・チップ・ボンディングされる第2のペレ
ット6とを同系の物質で構成することにより、両者の熱
膨張率の差異に起因して導体バンブ5の接合部などに作
用する熱応力を低減することができ、導体バンプ5の不
時の剥離などが回避され、半導体装置の動作の信頼性を
向上させることができる。
’II yプ・チップ・ボンディングされる第2のペレ
ット6とを同系の物質で構成することにより、両者の熱
膨張率の差異に起因して導体バンブ5の接合部などに作
用する熱応力を低減することができ、導体バンプ5の不
時の剥離などが回避され、半導体装置の動作の信頼性を
向上させることができる。
(3)、第1のペレット2と第2のペレット6との間に
樹脂7が充満されていることにより、導体バンプ5およ
び接続電極の耐腐蝕性が向上し、半導体装置の動作の信
頼性を向上させることができる。
樹脂7が充満されていることにより、導体バンプ5およ
び接続電極の耐腐蝕性が向上し、半導体装置の動作の信
頼性を向上させることができる。
(4)9 前記(1)〜(3〕の結果、極めて高速な動
作を行う論理集積回路などからなる半導体装置における
生産性が向上する。
作を行う論理集積回路などからなる半導体装置における
生産性が向上する。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、第2のペレットの材質としては、シリコンな
どに限らず、セラミックス、サファイアなどいかなるも
のであってもよい。
どに限らず、セラミックス、サファイアなどいかなるも
のであってもよい。
また、封止形態としては、実施例のようなピン・グリッ
ド・アレイなどに限らず、フラット・パッケージ、デュ
アル・イン・ライン・パッケージなどいかなる封止形態
であってもよいことは言うまでもない。
ド・アレイなどに限らず、フラット・パッケージ、デュ
アル・イン・ライン・パッケージなどいかなる封止形態
であってもよいことは言うまでもない。
さらに、第1のペレットの入出力電極とパッケージ・ベ
ースとを接続する方式としては、ボンディング・ワイヤ
を用いるワイヤ・ボンディング方式に限らず、第1のペ
レットをパッケージベースにフリップチップボンディン
グしてもよく、さらにTABリードなどによるテープ・
オートメイテド・ボンディングなどいかなる方式であっ
てもよい。
ースとを接続する方式としては、ボンディング・ワイヤ
を用いるワイヤ・ボンディング方式に限らず、第1のペ
レットをパッケージベースにフリップチップボンディン
グしてもよく、さらにTABリードなどによるテープ・
オートメイテド・ボンディングなどいかなる方式であっ
てもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である能動素子と外部との
インピーダンス整合をとるための受動素子の実装技術に
適用した場合について説明したが、これに限定されるも
のではなく、一般の半導体装置の実装技術に広く適用で
きる。
をその背景となった利用分野である能動素子と外部との
インピーダンス整合をとるための受動素子の実装技術に
適用した場合について説明したが、これに限定されるも
のではなく、一般の半導体装置の実装技術に広く適用で
きる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
すなわち、能動素子が形成された第1のペレットの上に
受動素子が形成された第2のペレットを搭載したので、
たとえば、終端抵抗などの受動素子が形成された第2の
ペレットが、能動素子が形成された第1のペレットの上
に配置され全体の投影面積が大幅に減少するので、従来
のように外部に終端抵抗を個別に設ける場合に比較して
、実装に要する面積が低減され、能動素子が形成された
第1のペレットなどからなる半導体装置の実装密度を向
上させることができる。
受動素子が形成された第2のペレットを搭載したので、
たとえば、終端抵抗などの受動素子が形成された第2の
ペレットが、能動素子が形成された第1のペレットの上
に配置され全体の投影面積が大幅に減少するので、従来
のように外部に終端抵抗を個別に設ける場合に比較して
、実装に要する面積が低減され、能動素子が形成された
第1のペレットなどからなる半導体装置の実装密度を向
上させることができる。
また、終端抵抗などの受動素子が形成された第2のペレ
ットと能動素子が形成された第1のペレットとの距離が
近いので、両者の間に介在する信号伝送路などにおける
特性のばらつきの影響が最小限に押さえられ、終端抵抗
などの受動素子が形成された第2のペレットによる、能
動素子が形成された第1のペレットと外部とのインピー
ダンス整合を効果的に行わせることができる。
ットと能動素子が形成された第1のペレットとの距離が
近いので、両者の間に介在する信号伝送路などにおける
特性のばらつきの影響が最小限に押さえられ、終端抵抗
などの受動素子が形成された第2のペレットによる、能
動素子が形成された第1のペレットと外部とのインピー
ダンス整合を効果的に行わせることができる。
第1図は、本発明の一実施例である半導体装置の断面図
である。 1・・・パッケージベース、1a・・・人出力ヒン、1
b・・・配線構造、2・・・第1のペレット、2a・・
・入出力電極、3・・・接合材層、4・・・ボンディン
グ・ワイヤ、5・・・導体バンプ、6・・・第2のペレ
ット、6a・・・受動素子、7・・・樹脂、8・・・キ
ャップ、9・・・封着材。 代理人 弁理士 小 川 勝 男
である。 1・・・パッケージベース、1a・・・人出力ヒン、1
b・・・配線構造、2・・・第1のペレット、2a・・
・入出力電極、3・・・接合材層、4・・・ボンディン
グ・ワイヤ、5・・・導体バンプ、6・・・第2のペレ
ット、6a・・・受動素子、7・・・樹脂、8・・・キ
ャップ、9・・・封着材。 代理人 弁理士 小 川 勝 男
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、能動素子が形成された第1のペレットの上に受動素
子が形成された第2のペレットを搭載したことを特徴と
する半導体装置。 2、前記第2のペレットは、前記第1のペレットの側に
突設された複数の導体バンプを介して、当該第1のペレ
ットにフリップ・チップ・ボンディングされていること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 3、前記第2のペレットに形成された受動素子は、該ペ
レットの一側面に形成された薄膜素子または厚膜素子か
らなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半
導体装置。 4、前記第1のペレットと第2のペレットは同系の物質
からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
半導体装置。 5、前記導体バンプは、前記第1のペレットに設けられ
、前記能動素子と外部とを接続する入出力電極と同電位
にされていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の半導体装置。 6、前記第1のペレットと第2のペレットとの接続部お
よび該第1のペレットにおける前記入出力電極が樹脂に
よって包囲されていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の半導体装置。 7、前記第2のペレットの受動素子により、前記第1の
ペレットと外部とにおけるインピーダンス整合が行われ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62295243A JP2541586B2 (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62295243A JP2541586B2 (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01137662A true JPH01137662A (ja) | 1989-05-30 |
JP2541586B2 JP2541586B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=17818069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62295243A Expired - Fee Related JP2541586B2 (ja) | 1987-11-25 | 1987-11-25 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2541586B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6420787B1 (en) | 1999-06-21 | 2002-07-16 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Semiconductor device and process of producing same |
-
1987
- 1987-11-25 JP JP62295243A patent/JP2541586B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6420787B1 (en) | 1999-06-21 | 2002-07-16 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Semiconductor device and process of producing same |
US6548326B2 (en) | 1999-06-21 | 2003-04-15 | Shinko Electronic Industries Co., Ltd. | Semiconductor device and process of producing same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2541586B2 (ja) | 1996-10-09 |
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