JPH01130997A - Ｘ線写真へのデータ写し込み用筆記具 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 童栗上少肌里分！ 本発明は、Ｘ線写真へのデータ写し込み用筆記具に関し
、詳しくは、その上に筆記が可能な適宜の板材又はシー
ト（以下、基材という。）に所要のデータを記載し、こ
の基材をＸ線写真フィルムに重ね、Ｘ線撮影時に上記デ
ータをＸ線写真フィルムに写し込むに際して、上基板材
に簡単に筆記し得、且つ、これを鮮明にＸ線写真フィル
ムに写し込むことができるＸ線写真へのデータ写し込み
用筆記具に関する。

ｌ來■茨歪 人体その他のＸ線写真の撮影に際しては、通常、撮影の
日付、被撮影者の氏名、性別、その他の所要のデータが
フィルムに同時に写し込まれる。この目的のために、従
来、Ｘ線写真フィルムカセットの一隅にＸ線を透過し難
い鉛製の単文字活字を手作業にて配列して貼着する方法
が採用されている。しかし、この方法によるときは、単
文字活字を配列する作業が極めて煩雑であり、写し込み
のためのデータ量も自ずから限られることとなる。

また、筆記面としての鉛箔を露出させて、鉛箔をフィル
ム間に保持したデータ写し込み用器具も知られている。

この器具を用いるには、鉛箔に筆記、即ち、鉛箔を削り
取るので、筆記は幾分容易ではあるが、鉛箔で被覆され
る部分が不必要にＸ線を遮断するので、Ｘ線写真に利用
できないフイルム部分が多い。

■が　゛　しようとする。　占 そこで、例えば、特公昭６２−２７７０４号公報には、
酸化鉛、鉛白、硫化鉛等の鉛化合物の微粉末を速乾性の
バインダーに混合してなるペースト状の塗剤を用意し、
例えば、折り曲げた紙片のそれぞれに撮影後に二重写し
になるように、上記塗剤を用いて所要のデータを記載し
、これをＸ線写真フィルムに貼着する方法が提案されて
いる。

しかし、この方法によるときも、実際上、データが厳密
に二重写しになるように記載することは容易ではなく、
また、塗剤が鉛化合物の微粉末を含むペースト状物であ
るので、微粉末が沈降しゃすく、使用直前に攪拌を必要
としたり、或いは筆記具に特別の道具を必要とし、しか
も、筆記性に劣る。

、　点を”′するための手段 本発明によるＸ線写真へのデータ写し込み用筆記具は、
インキ室と、このインキ室に充填されているＸ線遮蔽性
インキ組成物であって、Ｘ線の線吸収係数が鉛の１０％
以上である単体又は化合物を溶剤中に分散してなるＸ線
遮蔽性インキ組成物と、上記インキ室を加圧する手段と
、上記インキ室に連通ずるペン先とを備えており、上記
インキ室を加圧することによって筆記が可能となるよう
にしたことを特徴とする。

一般に、強度Ｉ０のＸ線が厚みｄ（ｃｍ）の物質を透過
した後の強度Ｉは、その物質の密度をρ（ｇ／ａ（）と
するとき、 Ｉｎ　（Ｉｏ　／　Ｉ）　−１１ｆ）　ｄ　　　　　ｆ
ｉｌ又は Ｉ　＝　Ｉ　ｏ　ｅｘｐ（−μρｄ　）　　　　　（２
１が成立し、ここに、ρμ（ｃｍ−’）がその物質のＸ
線に対する線吸収係数、μ（ｃ＋Ｊ／ｇ）がその物質の
Ｘ線に対する質量吸収係数であると定義される。

この質量吸収係数は、Ｘ線の波長が定まるとき、物質を
構成する各元素が有する固有の値であり、化合物及び混
合物について、加成性を有していることが知られている
。即ち、化合物又は混合物を構成する各成分元素の質量
吸収係数をμ８とし、重量比率をＷ、とじ、化合物又は
混合物の密度をρとするとき、その化合物又は混合物の
質量吸収係数μは、 μ−Σμ４　Ｗ　ｉ にて求めることができる。

本発明において用いるＸ線遮蔽性インキ組成物は、Ｘ線
の線吸収係数が鉛の１０％以上である単体又は化合物を
溶剤中に分散してなる。

上記のような単体又は化合物の具体例としては、例えば
、以下のものを挙げることができる。

Ａｇ、　　ＡｇＡｓＯ４、ＡｇＢｒ、　　ＡｇＣＯ３、
八ｇｃ１．　　Ａｇｌ、　　八ｇ２０、八ｇＪＯａ、　
八ｇｚｓｓ　　ＣｄＢｒｚ、　ＣｄＣＩｚ、　Ｃｄ１Ｚ
、　Ｃｄ（ＯＲ）！、３ＣｃｌＳＯ４・８■２０、Ｃｄ
Ｓ、　Ｃｄ５−ＣｄＳｅ、　ＩｎｚＯ３、Ｈ３Ｓｂ０３
．５ｂＢｒ３．５ｂＺ０３．５ｂ２Ｓ、、Ｔｅ１ｚ、Ｔ
ｅａＸＢａＣＯ３、ＢａＣｒＯ４、ＢａＷＯ４、ＢａＭ
ｎＯ４、ＬａｚＯｓ、　ＨｆＯ２、ＴａＢｒ３、　Ｔａ
Ｃｌ５、Ｔａ２０５、Ｔａ　（ＯＨ）　６、Ｌｏｔ、　
ＷＯｚ、ＷＣ，ＣａＷＯａ、ｈｓｚ、ＰｔＢｒｚ、Ｐｔ
Ｃ１ｚ、Ｐｔ（ＯＨ）ｚ、Ｐｔ０ｚ、ｐｔｏ、ｐｔｓ、
　Ｐｈ５３、八ｕ（ＯＲ）３、　Ａｕ−、八ｕＩ３、　
ＡＬＩ２０３、　ＡｕＢｒ、　　Ａｕｌ、　八１１２　
Ｓ　−。

ＨｇＣＬ　Ｈｇ２Ｃｒ０４、ＨｇｌＸＨｇ２Ｓ、、、ｌ
（ｇ２ｓｏ４、Ｂｉｂ（ＯＨ）、Ｂｉａｓ、、ＢｉＣｌ
３、ＴｌＢｒ、　ＴｌＣｌ、　ＴｉＬ（ＯＨ）、ＴＩＩ
、Ｔ１２Ｓ、　Ｐｂ、　ＰｂＯ１Ｐｂ３０．、ＰｂＣｒ
Ｏ４、ＰｂＳ、　２ＰｂＣＯ３・Ｐｂ　（ＯＲ）　ｚ、
ＰｂＣｒ０ｔ・ＰｂＳＯ４、ＰｂＣｒＯ４・Ｐｂ０．２
ＰｂＳＯｔ・ｐｂｏ、ＰｂＣ１ｚ、ｐｂｒｇ、Ｃｅ（Ｃ
Ｏ３）ｓ・５Ｈｚｏ、　ＣｅｚＯ＋、Ｐｒ２０．、Ｐｒ
ｏ、、Ｓｍｚ０３等。

本発明においては、上記したＸ線遮蔽剤のなかでも、特
に、鉛白（２ＰｂＣＯ＋・Ｐｂ（ＯＨ）ｚ）、硫酸バリ
ウム（ＢａＳＯｎ）、カドミウム・イｘ　ｏ　−（Ｃｄ
Ｓ）、黄鉛（ＰｂＣｒ０４）、カドミウム・レッド（Ｃ
ｄＳ、Ｃｄ５ｅ）、朱（Ｈｇ５）、ネーブルス黄（Ｐｂ
（ｓｏ３）２）、タングステン青（ＬＯｌｌ）等の顔料
や、炭化タングステン、タングステンは、微粉末として
入手しやすいので、本発明において好適に用いられる。

このようなＸ線遮蔽剤は、水及び殆どの有機溶剤に不溶
性乃至難溶性であるので、そのための分散媒は、水であ
っても、有機溶剤であっても、また、これらの混合物で
あってもよい。

従って、有機溶剤としては、特に限定されるものではな
く、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパツー
ル、ブタノール等の低級脂肪族アルコール、エチレング
リコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、ブタンジオール、ベンタ
ンジオール、ヘキサンジオール等のグリコール又は（ポ
リ）アルキレングリコール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレ
ングリコール等の（ポリ）アルキレングリコールのモノ
メチルエーテル、モノエチルエーテル、モツプチルエー
テル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエ
ーテル、これらのアセテート、ベンゼン、キシレン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等の脂
肪族炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン
等の脂環族炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチル等の脂肪
族カルボン酸エステル、アセトン、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケト
ン等の１種又は２種以上の混合物が用いられる。

また、水溶解性の単体又は化合物も、そのための分散媒
として有機溶剤を用いることによって、本発明の方法に
おいて用いるインキ組成物とすることができる。このよ
うなＸ線遮蔽剤として、例えば、ＡｇＮＯ３、ＣｄＣ０
ａ、Ｃｄ　（ＣＮ）　２、Ｃｄ０３ＩｎＣＩ３、ＩｎＢ
ｒ３、Ｉｎ　（ＳＯ４）　３．５ｎＣ１ｚ、５ｂＣ１３
、Ｃ３（ＣＯ３）２、ＣｓＣ］、Ｃｓｌ、Ｃ５ｚ（ＳＯ
ｅ）、Ｃ５ＪＯ４、ＢａＩ２・２ＨｚＯ１ＢａＣ１，、
ＬａＣ１＋、Ｌａ（Ｎ（１＋）３・６■２０、Ｋ２ＷＯ
４、ＮａＪＡＯａ、ＡｕＢｒ＋、八ｕＣＬ３、　ＡＬＩ
ＯＲ，Ｔ１２ＣＯ３、ＴＩＢｒｚ・４ＨｚＯ，ＴＩｚＯ
。

Ｐｂ（ＮＯ＋）ｇ、ＣｅＣｌ３、ＰｒＣＰｒＣ１３４）
１ｚＯ１Ｓ＋、Ｎａｌ、　Ｋ１等を挙げることができる
。

更に、上記のような水溶性のＸ線遮蔽剤を含有する水溶
液に前記水不溶性のＸ線遮蔽剤を分散させることによっ
ても、本発明の方法において用いるインキ組成物を得る
ことができる。

上記のようなＸ線遮蔽剤は、インキ組成物において、通
常、５〜９０重量％、好ましくは１０〜７０重量％の範
囲で配合される。

用いるＸ線遮蔽剤の種類にもよるが、配合量が余りに少
ないときは、Ｘ線遮蔽効果が十分でなく、他方、余りに
多いときは、インキ組成物における分散性やインキ組成
物の流動性が低下し、筆記性に劣ることとなり、延いて
は、記載したデータのＸ線写真フィルムへの写し込みが
不鮮明となる。

本発明の方法において用いるインキ組成物は、分散媒に
おけるＸ線遮蔽剤の分散性を高めると共に、基材上に筆
記した際に筆跡がそれに均一に付着し、鮮明な筆跡を形
成し得るように、樹脂を含有する。かかる樹脂も、用い
る溶剤に応じて、その溶剤に溶解するものであれば、特
に限定されるものではない。従って、例えば、カルボキ
シメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、キ
サンタンガム、ポリビニルピロリドン、水溶性アクリル
樹脂、種々のエマルジョン樹脂、ポリアミド樹脂、アル
キド樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニル
ブチラール樹脂、ニトロセルロース樹脂、セラック、ロ
ジン等が用いる溶剤に応じて適宜に用いられる。

インキ組成物におけるかかる樹脂の配合量は、通常、０
．１〜３０重量％の範囲である。配合量がインキ組成物
における０、１重量％よりも少ないときは、前述した樹
脂配合の効果が不十分であり、他方、過多に配合すると
きは、インキ組成物の粘度を過度に高めて、筆記性を悪
化させる。

更に、本発明の方法において用いるインキ組成物は、上
記した成分に加えて、分散助剤、揺変剤、防錆剤、防腐
剤等の添加剤を含有することができる。分散助剤として
は、例えば、種々のノニオン系、アニオン系、カチオン
糸導界面活性剤が用いられる。揺変剤としては、例えば
、Ｄ−ソルビトール・ベンズアルデヒド縮合物、Ｎ−ア
ジアＬ／　り）Ｌｔタミン酸ジアミド等を、防錆剤とし
ては、例えば、Ｃ３，５−ベンゾトリアゾール等を、防
腐剤としては、例えば、テトラブチルスズ、安息香酸ナ
トリウム等を挙げることができる。

本発明において用いる筆記具は、軸体内にインキ室を有
し、このインキ室に充填されているインキ組成物を加圧
するための加圧手段と、インキ室に連通して配設された
ペン先とを備え、インキ室を加圧したときにインキ組成
物をペン先から流出させ、若しくは押し出して、筆記を
可能とするものである。

インキ室のインキ組成物を加圧するようにした筆記具と
して、軸体が柔軟であって、筆記時に軸体を絞って、イ
ンキ組成物をペン先から流出させ、又は押し出すように
した筆記具、筆記時に逆止弁を通してインキ室に空気を
送り込み、インキ組成物を加圧することによって、イン
キ組成物をペン先から押し出し、又は流出させるように
した筆記具、軸体内にピストン又は類似の手段を備え、
筆記時に所謂ノック方式又はねじ方式にてピストンをペ
ン先方向に前進させて、インキ組成物を加圧することに
よって、インキ組成物をペン先から押し出し、又は流出
させるようにした筆記具、筆記時に圧縮空気や圧縮ガス
を発生する薬剤をインキ室に充填し、インキ組成物を加
圧して、インキ組成物をペン先から押し出し、又は流出
させるようにした筆記具等を挙げることができる。ペン
先は、フェルト等のような毛細管現象を可能とする繊維
製品、金属針のような剛体、鋼球のようなボール等、従
来、知られている任意のものであってよい。

フェルト等のような繊維製品をペン先とするときは、イ
ンキ組成物はフェルト内を通過して、これに接触する基
材上に筆跡を形成し、また、金属針のような剛体をペン
先とするときは、インキ組成物は金属針上を伝って、基
材面に接触し、筆跡を形成する。また、ペン先が鋼球の
ようなボールであるときは、ボールペンとして知られて
いる筆記具と同じく、インキ組成物がボールに付着し、
基材との接触によってボールが回転することによって、
インキ組成物を基材上に供給して、筆跡を形成する。

第１図は、本発明による筆記具の好ましい実施例を示す
。軸体１には内部にインキ室２が形成されており、ここ
に、前述したようなインキ組成物３が充填されている。

必要に応じて、このインキ室には、インキ組成物を攪拌
するための鋼球のようなボール４が入れられている。

軸体の上端には、可撓性の加圧弁５が配設されている。

この加圧弁は、例えば、ゴムや合成樹脂からなり、頂部
に空気孔６が穿設されている。更に、軸体内には、隔壁
７に穿設された連通孔としての弁座８を介して、上記加
圧弁に連通して弁室９が配設されていて、上記弁座には
、ばね１０にて付勢されて、円錐状又は類似形状の弁１
１が押圧接触せしめられている。他方、軸体の先端には
、インキ室に連通ずる小径のボール保持筒１２が配設さ
れ、このボール保持筒にペン先としてのボールペンチッ
プ１３が保持されている。

従って、かかる筆記具を用いて、基材に筆記するには、
加圧弁の空気孔を指にて塞ぎながら、これを圧縮して、
加圧弁内を加圧すれば、弁はばねに抗して軸体先端方向
に押し下げられて弁座から離脱し、インキ室内のインキ
組成物を加圧するので、インキ組成物は、ボール保持筒
を経て、先端のボールペンチップに付着し、その回転に
よって基材上に筆跡を形成する。

しかし、本発明による筆記具は、前述したように、イン
キ組成物の加圧手段及びペン先の構造において、上記例
示したものに限定されるものではない。

本発明による筆記具にて所要データをその上に記載する
基材は、吸収性でも非吸収性でもよく、前者の例として
、例えば、濾紙、画用紙等の紙、ガラス繊維やセラミッ
クス繊維等の無機繊組を含む合成繊維や天然繊維からな
る織布、フェルト、メリヤス、不織布や、或いは多孔質
又はスポンジ状合成樹脂シート等を挙げることができ、
また、非吸収性基材としては、ガラス板、金属板や箔、
合成樹脂フィルムやシート等を挙げることができる。

Ｘ線撮影時のＸ線のフィルムへの透過量は、インキ組成
物の有する質量吸収係数とその厚みに依存する。前述し
たように、本発明の方法において用いるＸ線遮蔽性イン
キ組成物は、Ｘ線の線吸収係数が鉛の１０％以上である
単体又は化合物を溶剤中に分散してなるので、筆跡厚み
をおよそ０．３〜１．２１程度とすることによって、Ｘ
ｗＡ写真撮影に際して、基材上に記載したデータをＸ線
写真フィルムに鮮明に写し込むことができる。

１里■簸来 以上のように、本発明の筆記具によれば、Ｘ線の線吸収
係数が鉛の１０％以上である単体又は化金物を溶剤中に
分散してなるＸ線遮蔽性インキ組成物をマーキングペン
のインキ室に充填し、マーキングベンにおいて、上記イ
ンキ室に連通ずるインキ室加圧手段と、インキ室を加圧
したとき、インキ組成物をペン先から流出させ、若しく
は押し出すためのペン先とを備えており、上記インキ室
を加圧することによって筆記が可能となるようにしたの
で、Ｘ線遮蔽剤を高含有量にて含有するインキ組成物を
用いながら、容易に厚みを有する筆跡を形成することが
でき、従って、このように基材上に記載したデータをＸ
線写真の撮影に際して、鮮明にＸ線写真フィルムに写し
込むことができる。

即ち、本発明の筆記具を用いることによって、従来の方
法に比べて、基材への所要のデータの記載及びＸ線写真
フィルムへのそのデータの写し込みが著しく簡単化され
る。

１隻Ｍ 以下に示す組成の水性インキ組成物を調製した。

配合量は重量部による部数で示す。Ｘ線遮蔽剤容積％（
Ｖ）は、インキ組成物におけるＸ線遮蔽剤の容積％（計
算値）を示し、これにＸ線遮蔽剤の線吸収係数と筆記さ
れた筆記のインキ層厚みを乗ずれば、Ｘ線の遮蔽力をあ
られす。また、対応厚みとは、鉛０．０２ｗｍ厚みに対
応するＸ線遮蔽力をもたせるときに必要とされる筆跡の
インキ組成物の厚みを意味する 土ｌ土凪底豆上 Ｂａｃｏ４６０部 水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３５　　
　部セロゲンＰＲ”　　　　　　　　　　０．８　　部
エチレングリコール　　　　　　　　４．２　　部Ｘｖ
Ａ遮蔽剤容積％　　　　　　　　２５　　％対応厚み　
　　　　　　　　　　　０．７１　鶴対応厚みは、（鉛
の線吸収係数×鉛の厚み（０゜０２ｍ）／（Ｘ線遮蔽剤
の線吸収係数ＸＶ）から０．７１ｍと計算される。

４ｙ」」ＩνＬＬ 鉛白　　　　　　　　　　　　　４０．５　部水　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　５１．０　部セロゲ
ンＰ　Ｒ０，８部 ケルザン２１　　　　　　　　　　　　４．２　　部プ
ロピレングリコール　　　　　　　７．５　　部Ｘ線遮
蔽剤容積％　　　　　　　　１０　　％対応厚み　　　
　　　　　　　　　０．４６ｍｍ随Ｚ土旦戊隻工 二酸化タングステン　　　　　　　５６　　部水　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　２９　　　部モビ
ニールｐｙ３１　　　　　　　　１ｏ　　　部ヘキシレ
ングリコール　　　　　　　５　　部Ｘ線遮蔽剤容積％
　　　　　　　　１５　　％対応厚み　　　　　　　　
　　　　０．３１ｍ不ヱ土凪底豊↓ ＰｂＣｒＯ４２５部 水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４４．７９
部モビニールＤＶ　　　　　　　　　　２０　　　部カ
ーボポール９４１’１　　　　　　　０．２　　部炭酸
ナトリウム　　　　　　　　　　０．０１％エチレング
リコール　　　　　　　１０　　部Ｘ線遮蔽剤容積％　
　　　　　　　　５　　％対応厚み　　　　　　　　　
　　　１．１２　鶴４ツｆｆｉ訓１足 炭酸バリウム　　　　　　　　　　４３　　部キシレン
　　　　　　　　　　　　４０　　部ブタノール　　　
　　　　　　　　　２　　部ヒタノール１５０１”　　
　　　　　１５　　　部Ｘ線遮蔽剤容積％　　　　　　
　　１５　　％対応厚み　　　　　　　　　　　　１．
０８ｍ盃ｌ土■底璽工 鉛丹　　　　　　　　　　　　　　５１　　部メチルセ
ロソルブ　　　　　　　　２６．５　部エタノール　　
　　　　　　　　　　１０．０　　部テスポール１０４
１”　　　　　　　１２．２５部ゲルオールＤ″）０．
２５部 Ｘ線遮蔽剤容積％　　　　　　　　１ｏ　　％対応厚み
　　　　　　　　　　　　０．２７ｍ乙ｌ土朧底１１ 炭化タングステン　　　　　　　　６４　　部ヒタノー
ル１１３１”　　　　　　　　４　　　部エトセルＨ９
１０，２部 デンカブｆ−ｙ−ル２０００−Ｌ”’　　　１．０　　
部メチルセロソルブ　　　　　　　　２４．８　部ブチ
ルセロソルブ　　　　　　　　　４　　部酢酸アミル　
　　　　　　　　　　　２　　部Ｘ線遮蔽剤容積％　　
　　　　　　１０　　％対応厚み　　　　　　　　　　
　　０．０９ｎ不Ｚ土紙底膓ｌ タングステン粉末　　　　　　　　５０　　部硫酸バリ
ウム　　　　　　　　　　２０　　部日石ネオポリマー
１１４０”’　　　　３．０　　部エステルガムＰＥ−
１”’　　　　　　　１．５　　部ゲルオールＤ　　　
　　　　　　　　０．２　部キシレン　　　　　　　　
　　　　２３．３　部エタノール　　　　　　　　　　
　　　２．０　　部Ｘ線遮蔽剤容積％　　　　　　　　
１０　　％対応厚み　　　　　　　　　　　　０．１２
８ｍ不Ｚ土則底艷主 ＰｂＣｒＯ４２５部 ＫＩ　　　　　１５部 ＨＥＣ−ユニセル０９Ｈ′３’　　　　　３　　　製水
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４７　　　
部エチレングリコール　　　　　　　１０　　部キシレ
ン　　　　　　　　　　　　２３．３　部Ｘ線遮蔽剤容
積％　　　　　　　　　５　　％対応厚み　　　　　　
　　　　　　０．４０　璽ｌ不ｌ土凪底隻上度 ＺｎＩｔ　　　　　４４部 キシレン　　　　　　　　　　　　３８　　部ブタノー
ル　　　　　　　　　　　　３　　部ヒタノール１５０
１　　　　　　　１５　　　部Ｘ線遮蔽剤容積％　　　
　　　　　１５　　％対応厚み　　　　　　　　　　　
　０．９６　額（注） １）第一工業製薬■製カルボキシルメチルセルロース ２）三昌■製キサンタンガム ３）ヘキスト合成■製酢酸ビニルエマルジョン４）グツ
ドリッチ社製水溶性アクリル樹脂（揺変剤） ５）日立化成ポリマー■製水添ロジンエステル６）日立
化成工業■製アルキルフェノール樹脂７）新日本理化■
製り−ソルビトール・ベンズアルデヒド縮金物（揺変剤
） ８）日立化成工業■製フェノール樹脂 ９）ダウ・ケミカル社製エチルセルロース１０）電気化
学工業■製ポリビニルブチラール１１）日本石油化学■
製石油樹脂 １２）徳島製油側製水添ロジンエステル１３）ダイセル
化学工業■製ヒドロキシエチルセルロース 図示したマーキングペンのインキ室に上記したそれぞれ
のインキ組成物を充填し、基材としての紙上に筆記した
ところ、いずれも容易に厚みのある鮮明な筆跡を形成す
ることができた。

また、これらの基材をそれぞれＸ線写真フィルムのカセ
ットに貼着し、Ｘ線写真撮影を行なったところ、基材上
のデータはいずれも鮮明にＸ線写真フィルムに写し込ま
れた。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明による筆記具の好ましい実施例を示す
断面図である。 １・・・軸体、２・・・インキ室、３・・・インキ組成
物、４・・・ボール、５・・・加圧弁、６・・・空気孔
、７・・・隔壁、８・・・弁座、９・・・弁室、１０・
・・ばね、１１・・・弁、１２・・・ボール保持筒、１
３・・・ボールペンチップ。 １０′″ 一 一 第１図 ｂ＝ｍ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）インキ室と、このインキ室に充填されているＸ線
   遮蔽性インキ組成物であつて、Ｘ線の線吸収係数が鉛の
   １０％以上である単体又は化合物を溶剤中に分散してな
   るＸ線遮蔽性インキ組成物と、上記インキ室を加圧する
   手段と、上記インキ室に連通するペン先とを備えており
   、上記インキ室を加圧することによつて筆記が可能とな
   るようにしたことを特徴とするＸ線写真へのデータ写し
   込み用筆記具。