JPH01118847A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、電子写真感光体に関する。

（従来の技術） 従来、光導電性物質を感光材料として利用する電子写真
材料においては、セレン、酸化亜鉛、ｆＲ化チタン、酸
化カドミウムなどの無機系光導電性物質が主に用いられ
てきた。しかし、これらは。

一般に毒性が強いものが多く、廃棄する方法にも問題が
ある。

一方、有機光導電性化合物を使用する感光材料は、無機
系光導電性物質を使用する場合に比べ一般に、毒性が弱
く、更に、透明性、可とう性、軽量性９表面平滑性９価
格等の点において有利であることから、最近、広く研究
されてきている。その中でも、電荷の発生機能と電荷の
輸送機能を分離した複合型電子写真感光体、すなわち導
電性基体の上に電荷発生層と電荷輸送層を積層した感光
体は、従来有機光導電性化合物を使用した感光体の大き
な欠点であった感度を大幅に向上させることができるた
め、近年急速な進歩を遂げつつある。

しかし導電性基体上に、直接感光層を設けた場合、特に
感光層が電荷発生層と電荷輸送層の２層からなシ、電荷
発生層が直接導電性基体に接している場合、導電性基体
表面のごくわずかな凹凸やキズ、汚れ、付着物などの表
面欠陥によシ、はじき、むらなどが発生し電荷発生層の
膜厚が不均一性となりやすい。このため、複合型電子写
真感光体を例えばカールソン法による電子写真装置など
に適用して印字すると前記表面欠陥をそのまま画像に反
映し白地部の全面に黒ポチ（直径２００μｍ以下の黒い
点）、黒地部の全面に白ポチ（直径２００μｍ以下の白
抜け）が発生し画質が低下するということがしばしばあ
り問題であった。

このような問題を解決する従来技術としては。

電荷発生層を導電性基体上に形成する際に、導電性基体
表面上の欠陥、汚れ、付着物などをカバーし、導電性基
体表面上に形成される電荷発生層が形態的に均一となる
ように電荷発生層と導電性基体の中間に（すなわち導電
性基体の表面上）樹脂層を設けることが知られておシ、
この樹脂層は一般に下引層又は中間層と呼ばれている。

このよりな下引層又は中間層として、ポリアミド樹脂、
ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、メラミ
ン樹脂、カゼイン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、エチレン−アクリル
酸共重合体樹脂などの樹脂層を用いる方法や、これらの
樹脂層に導電性物質、具体的には、導電性金属粉体や金
属錯体を入れる方法が、特開昭６１−１１０１５３号公
報、特開昭６１−１６３３４６号公報、特開昭６１−２
００４９号公報、特開昭６１−２０４６４０号公報、特
開昭６１−２０４６４１号公報、特開昭６１−２４０２
４７号公報、特開昭６１−２５４９５１号公報９％開昭
６１−２５８２５８号公報などに提案されている。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、前記下引き層を電荷発生層と導電性基体
の中間に設けても、黒ポチや、白ポチの印字欠点は、常
温においである程度は減少するが皆無にはならず、印字
環境が３０℃以上、特に３５℃以上になると黒ポチや、
白ポチが増加し印字品質が極めて低下するという欠点を
持っておシ。

環境変化に対して、印字品質の変化の大きい不安定な電
子写真感光体しか得られず問題であった。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、導電性基体上に、熱可塑性樹脂を含有する下
引層及び感光層を有する電子写真感光体において、前記
下引層が走査型電子顕微鏡で観察した場合２表面が平滑
であり、導電率が少なくとも２　Ｘ　１０−１４０−１
・ｃｍ−”　である電子写真感光体に関する。

本発明において導電性基体とは、導電処理した紙又はプ
ラスチックフィルム、アルミニウムのような金属箔を積
層したプラスチックフィルム、金属板、金属ドラム等の
導電体である。

本発明において、下引き層には熱可塑性樹脂が含有され
る。

該熱可塑性樹脂としては、ポリアミド樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、メラミン樹脂、カ
ゼイン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、エチレン−酢
酸ビニール共重合体樹脂。

エチレン−アクリル酸共重合体樹脂などが挙げられる。

本発明において、下引層は、走査型電子顕微鏡で観察し
た場合表面が平滑である必要がある。ここで「表面が平
滑」である状態とは、導電性基体上に下引層を設けた後
、この上に感光層を設ける前に、該下引層表面を面に垂
直方向（すなわち真上）から走査型電子顕微鏡で観察し
た場合（例えば１倍率：２０，０００〜７０．０００倍
、印加電圧２〜１５　ｋｖ　）に、フィブリル状（繊維
状）で結晶状の凹凸が観察されることがなく、均一な表
面が観察される状態を意味する。フィブリル状で結晶状
の凹凸を有する表面が観察される。すなわち平滑でない
表面の一例の走査型電子顕微鏡写真を第１図に示す。−
万、均一な表面が観察される。すなわち平滑な表面の一
例の走査型電子顕微鏡写真を第２図に示す。

下引層の表面が平滑である状態とするためには。

例えば、下引層に含有される熱可塑性樹脂にポリアミド
樹脂を用いる場合、該ポリアミド樹脂は。

アミド基濃度が３．０Ｘ１０−３当量／ｇ以下であるこ
とが好ましい。１．０Ｘ１０−３当量／ｇ以下のものが
よシ好ましい。

アミド基濃度が特定の範囲のポリアミド樹脂は。

ポリアミド樹脂を合成する際の原料のジカルボン酸、ジ
カルボン散無水物、ジカルボン酸のハロゲン化物、ジア
ミン、アミノカルボン酸等について。

その種類と量を適宜決定した配合で公知の方法により重
合反応を行うことにより得られたものを用いることがで
きる。

また、市販のポリアミド樹脂でアミド基濃度が特定の範
囲のものを選んで用いることもできる。

なお、市販のポリアミド樹脂で組成の明らかになってい
ないもの（従ってアミド基濃度も不明なもの）でも、加
水分解後、ガスクロマトグラフィ分析によシ９組成を知
ることができるので、アミド基濃度が特定の範囲のもの
を選んで使用することができる。

このような市販のポリアミド樹脂としては９例えばトレ
ジンＭＦ３０．）レジンＦ３０．）レジンＥＦ３０Ｔ（
以下帝国化学産業■製ポリアミド樹脂の商品名）、Ｍ−
１２７６（日本リルサン■製ポリアミド樹脂の商品名）
等がある。

下引き層に含有されるポリアミド樹脂は、単独で又は２
種類以上混合して用いてもよい。

本発明において、熱硬化性樹脂及び硬化剤を上記ポリア
ミド樹脂と併用することが好ましい。熱硬化性樹脂及び
硬化剤の併用によって下引き層の耐溶剤性及び膜の強度
は向上し、下引き層の上に感光層を設ける際に感光層形
成用溶液中の溶媒等によるダメージを受けにくくなる。

熱硬化性樹脂としては、メラミン樹脂、ベンゾグアナミ
ン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹
脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、尿素樹脂等の熱
硬化性樹脂が使用でき通常の状態で皮膜を形成できる熱
硬化性樹脂であれば特に制限はない。これらは熱可塑性
樹脂に対して３００重１ｋｔｓ以下で使用するのが好ま
しい。

硬化剤としては、トリメリット酸、ピロメリット酸など
のカルボン酸や、カルボン酸を有するアミドのオリゴマ
ーなどが挙げられる。これらは。

前記熱硬化性樹脂に対して２０重量％以下で使用するの
が好ましい。

本発明の下引き層は導電率が少なくとも２×１０−１４
０−１・ｃｍ−１である必要がある。導電率が２Ｘ　１
０−１４０−１・Ｃ１ｎ−”未満の場合は電子写真特性
の低下（すなわち残留電位が高くなシ感度が悪化する）
をきたす。

下引き層を形成する方法として、熱可塑性樹脂。

必要に応じて熱硬化性樹脂、硬化剤等をメタノール、エ
タノール、インプロパツールなどのアルコール溶剤ト塩
化メチレン、１，１．２−）リクロロエタンなどのハロ
ゲン系溶剤の混合溶剤に均一に溶解し、これを導電性基
体上に浸漬塗工法、スプレー塗工法、ロール塗工法、ア
プリケータ塗工法。

ワイヤバー塗工法等の塗工法を用いて塗工し乾燥して形
成することができる。

下引き１−の厚さは、０．０１μｍ〜５．０μｍが好ま
しく、特に０．０５μｒｎ−２，、ｏμｍが好ましい。

薄すぎると均一な電荷発生層が形成出来ず黒ポチや白ポ
チが発生する傾向がある。又厚すぎると残留電位の蓄積
が大きくなシ、印字枚数が増加するに従い印字濃度の低
下が発生する傾向がある。

感光層は、−層でその機能をはたすものでも。

主に電荷発生機能を有する電荷発生層と主に電荷輸送機
能を有する電荷輸送層からなる機能分離型の複合型感光
層でもよい。以下に本発明の感光層の態様について説明
する。

（１）本発明の感光層の一例は、電荷を発生する有機顔
料を含有する電荷発生層及び電荷輸送性物質を含有する
電荷輸送層をこの順に積層したものである。

電荷発生層に含まれる電荷を発生する有機顔料としては
、アゾキシベンゼン系、ジスアゾ系。

トリスアゾ系、ベンゾイミダゾール系、多環式キノリン
系、インジゴイド系、キナクリドン系。

フタロシアニン系、ペリレン系、メチン系等の電荷を発
生することが知られている顔料を使用できる。これらの
顔料は１例えば、特開昭４７−３７５４３号公報、特開
昭４７−３７５４４号公報、特開昭４７−１８５４３号
公報、特開昭４７−１８５４４号公報、特開昭４８−４
３９４２号公報、特開昭４８−７０５３８号公報、特開
昭４９−１２３１号公報、特開昭４９−１０５５３６号
公報２％開昭５０−７５２１４号公報、特開昭５０−９
２７３８号公報等に開示されている。種々の電子写真特
性のバランスの点から、これらの顔料の中で、フタロシ
アニン系の顔料が好ましい。またフタロシアニン系の顔
料の中で特開昭５８−１８２６４０号公報及びヨーロッ
パ特許出願公開第９２，２５５号公報に記載されている
τ、τ′、η及びη′型型金金属フタロシアニン特に好
ましい。

τ、τ；η及びη′　型無金属フタロシアニンは。

長波長にまで高感度を有し、ダイオードレーザを搭載し
たプリンター用の電子写真感光体として有効である。こ
のようなもののほか光照射によシミ荷単体を発生する任
意の有機顔料を使用することが出来る。

電荷発生層中の有機顔料濃度は、低すぎると感度が低下
したシ、残留電位が高くなる傾向があ汎３０−１００重
ｆ％であることが好ましい。

また電荷発生層に、電子写真感光体に通常使用される結
合剤、可塑剤、流動性付与剤、ピンホール抑制剤を必要
に応じて用いることが出来る。結合剤としては、シリコ
ーン樹脂、ポリアミド樹脂。

ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂。

ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂
、ポリブタジェン樹脂、ポリイソプレン樹脂、メラミン
樹脂、エチルセルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂、
ポリクロロプレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリアクリロ
ニトリル樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。また熱及び／
又は光硬化性樹脂も使用できる。いずれにしても電気絶
縁性で通常の状態で皮膜を形成しうる樹脂であればよく
特に制限はない。

可塑剤としてはハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタ
リン、ジブチルフタレートなどが挙げられる。流動性付
与剤としては、モダフロー（モンサンドケミカル社製）
、アクロナール４Ｆ（バスフ社製）等が挙げられ、ピン
ホール抑制剤としては、ベンゾイン、ジメチルフタレー
ト等が挙げられる。これらは、各々、前記有機顔料に対
して５重ｔＳ以下で使用するのが好ましい。

電荷輸送層に用いる電荷輸送性物質としては。

フルオレン、フルオレノン、　　２．７−シニトロー９
−フルオレノン、２Ｉ４，７−）ジニトロ−９−フルオ
レノン、４Ｈ−インデノ（１，２，６）チオフェン−４
−オン、３．７−シニトロージペンゾチオフエンー５−
オキシド、１−ブロモピレン、２−フェニルピレン、カ
ルバゾール、テトラ（メトキシフェニル）エナミン、１
．１−ｋｌ’ス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−４４
ジフェニル−１，３−フ／ジエン、３−フェニルカルバ
ゾール、２−フェニルインドール、２−フェニルナフタ
リン、オキサジアゾール、オキサトリアゾール、１−フ
ェニル−３−（４−ジエチルアミノステリル）−５−（
４−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、２−フェニ
ル−４−（４−ジエチルアミノフェニル）−５−フェニ
ルオキサゾール、トリフェニルアミン。

イミダゾール、クリセン、テトラフェン、アクリデン、
ｙｔ！Ｉ）−Ｎ−ビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ
−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビ
ニルインドロキノキサリン、ポリビニルペンゾテオフエ
ン、ポリビニルアントラセン。

ポリビニルアクリジン、ポリビニルビッグＩ）−４並び
にこれらの誘導体等がある。

電荷輸送層にも電荷発生層と同様な結合剤、可塑剤、流
動性付与剤、ピンホール抑制剤等を必要に応じて用いる
ことができる。この中で結合剤は電荷輸送性物質に対し
、電子写真特性が低下しないように４００重量−以下が
好ましく、低分子電荷輸送性物質に対しては被膜特性の
関係上５０重量％以上が好ましい。その他の添加剤は、
各々。

電荷輸送性物質に対して５重ｔ％以下が好ましい。

（２）本発明の感光層の他の例は、電荷を発生する有機
顔料を含有する層の一層又はこれらの積層体からなる。

また核層は、電荷輸送性物質を含んでいてもよい。

ここで電荷を発生する有機顔料及びこれを含む層に含有
させても″よい結合剤及び可塑剤、流動性付与剤、ピン
ホール抑制剤等の添加剤は、前記（１）項の電荷発生層
に使用できるものと同様のものが使用できる。また、電
荷輸送性物質としては、前記（１）項に記載した電荷輸
送性物質が使用できる。

この例において、感光層は、電荷を発生する有機顔料に
対して、該有機顔料を電荷輸送性物質と共に使用しない
ときは、結合剤を１００〜９００重蓋チ使用するのが好
ましく、ｔ￥ｆに２００〜４００重量％使用するのが好
ましい。このとき結合剤が多すぎると感光体の感度が低
下しゃすくなシ、少なすぎると帯電性が低下しやすくな
る。

また、この例において、感光層中に、電荷を発生する有
機顔料と電荷輸送性物／］ヲ共に含有させる場合、結合
剤の上限の使用量は、電荷輸送性物質に対して４５０重
量−以下が好ましく、特に３００重量−以下が好ましい
。結合剤が多すぎると感光体の感度が低下しやすくなる
。ｉた。結合剤の下限の使用量は、電荷輸送性物質が低
分子化合物のときは、該化合物に対して、８０重量％以
上が好ましく、特に１００重量％以上が好ましい。

このとき、結合剤が少なすぎると感光層が十分に強度を
保持できず、また、帯電性が低下する傾向がある。電荷
輸送性物質が高分子化合物のときも。

帯電性の点から、結合剤を該化合物に対して８０重量％
以上使用するのが好ましく、＊に１００重量％以上使用
するのが好ましい。電荷を発生する有機顔料は、電荷輸
送性物質及び結合剤の総量に対して、０．１〜２０重ｔ
Ｓ重用Ｓ使用が好ましく。

特に０．５〜５重ｆｔ％使用するのが好ましい。これが
少なすぎると感光体の感度が低下しゃすくなシ。

多すぎると帯電性が低下する傾向がある。さらに。

他の添加剤は、感光層中にθ〜５重量−の範囲で使用さ
れるのが好ましい。

これらの各層の膜厚は前記（１）項の感光層の場合。

電荷発生層が０．００１〜１０μｍが好ましく、ｎに０
．２〜５μｍが好ましい。電荷輸送層は、いずれのもの
も５〜５０μｍが好ましく、特に８〜２０μｍが好まし
い。電荷発生層の膜厚が０．００１μｍ未満では感度が
劣る傾向があυ、１０μｍを越えると残留電位が増加す
る傾向がある。また電荷輸送層の膜厚が５μｍ未満では
帯電性が劣る傾向がある。５０μｍを越えると感度が低
下する傾向がある。前記（２）項の感光体の感光層の膜
厚は５〜５０μｍが好ましく、特に８〜２０μｍが好ま
しい。５μｍ未満では帯電性が劣シやすくなシ。

５０μｍを越えると感度が低下する傾向がある。

次に各層の形成法について述べる。

前記（１）項の感光層の場合、電荷発生層を形成する方
法として、有機顔料のみを用いる場合には。

真空蒸着で行うこともできるが、有機顔料、結合剤及び
場合により添加剤をアセトン、メチルエチルケトン、テ
トラヒドロフラン、トルエン、キシレン、塩化メチレン
、トリクロルエタン等の溶剤に均一に溶解又は分散させ
た後、塗布し乾燥して形成することもできる。

電荷輸送層を形成する場合には、いずれのものも電荷輸
送性物質、結合剤及び添加剤等を前記の電荷発生層の場
合と同様な溶剤に均一に溶解した後、塗布し乾燥して形
成することができる。

また、前記（２）項の感光層の場合には、電荷発生材料
並びに場合によυ電荷輸送性物質、結合剤及び添加剤等
を前記の電荷発生層の場合と同様な溶剤に均一に溶解又
は分散させた後、塗布し乾燥して形成することができる
。

本発明の感光体は感光層のすぐ上に保護層を形成しても
よい。

保護層の厚さは０．０１〜１０μｍ、好ましくは０．１
〜５μｍである。０゜０１μｍ未満では保護層としての
効果が少なく、耐久性が劣り、１０μｍを越えると感度
が劣り、残留電位が増大する傾向にある。

本発明になる電子写真感光体を用いて印字を行う揚台に
は、従来と同様に表面に帯電、露光を施した後、現像を
行い、普通紙上に画像を転写し。

定着すればよい。

（実施例） 次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが。

本発明はこれに限定されるものではない。

以下の例中に用いる各材料を次に列記する。括孤内には
略号を示す。

（１）電荷を発生する有機顔料 τｍ無金ｓフタロシアニン（τ−Ｈｚ　Ｐ　Ｃ）〔東洋
インキ■製〕 （２）電荷輸送性物質 ・ヒドラゾン誘導体：下記構造を有するｐ−ジメチルア
ミノ−（０−エトキシ）ベンズアルデヒドジフェニルヒ
ドラゾン（ＨＹＺ）・ブタジェン誘導体：下記構造を有
する１、１−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニルンー４
．４−ジフェニル−１，３−ブタジェン（ＰＢＤ） （３）　　結合剤 囚　下引き要用結合剤 １）　ポリアミド樹脂：０Ｍ８０００（０Ｍ８０００）
（固型分ｉｏｏチ）アミド基濃度ニア、７２Ｘ１０−３
当量／ｇ〔東し■製〕 ＩＩ）　　ポリアミド樹脂：Ｍ９９５　　（Ｍ９９５）
（固型分１００％）７ミド基濃＆ニ ア、２０　Ｘ　１０−３当！／９Ｃ日本リルサン■製〕 １１１）　　ポリアミド樹脂：ＭＸ１８０９（ＭＸ１８
０９ン（固型分１００チ）アミド 基濃度：０当量／９（日本リルサン■ 製〕 ＋Ｖ）　　ポリアミド樹脂：Ｍ１２７６　（Ｍ１２７６
）（固型分１００％）アミド基濃度： ６．８５　Ｘ　１０−’当量／　９　（日本リルサン■
製〕 Ｖ）ポリアミド樹脂ニドレジンＥＦ３０Ｔ（ＥＦ３０Ｔ
）（固型分１００％）ア ミド基濃度：Ｌ５９Ｘ１０−３当量／ｇ〔帝国化学産業
■製〕 ｖＤ　　メラミン樹脂：メラン２０００（Ｍ２０００）
（固型分５０チ）〔日立化 成工業■製〕 Ｖ＋Ｏフェノール樹脂：ヒタノール２４２０（ＰＲ２４
２０）（固型分１００チ） 〔日立化成工業■製〕 （Ｂ）　　電荷発生層用 １）　シリコーンワニス：　ＫＲ２１４（ＫＲ。

２１４）（固形分７０チ）〔信越化学 工業Ｇｌ！１製〕 （Ｃ）　　電荷輸送層用 １）ポリカーボネート樹脂ニューピロンＳ−３０００（
ＵＰ３０００）（固型分 １００チ）〔三菱ガス化学■製〕 比較例Ｉ ０Ｍ８０００　　ｓｇをメタノールと塩化メチレンの１
対１混合溶媒９５９に完全に溶解させた。

この溶液をアルミニウム板（導電性基体厚さ０．１−）
の上にアプリケータで塗工し、１００℃で１０分間乾燥
して膜厚０．５μｍの下引き層を得た。

この下引き層の表面を走査型電子顕微鏡で５０、０００
倍で観察した（測定機：商品名Ｓ−８００日立製作所製
）。表面にフィブリル状で結晶状の凹凸が観察された。

このときの電子顕微鏡写真を第１図として示した。また
この下引層の導電率を測定した（測定機：商品名ＹＨＰ
４３２９Ａ　　ＨＩＧＨＲＥＳＩＳＴＡＮＣＥＭＥＴＥ
几　横河ヒユーレット・パラカード社製）。体積抵抗率
は５．４×１０１１０（１）と測定され、これから導電
率は１．８５Ｘ　１０””　ｆｆ１・ｃｍ−”であった
。

次Ｋｆ−ＨｈＰＣ２，５９，ＫＲ２１４２，５Ｇ及びＴ
ＨＦ９５９の混合液をボールミル（日本化学陶業製３寸
ポットミル）を用いて８時間混練した。

この分散液をアプリケータによシ前記下引き層の上に塗
工し、１００℃で３０分間乾燥して膜厚０．５μｍの電
荷発生層を形成した。

次にＨＹＺ５Ｇ及びＵＰ３０００　　ｓｇを塩化メチレ
ンと１．１．２−　）リクロルエタンの１対１の混合溶
媒９０９に完全に溶解させた。この溶液をアプリケータ
により前記の下引き層を有する電荷発生層の上に塗工し
、１２０℃で２０分間乾燥して膜厚１８μｍの電荷輸送
層を形成し電子写真感光体を形成した。

比較例２　　　゛ Ｍ９９５　　ｓｇをメタノールと塩化メチレンの１対１
混合溶媒９５９に完全に溶解させた。この溶液をアルミ
ニウム板（導電性基体厚さ０．１　ｍｍ　）の上にアプ
リケータで塗工し、９０℃で１０分間乾燥し０．２μｍ
の下引き層を得た。この下引き層の表面を走査型電子顕
微鏡でｓ　ｏ、　ｏ　ｏ　ｏ倍で観察した。表面にフィ
ブリル状で結晶状の凹凸が観察された。またこの下引き
層の体積抵抗率を測定した。体積抵抗率は３．６　Ｘ　
１０−１３Ω口と測定され。

これから導電率は２．７８　Ｘ　１０−１４Ω−”ｃｍ
−’と求められた。なお、これらの測定には比較例１に
示し九機器を用いた。

次に比較例１に示した物質及び操作で前記下引き層の上
に塗工し膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。

次にＰＢＤ　５９及びＵＰ３０００　５９を塩化メチレ
ン（！：　１．１．２−トリクロルエタンの１対１の混
合溶媒９０９に完全に溶解させた。この溶液をアプリケ
ータにより前記の下引き層を有する電荷発生層の上に塗
工し、１２０℃で２０分間乾燥して膜厚１６μｍの電荷
輸送層を形成し電子写真感光体を形成した。

比較例３ ＭＸ１８０９　８Ｂをメタノールと塩化メチレンの１対
１混合溶媒９２９に完全に溶解させた。

この溶液をアルミニウム板（導電性基体厚さ０．１閣）
の上にアプリケータで塗工し、１００℃で１０分間乾燥
して膜厚０．６μｍの下引き層を得た。この下引き層の
表面を走査型電子顕微鏡で５０．０００倍で観察した。

表面にフィブリル状で結晶状の凹凸は観察されなかった
。またこの下引き層の体積抵抗率を測定しな。体積抵抗
率は１．８Ｘ　１５”　Ｑ　ａｍと測定され、これから
導電率は５．５６Ｘ１０−１５Ω−１・Ｃｆ１ｌ−”と
求められた。なおこれらの測定には、比較例１に示した
機器を用いた。

次に比較例１に示した物質及び操作で前記下引き層の上
に塗工し膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。

次に比較例１に示した物質及び操作で前記下引き層を有
する電荷発生層の上に塗工し腹膜１６μｍの電荷輸送層
を形成し電子写真感光体を形成した。

比較例４ Ｍ９９５　　　Ｚ５９．Ｍ２Ｏ００ｚｓｇ、　　）　　
リメリット酸０．２０９をメタノールと塩化メチレン１
対１の混合溶媒９５９に完全に溶解させた。この溶液を
アルミニウム板（導電性基体厚さ０．１　ｍｍ）の上に
アプリケータで塗工し、１１０℃で１０分間乾燥して膜
厚０．２μｍの下引き層を得た。この下引き層の表面を
走ｆ、ｉＪＩ！電子顕微鏡で５０，０００倍で観察した
。表面にフィブリル状で結晶状の凹凸が観察された。ま
たこの下引き層の体積抵抗率を測定した。体積抵抗率は
Ｚ３Ｘ１０１３と測定され、これから導電率は４．３５
　Ｘ　１０”Ω−”ａｎ−”と求められた。これらの測
定には比較例１に示した機器を用いた。

次に比較例１に示した物質及び操作で前記下引き層の上
に塗工し膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。

次に比較例２に示した物質及び操作で前記下引き層を有
する電荷発生層の上に塗工し膜厚１６μｍの電荷輸送層
を形成し電子写真感光体を形成した。

実施例Ｉ Ｍ１２７６　　ｓｇｔメタノールと塩化メチレン１対１
の混合溶媒９５９に完全に溶解させた。この溶液をアル
ミニウム板（導電性基体厚さ０．１　ａｍ＋）の上にア
プリケータで塗工し、１００℃で１０分間乾燥して膜厚
０．３μｍの下引き層を得た。この下引き層の表面を送
査型電子顕微鏡でｓ　ｏ、　ｏ　ｏ　。

倍で観察した。表面にフィブリル状で結晶状の凹凸は観
察されなかった。またこの下引き層の体積抵抗率を測定
した。体積抵抗率は９．３Ｘ１０１２Ω口と測定され、
これから導電率は１．０８Ｘ１０”Ω−１・ＣＩＮ”と
求められた。これらの測定には比較例１に示した機器を
用いた。

次に比較例１に示した物質及び操作で前記下引き層の上
に塗工し膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。

次に比較例１に示した物質及び操作で前記下引き層を有
する電荷発生層の上に塗工し膜厚１８μｍの電荷輸送層
を形成し電子写真感光体を形成した。

実施例２ Ｍ１２７６　１．５ｇ、Ｍ２Ｏ００３，５ｇ、　）リメ
リット酸０．３５９をメタノールと塩化メチレン１対１
の混合溶媒９５９に完全に溶解させた。

この溶液をアルミニウム板（導電性基体厚さ１ａＩＩ１
１）の上にアプリケータで塗工し、１１０℃で１０分間
乾燥して膜厚０．５μｍの下引き層を得た。この下引き
層の表面を走査型電子顕微鏡でｓｏ、ｏｏ。

倍で観察した。表面にフィブリル状で結晶状の凹凸は観
察されなかった。またこの下引き層の体積抵抗率を測定
した。体積抵抗率は３．８Ｘ１０１２Ω国と測定され、
これから導電率はＺ　６３　Ｘ　１０”Ω−１・ｃｍ−
”と求められた。これらの測定には比較例１に示した機
器を用いた。

次に比較例１に示した物質及び操作で前記下引き層の上
に塗工し膜厚０．４μｍの電荷発生層を形成した。

次に比較例２に示した物質及び操作で前記下引き層を有
する電荷発生層の上に塗工し膜厚１６μｍの電荷輸送層
を形成し電子写真感光体を形成した。

実施例３ Ｍ１２７６　１．５Ｇ、ＰＲ，２４２０３，５Ｇ。

トリメリット酸ｏ、ａｓｇをメタノールと塩化メチレン
１対１の混合溶媒９５９に完全に溶解させた。

この溶液をアルミニウム板（導電性基体厚さ０．１１１
１ｍ）の上にアプリケータで塗工し、１２０℃で１０分
間乾燥して膜４０．３μｍの下引き層を得た。

この下引き層の表面を走査型電子顕微鏡でｓ　ｏ、　ｏ
　ｏ　ｏ倍で観察した。表面にフィブリル状で結晶状の
凹凸は観察されなかつ九。またこの下引き層の体積抵抗
率を測定した。体積抵抗率は４．６Ｘ　１０１３と測定
され、これから導電率は２１７×１０−１４０−１・ｃ
ｍ−’と求められた。これらの測定には比較例１に示し
た機器を用いた。

次に比較例１に示した物質及び操作で前記下引き層の上
に塗工し膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。

次に比較例２に示した物質及び操作で前記下引き層を有
する電荷発生層の上に塗工し膜厚１５μｍの電荷輸送層
を形成し電子写真感光体を形成した。

実施例４ ＥＦ−３０Ｔ　　５Ｇをメタノールと塩化メチレン１対
１の混合溶媒９５９に完全に溶解させた。

この溶液をアルミニウム板（導電層基体厚さ０．１ｍ）
の上にアプリケータで塗工し、１００℃で１０分間乾燥
して膜厚０．４μｍの下引き層を得た。

この下引き層の表面を走査型電子顕微鏡で５０．０００
倍で観察した。表面にフィブル状で結晶状の凹凸は観察
されなかった。

またこの下引き層の体積抵抗率を測定した。体積抵抗率
はＬ９３Ｘ１０”０国と測定され、これから導電率は５
．１６　Ｘ　１０”Ω−１”　ａｍ−’と求められた。

次に比較例１に示した物質及び操作で前記下引き層の上
に塗工し膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。

次に比較例１に示した物質及び操作で前記下引き層を有
する電荷発生層の上に塗工し膜厚１８μｍの電荷発生層
を形成し電子写真感光体を形成した。

実施例５ Ｍ２Ｏ００５９，ピロメリット酸１ｇをメタノールと塩
化メチレン１対１の混合溶媒９４９に完全に溶解させた
。この溶液をアルミニウム板（導電性基体厚さ０．１　
ｏｎ　）の上にアプリケータで塗工し、１２０℃で１０
分間乾燥して膜厚０．５μｍの下引き層を得た。この下
引き層の表面を走査型電子顕微鏡で５０．０００倍で観
察した。表面にフィブリル状で結晶状の凹凸は観察され
なかった。

またこの下引き層の体積抵抗率を測定した。体積抵抗率
はａ６Ｘ１０Ｌ２と測定され、これから導電率は１．１
６　Ｘ　１０−１３Ω−ドロー１と求められた。これら
の測定には比較例１に示した機器を用いた。

次に比較例１に示した物質及び操作で前記下引き層の上
に塗工し膜厚０．６μｍの電荷発生層を形成した。

次に比較例１に示した物質及び操作で前記下引き層を有
する電荷発生層の上に塗工し膜厚１８μｍの電荷輸送層
を形成し電子写真感光体を形成し念。

前記比較例及び実施例で得られた電子写真感光体の電子
写真特性（２３℃）を静電記録試験装置（川口電機製５
Ｐ−４２８）を用いて測定した。

結果をｆｉｌに示した。

なお１表中の電位ＶＯ（−ｖ　）は、ダイナミック測定
で−５ｋｖのコロナを１０秒間放電したときの帯電電位
を示し、暗減衰（Ｖに）はその後暗所において３０秒間
放置し次ときの電位（Ｖｗ　）からの電位保持率Ｃ（Ｖ
ｓｏ／Ｖｏ　）　Ｘｉ　ＯＯ’Ａ　］を示し、半減露光
量（ＥＩＩＯ）は１０Ｉ！ｕｘ　　の白色光で照射し、
電位が半分になるまでの光量値を示す。

残留電位ＶＢは１０ｊ’ｕｘの白色光を３０秒間照射し
た後の電画電位を示す。

更に比較例１〜４及び実施例１〜４の電子写真感光体を
画像評価機（反転現像）を用いて画質の評価を行った。

評価は次の３つの方法で行った。

■２３℃で相対湿度６０％の環境下（２３℃６０％ＲＨ
）に電子写真感光体を２時間放置し九後。

同じ環境下で画質の評価を行う、■３５℃で相対湿度６
０１％の環境下（３５℃６０１几Ｈ）に電子写真感光体
を２時間放置し九後、同じ環境下で画質の評価を行う及
び０４０℃で相対湿度ＳＯＳの環境下（４０℃８０％Ｒ
Ｈ）に電子写真感光体を７２時間放置した後、２３℃で
相対湿度６０チの環境下に放置し２次いで同じ環境下で
画質の評価を行う。評価結果を表１に示した。

以下余白 比較例１，２及び４の電子写真感光体は下引層の平滑性
が悪い（フィブリル状で結晶状の凹凸が観察される）。

これらは電子写真特性（２３℃）は良好で、！、た前記
■の方法による評価では画質も良好であるが、■及び■
の方法による評価では白地部の全面に黒ポチが発生し画
質が低下するという問題がある。一方、導電率が５．５
６　Ｘ　１０−’Ω′″ドロー１の下引層を設けた比較
例３は、下引層の平滑性は良好であり、■、■及び■の
方法の評価において白地部全面の黒ポチの発生＃−１，
認められなかったが、電子写真特性（２３℃）の低下、
すなわちＥ、ｏ及びＶＲの増大が著しく画像の濃度が低
下した。

しかるに、実施例１〜５に示すように下引層の表面が平
滑であ）、導電率が２　Ｘ　１０−’Ω−１・０１１−
’である下引層を設けた電子写真感光体は、電子写真特
性（２３°Ｃ）、■、■及び■の方法で評価した画質も
優れたものである。

（発明の効果） 本発明の電子写真感光体は電子写Ｘ特性が優れ。

また環境変化に対して印字品質の変化の少ない安定なも
のである。

【図面の簡単な説明】

第１図は比較例１の下引層の走査型電子顕微鏡写真であ
り、第２図は実施例１の下引層の走査型電子顕微鏡写真
である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、導電性基体上に、熱可塑性樹脂を含有する下引層及
   び感光層を有する電子写真感光体において、前記下引き
   層が、走査型電子顕微鏡で観察した場合、表面が平滑で
   あり、導電率が少なくとも２×１０＾−＾１＾４Ω＾−
   ＾１・ｃｍ＾−＾１である電子写真感光体。