JPH01115621A - 可撓性レーザーディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の技術分野） この発明は可撓性レーザーディスクの製造方法に関し、
さらに詳しくは複製工程を著しく簡素化できると共に、
大量生産が可能な可撓性レーザーディスクの製造方法に
関する。

（技術的背景と解決すべき問題点） レーザーディスク（光ディスク）は、コンピュータの飛
躍的な発展に支えられた情報化社会における大容量メモ
リの需要、ポストカラーテレビの目玉商品としてのビデ
オディスクへの熱い眼差し、レーザー技術の進歩、これ
らに支えられて来た。レーザーディスクの記憶容量、記
憶密度は磁気メモリに比べて圧倒的な大きさであり、光
を用いる目的はここにある。しかし、光メモリは現状で
はＲＯＭ型の専用メモリにならざるを得す、この点で記
録、再生が繰返し可能な磁気メそりとは相補的な関係に
あり１．それぞれに適した応用分野がある。

光学式の利点は次の通りである。

■記録密度が高く搬送周波数を上げ得、ＶＴＲのトラッ
ク幅５８μに対し、レーザーディスクでは２μ以下であ
る。

■非接触の再生方式であり、傷やほこりによるドロップ
アウトノイズに強い。接触型再生方式では小さなほこり
でもそれを再生針が引きするため、はこりの見掛は上の
大きさが非常に大きくなる。

■操作性及び保守性が秀れている。接触型ではほこりの
出ない特殊エンベロープが不可欠であるほか、取扱い時
にも手指等の油脂からの保護など細心の注意が必要とな
る。

■ディスクやピックアップの消耗がなく、長寿命である
。

■再生モードが多様である。

上述のように、レーザーディスクに最も期待されている
特長の一つは安価な大容量メモリということであり、こ
れはレーザーディスクの製造の容易さによって期待され
ているものである。再生専用型のレーザーディスクもま
たプリフォーマット、プリグループを持つ記録可能型レ
ーザーディスクも１枚の原盤金型を作って、これからの
大量レプリカを作ることにより、大容量のレーザーディ
スクの生産が容易にできる。

しかしながら、従来のレーザーディスクは、剛性を持っ
た形体となっているため、ＰＭＭ八（ポリメチルメタク
リレート）やＰＣ（ポリカーボネート）を原料として、
噴出成形方法により１枚ずつ作製するのが一般的である
。このため、レーザーディスクの複製も工程として複雑
であり、レーザーディスクを木や物品等に貼付あるいは
収納して手軽に運搬、販売することは不可能であった。

このことから、運搬や販売等に便利なソノシート型の可
撓性レーザーディスクの開発と共に、その製造方法の出
現が望まれていた。

（発明の目的） この発明は上記従来技術に伴なう欠点を解決しようとす
るものであり、レーザーディスク原版とレーザーディス
ク形成用フィルムとに加熱冷却を繰り返す必要がなく、
レーザーディスク原版を劣化させることがないと共に、
ピット形成前に反射膜層を予め層設して工程を簡略化し
、運搬等に便利な可撓性レーザーディスクを大量に複製
するに最適なレーザーディスクの製造方法を提供するこ
とを目的としている。

（問題点を解決するための手段） この発明は可撓性レーザーディスクの製造方法に関し、
この発明の上記目的は基材フィルム上に熱成形性を有す
る樹脂層が層設され、前記樹脂層上に金属反射層が平滑
に層設されているレーザーディスク形成用フィルムの前
記金属反射層に対し、情報が表面の凹凸で記録されてい
るレーザーディスク原版を当接するようにし加熱条件下
で圧接して前記金属反射層に前記凹凸を記録することに
よって達成される。

（発明の作用） この発明の可撓性レーザーディスクの製造方法は、基板
フィルム上に紫外線硬化樹脂又は電子線硬化樹脂を塗布
し、その表面に金属の反射膜層を形成した可撓性レーザ
ーディスク形成用フィルムにレーザーディスク原版を当
接させ、加熱圧接して前記反射膜層にレーザーディスク
原版の凹凸の情報を記録した後、上記紫外線硬化樹脂又
は電子線硬化樹脂に紫外線又は電子線を照射して樹脂硬
化を行って製品としているため複製工程が簡素化され、
大量生産が可能になっている。

（発明の実施例） 第１図は、この発明に使用する可撓性のレーザーディス
ク形成用フィルムの断面を示す図である。厚さが１０［
１μ程度の可撓性のレーザーディスク形成用フィルム１
は、基材フィルム２上に熱成形性を有する紫外線硬化樹
脂または電子線硬化樹脂３が層設されて構成されている
。基材フィルム２としては、フィルム状のあらゆる材料
が用いられ得る。具体的には、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリビニ
ルブチラール、ポリカーボネートなどの重合体フィルム
、紙、合成紙、鉄などの金属フィルムなどが用いられ得
る。さらに、これらの積層体も用いられ得る。

この発明に用いる熱成形性を有する紫外線硬化樹脂また
は電子線硬化樹脂３は、常温では固体状であって、基材
フィルム２上に設けられた場合゛に、表面がベタつくこ
となく巻取り可能である。

したがフて、基材フィルム２上に前記樹脂を設けて成る
レーザーディスク形成用フィルム１は巻取って保存する
ことができるため、レーザーディスク原版と接触する直
前に、基材フィルム２上にいちいち前記樹脂層を設ける
必要はない。

この発明の可撓性レーザーディスクの記録層に使用可能
な材料としては、ラジカル重合性不飽和基を有する熱成
形性物体であり、次の２種類のものがある。

＋１）ガラス転移温度が０〜２５０℃のポリマー中にラ
ジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具体的には
、ポリマーとしては以下の化合物■〜■を重合もしくは
共重合させたものに対し、後述する方法（イ）〜（ニ）
によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用いる
ことができる。

■水酸基を有する単量体ニドメチロールアクリルアミド
、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリ
レート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−
ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチル
メタクリレート、２−ヒドロキシン、３−フェノキシプ
ロビルメタクリレート、２−ヒドロキシン、３−フェノ
キシプロピルアクリレートなど。

■カルボキシル基を有する単量体ニアクリル酸、メタク
リル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネートな
ど。

■エポキシ基を有する単量体ニゲリシジルメタクリレー
トなど。

■アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニルエ
チルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸ア
リルなと。

■アミノ基を有する単量体ニアクリルアミド、メタクリ
ルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタク
リレートなど。

■スルフォン基を有する単量体：２−アクリルアミド−
２−メチルプロパンスフオン酸など。

■イソシアネート基を有する単量体：２．４−トルエン
ジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレート
の１モル対１モル付加物などのジイソシアネートと活性
水素を有するラジアル重合性単量体の付加物など。

■さらに、上記共重合体のガラス転移点を調節したり、
硬化膜の物性を調整したりするために、上記化合物と、
この化合物と共重合可能な以下のような単量体と共重合
させることもできる。このような共重合可能な単量体と
しては、たとえばメチルメタクリレート、メチルアクリ
レート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルアクリルリレート、プロピルメタクリレート、
ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチ
ルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチ
ルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロへ
キシルアクリレート、シクロへキシルメタクリレート、
２−エチルへキシルアクリレート、２−エチルへキシル
メタクリレートなどが挙げられる。

次に、上述のようにして得られた重合体を以下に述べる
方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジカル重合性不
飽和基を導入することによって、この発明に係る材料を
得ることができる。

（イ）水酸基を有する単量体の重合体、または共重合体
の場合にはアクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシ
ル基を有する単量体などを縮合反応させる。

（ロ）カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の
重合体、または共重合体の場合には前述の水酸基を有す
る単量体を縮合反応させる。

（八）エポキシ基、イソシアネート基、あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル
基を有する単量体を付加反応させる。

（ニ）水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体、あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル単量体の１対１モルの付加物を付加反応させる。

上記反応を行なうには、微量のハイドロキノンなどの重
合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行なうことが好
ましい。

（２）融点が０〜２５０℃であり、ラジカル重合性不飽
和基を有する化合物。具体的にはステアリルアクリレー
ト、ステアリルアクリレート、トリアクリルイソシアヌ
レート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、シク
ロヘキサンジオールジメタクリレート、スピログリコー
ルジアクリレート、スピログリコールジメタクリレート
などが挙げられる。

このようなラジカル重合性不飽和単量体は、電離放射線
照射の際、架橋密度を向上させ耐熱性を向上させるもの
であって、前述の単量体の他にエチレングリコールジア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポ
リエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレング
リコールジメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリ
レート、ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、トリメチロールプロパンジア
クリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート
、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタ
クリレート、ジペンタエリスリトールへキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールへキサメタクリレート、エ
チレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート
、エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリ
レート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル
ジアクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジル
エーテルジアクリレ−ト、プロピレングリコールジグリ
シジルエーテルジアクリレート、プロピレングリコール
ジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポ
リプロピレングリコールジグリシジルエーテルジメタク
リレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテルテト
ラアクリレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテ
ルテトラメタクリレートなどを用いることができ、前記
した共重合体混合物の固型分１００重量部に対して、０
．１〜１００重量部で用いることが好ま、しい。

また、上記のものは電子線により十分に硬化可能である
が、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤としてベ
ンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテルな
どのベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン
類、ビアチル類などの紫外線照射によりラジカルを発生
するものも用いることができる。

更に、紫外線硬化樹脂又は電子線硬化樹脂３で成る樹脂
層の上には蒸着スパッタリング、イオンブレーティング
、メツキ等によって厚さが約５００〜１０００人のアル
ミニウム等の反射膜層７が形成されている。

次に、可撓性のレーザーディスク形成用フィルム】の具
体的な製造例について説明する。

まず、基材フィルム２として厚さ１００μｍのポリエチ
レンテレフタレートフィルム（東し製ルミラー）を用意
し、この表面に、下記の製法により得られる紫外線硬化
樹脂３を塗布する。

表　　　１ 表１の組成物を６時間還流させて共重合を行ない、次い
で０．１重量部のパラメトキシフェノールを加え反応を
停止させる。得られた反応物に１００重量部の２−ヒド
ロキシエチルアクリレートと、２．４−トルエンジイソ
シアネートの１モル対１モル付加物を加え、更にシブチ
ルチンシラウリレートを５重量部加え乾燥空気を送りな
がら８０℃で５時間反応させた。反応液を室温まで冷却
した。。

後、１５重量部の紫外線増感材（チバガイキー社製イル
ガキュア１８４）を加え、均一に溶解させて（情報ビッ
ト形成層）用の樹脂液を得た。次に、この樹脂液を上記
基材フィルム２に固型分が３ｇ／ｍ２になるように塗布
し、溶剤を乾燥させた。

そして、反射膜層７としてアルミニウムを真空蒸着法に
よって８００人の厚さに積層させ、レーザーディスク形
成用フィルム１を完成させた。

次に、このレーザーディスク形成用フィルム１を使用し
た可撓性レーザーディスクの製法について説明する。

この発明ではレーザーディスク形成用フィルム１にレー
ザーディスク原版を作用させて可撓性レーザーディスク
を製造している。

第２図は可撓性レーザーディスクの製造方法の概略を示
しており、レーザーディスク原版４はその表面に、音声
や画像等の電気信号に対応した凹凸が記録情報として形
成されている。このレーザーディスク原版４は従来既知
の方法によって作成することができ、また、レーザーデ
ィスク原版４に形成される記録層は材料表面の凹凸によ
り情報を記録できるタイプのものである。

上記のようなレーザーディスク形成用フィルム１とレー
ザーディスク原版４とを、加熱ローラなどの加熱圧接手
段である加熱圧接ローラ５ａを介して、フィルム１の反
射膜層７がレーザーディスク原版４に接するようにして
加熱圧接し、レーザーディスク形成用フィルム１の反射
膜層７の表面にレーザーディスク原版４の凹凸模様を複
製する。

この際、加熱ローラの温度は、反射膜層７上方に用いら
れている紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂３の種類
によって大きく変化するが、５０〜３００℃望ましくは
１００〜２００℃であることが好ましい。さらに、レー
ザーディスク形成用フィルム１とレーザーディスク原版
４とは、０．１Ｋｇ　７ｃｍ以上、望ましくはＩＫｇ／
ｃｍ以上の圧力下に圧接されることが好ましい。

このようにして、レーザーディスク形成用フィルム１の
反射膜層７の表面に、音声や画像等の電気信号に対応し
た凹凸の模様を形成し、レーザーディスク原版４との圧
接状態で紫外線硬化樹脂ならば紫外線を、また電子線硬
化樹脂ならば電子線を、それぞれレーザーディスク形成
用フィルム１上に照射して前記樹脂３を硬化させる。紫
外線又は電子線のレーザーディスク形成用フィルム１上
への照射は、照射光源６により行なえば良い。この際、
紫外線または電子線の照射は、レーザーディスク原版４
の凹凸を形成したフィルムを版により剥離した後に再度
照射してもよく、樹脂を十分に硬化させることが好まし
い。紫外線または電子線の照射量は使用する樹脂により
適宜法めることが必要である。

１に のようにして、レーザーディスク形成用フィルム１の紫
外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂の表面に凹凸を形成
した状態で、紫外線又は電子線を照射して前記樹脂を硬
化させることによフて、直ちにレーザーディスク原版と
レーザーディスク形成用フィルムとの間にかけていた圧
力を解除して冷却することが可能となる。なぜならば前
記樹脂は紫外線または電子線の照射によって直ちに硬化
し、レーザーディスク原版４とレーザーディスク形成用
フィルム１との間にかけていた圧力を解除しても、形成
された凹凸は消滅しないためである。また、紫外線ある
いは電子線の照射により樹脂が三次元架橋硬化するため
、耐熱耐溶剤性が付与される。なお、レーザーディスク
原版４及びレーザーディスク形成用フィルム１を、紫外
線又は電子線の照射前あるいは照射後に強制的に冷却し
てもよいが、゛通常は自然に冷却すれば充分である。

次に、表面に凹凸模様が形成されたレーザーディスク形
成用フィルム１の凹凸模様面に更に第３図に示すように
透明樹脂の保護層８をコーティングで層設しても良い。

このようにして反射膜層７に凹凸模様が形成され、必要
に応じて更に保護層８が層設されたレーザーディスク形
成用フィルム１を通常の打抜方法で所定の形状、サイズ
に打抜き、第４図に示すような可撓性レーザーディスク
１００が得られる。具体的な製造例では、樹脂に紫外線
硬化樹脂を使用し１６０℃、３０にｇ／ｃｍの条件で加
熱圧接ローラ５ａを通しレーザーディスク原版にレーザ
ーディスク形成用フィルム１を密着させ、照射光源（８
０Ｗ／ｃｍ水銀灯）６を使用して１０ｍ／ｍｉｎの速度
で紫外線を照射して樹脂を硬化させ、耐熱性耐溶剤性に
優れた可撓性レーザーディスク１００が得られた。

第５図は、この発明の一実施例を示す可撓性レーザーデ
ィスクの製造装置の概略正面断面図であり、第６図はそ
の側面図である。可撓性レーザーディスク製造装置１０
には、ベツド１３に固定された一対の本体フレーム】２
に給紙装置２０、転写装置３０、照射装置５０、巻取装
置６０が順次配設されている。

給紙装置２０は、本体フレーム１２に固定されたコロ２
３に回転自在に支持されたシャフト２２と、支持部材２
５により本体フレーム１２に固定されたパウダーブレー
キ２４とで成り、シャフト２２にはレーザーディスク形
成用フィルム１の巻取ロール２１が装着され、その先端
はパウダーブレーキ２４に連結されている。

転写装置３０は、本体フレームエ２の中央部に固定され
た軸受３３に軸３２が回転自在に支持されたエンホスロ
ーラ３１と、一対のアーム４２に回転自在に支持された
押付はローラ４０と、加圧機構３８とで成る。加圧機構
３８は一対のアーム４２及びエアシリンダ４５て成り、
エアシリンダ４５のビストロンロッド４６の先端にはア
タッチメント４７が装着され、アタッチメント４７はア
ーム４２の中央下部にピン４８を介して回転自在に支持
され、エアシリンダ４５は本体フレーム１２に固定され
たピン４９に回転自在に支持されている。一対のアーム
４２はロット４４で固定連結され、本体フレーム１２に
固定されたピン４３に回転自在に支持されている。従っ
て、エアシリンダ４５のピストンロッド４６の作動によ
りアーム４２がピン４３を支点として回転し、押付はロ
ーラ４０がエンボスローラ３１に押付けられる。なお、
加圧機構３８は上記機構に限定するものではなく、油圧
シリンダー、電動モータ、メカプレス等により、押付は
ローラ４０をエンボスローラ３１に押付ける機構のもの
であってもよい。押付はローラ４０には加熱装置（図示
せず）が装備され、押付はローラ４０の表面を加熱する
ようになっている。この加熱装置としては、押付はロー
ラ４０の内部に設けられた電熱ヒータ、或いは押付はロ
ーラ４０の内部に蒸気を供給する装置、或いは押付はロ
ーラ４０の外部に設けられた遠赤外線ヒータ等を適宜選
択できる。また、上記加熱装置は押付はローラ４０を加
熱するものであるが、エンボスローラ３１を加熱する装
置であってもよく、この場合には上記押付はローラ４０
の加熱装置と同じものを使用すればよい。エンボスロー
ラ３１は、第７図に示すようにその周表面にレーザーデ
ィスク原版４が設けられたもので、レーザーディスク原
版としては樹脂版又は金属板が使用可能であり、樹脂版
をレーザーディスク原版としてシリンダの周表面に貼り
つけたもの、またはシリンダの周表面に直にあるいはメ
ツキを施した後、腐食、彫刻等によりレーザーディスク
原版を形成したものが使用される。エンボスローラ３１
の軸３２の駆動側先端に装着され、本体フレーム１２上
部に設けられた架台１８に固定された駆動モータ１４の
駆動軸先端に装着されたプーリー１７とはベルト３５で
連結されている。また、エンボスローラ３１には、軸３
２にロータリージヨイント、ホース、。

冷却水供給装置等が接続された冷却装置（図示せず）が
装備され、ローラ表面を冷却するようになっている。な
お、エンボスローラ３１に加熱装置を設けた場合は、上
記冷却装置は必要ない。

照射装置５０は、距離を隔てて本体フレーム１２に固定
の軸受５３に回転自在に支持された巻付はローラ５１と
対向する位置に、支持部材（図示せず）を介して本体フ
レーム１２に固定され、巻付はローラ５１に巻付けられ
たレーザーディスク形成用フィルム１に紫外線または電
子線を照射するようになっている。また、照射装置５０
の巻付位置は上記位置に限定されるものてはなく、エン
ボスローラ３１の近傍に設けて、レーザーディスク形成
用フィルム１がエンボスローラ３１に巻付けられている
状態て、或いはエンボスローラ３１から剥離された直後
にレーザーディスク形成用フィルム１に紫外線または電
子線を照射してもよい。なお、巻付はローラ５１の軸５
２にロータリジヨイント、ホース、ン令却水供給装置等
が接続された冷却装置（図示せず）を設けて、その表面
を冷やした方がよい。

巻取装置６０は、本体フレーム１２に固定されたコロ６
３に回転自在に支持されたシャフト６２と、支持部材６
５により本体フレーム１２に固定されたパウダークラッ
チ６４とで成り、パウダークラッチ６４の入力端にはプ
ーリー６７が装着された軸６６が連結され、出力側には
シャフト６２が連結されている。

シャフト６２にレーザーディスク形成用フィルム１が巻
取られるようになっている。

また、エンボスローラ３１と給紙装置２０との間には、
本体フレーム１２に回転自在に支持されたガイトローラ
７１．７２が設けられ、エンボスローラ３１と巻付はロ
ーラ５１との間のエンホスローラ３１の近傍には、カイ
トローラ７３が設けられている。ガイドローラ７３はレ
ーザーディスク形成用フィルム１のエンボスローラ３１
への巻付は角を決定するものであり、第５図の位置に限
定するものではなく、加熱温度、エンボスローラ３１の
回転等の諸条件に応して適宜配設されるものである。な
お、エンボスローラ３１と給紙装置２０との間に予熱装
置ｉ図示せず）を設けて、レーザーディスク形成用フィ
ルム１を予め加熱し、押付はローラ４ｏとエンボスロー
ラ３１との間て行われる樹脂層３の軟化を促進させても
よい。

次に、上述の可撓性レーザーディスクの製造装置１０の
動作を説明する。

まず、給紙装置２０より繰り出されたレーザーディスク
形成用フィルム１は、ガイドローラ７１゜７２を介して
エンボスローラ３１に案内される。このとき、パウダー
ブレーキ２４によりレーザーディスり形成用フィルム１
は適性なテンションに調整されている。次いで、エアシ
リンダ４５の作動により、押付はローラ４０によってフ
ィルム１がエンホスローラ３１に一定圧で押付けられる
。押付はローラ４０の表面は加熱されているために反射
膜層７上部の反射膜７が軟化し、第７図に示すようにレ
ーザーディスク原版４の凹凸が反射膜層７に転写され、
樹脂層３がレーザーディスク原版４に密着した状態でエ
ンボスローラ３１が駆動モータ１４により回転され、ガ
イドローラ７３の近傍にてレーザーディスク原版４より
凹凸の形成された反射膜層７が剥離される。このとき、
エンボスローラ３１の表面は冷却されているため軟化状
態にある反射膜層７上部の樹脂層３はある程度固まり、
レーザーディスク原版４より剥離されても転写時の凹凸
状態をくずすことなく、次の巻付はローラ５１に案内さ
れる。巻付りローラ５１に巻付けられたフィルム１に、
照射装置５０より紫外線または電子線を照射することに
より、凹凸の形成された樹脂層３が硬化する。ここで、
巻付はローラ５１は冷却されているため、紫外線または
電子線の照射によってフィルム１が発熱し、熱収縮する
のを防止することができる。この後、フィルム１は駆動
モータ１４に連結されたシャフト６２に巻取られる。こ
のとき、パウダークラッチ６４によりフィルム１は適正
なテンションに調整されているため、しわ等が発生せず
に巻取られる。

この後、巻取られたレーザーディスク形成用フィルム１
を巻戻して一般的な打抜方法で円盤状の形に１枚ずつ打
抜いて後、前述したような保護層を形成するか、或いは
巻取られたレーザーディスク形成用フィルム１を巻戻し
ながら、複製された凹凸面に保護層を形成して後、−船
釣な打抜方法で円盤状に形に１枚ずつ打抜くことにより
、第４図に示すようなレーザーディスク１００を作成す
ることができる。このレーザーディスク１００は１００
μ程度の厚さの基材フィルム２の反射膜層７及び樹脂層
３にレーザーディスク原版４の凹凸を複製したものであ
るから、全体として可撓性がありソノシーｉ−と同様な
形態を有したものとなる。

上述のようにして製造された可撓性レーザーディスク１
００は第８図に断面構造を示すように、基材フィルム２
と凹凸情報を形成された樹脂層３、反射膜層７とが層設
された構造となっており、全体の厚さは１００μ程度が
可撓性のようなものである。ここにおいて、可撓性レー
ザーディスク１００の記録情報を読出す場合には、同図
に示すように光学系２００でレーザーディスク１００上
にレーザー光を集束させているので、レーザーディスク
１００上に塵、埃、ごみ等の不着物２１０が付着すると
光を遮断してしまい、レーザーディスク１００の記録情
報な読出すことができない。

このため、この発明では上述のような可撓性レーザーデ
ィスク１００と同一形状の第９図に示すような厚さ１．
０ｍｍ及び０．３ｍｍ程度の透明材で成るアダプタ１３
０及び１４０を用意し、このアダプタ１３０．１４０を
第１Ｄ図に示すようにレーザーディスク１００に配設し
て記録情報の読出しを行なう。

上記可撓性レーザーディスク１００を、ＣＤプレイヤー
（例えばソニー製ＧＤＰ−Ｍ３０）で再生するため音楽
情報を記録されたレーザーディスク１００を製造し、中
心部に１５ｍｍφの穴をあけ同心内に外側を１２０ｍｍ
φて切り抜き第９図のようなレーザーディスク１００と
同形状のアダプタ１３０，１４０を使用して再生したと
ころ市販ＣＤソフトと同等な音声を聞くことがてきた。

（発明の効果） 以上のようにこの発明の可撓性レーザーディスク製造方
法は、基材フィルム上に熱成形性を有する紫外線硬化樹
脂または電子線硬化樹脂が設けられ前記樹脂層上に金属
反射層が層設されているレーザーディスク形成用フィル
ムと、表面に音声等の電気信号に対応して凹凸が形成さ
れている己−ヶ−？＜ユ、ゆ版、ｆ、、、ヵ。熱条件エ
アエ接おせて上記金属反射層に凹凸を形成し、次いで紫
外線または電子線を上記フィルムに照射するようにして
おり、製造工程では上記フィルムを巻取状態より繰り出
し、押付はローラと表面にレーザーディスク原版が設け
られたエンボスローラとにより加熱圧着した後、紫外線
または電子線を照射してレーザーディスク形成用フィル
ムを巻取る方式であるため、以下のような効果が得られ
る。

（ａ）　レーザーディスク原版とレーザーディスク形成
用フィルムとを長時間にわたって加熱状態に圧接する必
要がなく、レーザーディスク原版の凹凸が熱により消滅
して劣化することがない。

（ｂ）　　レーザーディスク形成用フィルムとレーザー
ディスク原版とを加熱状態に保って圧接して凹凸を形成
した後、直ちに圧接状態を解除することができ、冷却、
工程を短時間で行なうことができ、可撓性レーザーディ
スクの製造工程を著しく簡素化できると共に、大量生産
が可能となる。

（Ｃ）　　レーザーディスク形成用フィルムは、レーザ
ーディスク原版と加熱圧接して凹凸を形成する前に予め
金属反射膜層が層設されているため、可撓性レーザーデ
ィスクの製造工程を著しく簡素化できると共に、良質な
製品の大量生産が可能となる。

（ｄ）　　レーザーディスク形成用フィルムを巻取って
保存することができ、可撓性レーザーディスクの製造工
程を簡素化できると共に大量生産が可能となる。

（ｅ）可撓性レーザーディスク形成用フィルムは予め金
属反射層が層設されてレーザーディスク原版と熱圧接し
て凹凸が形成されるため、凹凸形成後金属反射層を蒸着
法等で形成する方法に比べて可撓性フィルム側とは逆側
にレーザー光をあて情報ビットを読み取る場合、情報ピ
ット形状の反射金属膜厚分の形状劣化がないので、可撓
性基材フィルムとして光学的条件を満たさないものなど
が使用でき、基材の選択の幅が広がる。

（ｆ）耐熱性、耐溶剤性に優れた安価な可撓性レーザー
ディスクを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の可撓性レーザーディスク形成用フィ
ルムの断面図、第２図及び第３図はそれぞれこの発明の
可撓性レーザーディスクの一例を示す断面構造図、第４
図は作成された可撓性レーザーディスクの一例を示す斜
視図、第５図はこの発明の一実施例を示ず可撓性レーザ
ーディスクの複製装置の概略正面図、第６図はその側面
図、第７図は第５図及び第６図に示ず可撓性レーザーデ
ィスクの複製装置の一部拡大断面図、第８図及び第１０
図は可撓性レーザーディスクの再生方法を説明する図、
第９図は再生に使用されるアダプタの使用方法を説明す
る図である。 １・・・レーザーディスク形成用フィルム、２・・・基
材フィルム、３・・・紫外線硬化樹脂または電子線硬化
樹脂、４・・・レーザーディスク原版、１０・・・可撓
性レーサーディスクの製造装置、１４・・・駆動モータ
、２０・・・給紙装置、２１・・・巻取ロール、３０・
・・転写装置、３１・・・エンボスローラ、３８・・・
加圧機構、４０・・・押付ＩＪクローラ４２・・・アー
ム、４５・・・エアシリンダ、５Ｑ・・・照射装置、５
１・・・巻何はローラ、６０・・・巻取装置、６２・・
・シャフト、７１．７２．７３・・・ガイドローラ。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基材フィルム上に熱成形性を有する樹脂層が層設
   され、前記樹脂層上に金属反射層が平滑に層設されてい
   るレーザーディスク形成用フィルムの前記金属反射層に
   対し、情報が表面の凹凸で記録されているレーザーディ
   スク原版を当接するようにし加熱条件下で圧接して前記
   金属反射層に前記凹凸を記録するようにした可撓性レー
   ザーディスクの製造方法。
2. （２）前記熱成形性を有する樹脂層が紫外線硬化樹脂又
   は電子線硬化樹脂から成り、前記レーザーディスク形成
   用フィルムに凹凸を記録した後、前記樹脂層に紫外線又
   は電子線を照射して前記樹脂を硬化するようにした特許
   請求の範囲第１項に記載の可撓性レーザーディスクの製
   造方法。