JPH01113453A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH01113453A JPH01113453A JP27077287A JP27077287A JPH01113453A JP H01113453 A JPH01113453 A JP H01113453A JP 27077287 A JP27077287 A JP 27077287A JP 27077287 A JP27077287 A JP 27077287A JP H01113453 A JPH01113453 A JP H01113453A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- polysiloxane
- resin
- formula
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 12
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 30
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims abstract description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical group C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract 4
- 239000004721 Polyphenylene oxide Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 229920000570 polyether Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
この発明は、エポキシ樹脂組成物の製造技術の分野に属
する。
する。
[背景技術]
従来からエポキシ樹脂は、接着剤あるいは積層板などに
代表される電子機器あるいは電子部品を構成するための
機材(いわゆる電子基材)、トランジスタなどを被覆す
るための封止材料用のベースレジン等として使用されて
いた。特に最近では、エレクトロニクスの分野における
IC用封止材料としての需要が拡大している。
代表される電子機器あるいは電子部品を構成するための
機材(いわゆる電子基材)、トランジスタなどを被覆す
るための封止材料用のベースレジン等として使用されて
いた。特に最近では、エレクトロニクスの分野における
IC用封止材料としての需要が拡大している。
一般に、エポキシ樹脂成形材料のようなエポキシ樹脂組
成物は、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、充填剤、
難燃剤、カップリング剤、離型剤、着色剤などを配合し
、混煉して組成物となし、これを成形材料として使用す
る。
成物は、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、充填剤、
難燃剤、カップリング剤、離型剤、着色剤などを配合し
、混煉して組成物となし、これを成形材料として使用す
る。
この成形材料は加熱、加圧下に成形し、硬化させて最終
の実用形態である成形物とする。このようにして得られ
る成形物は、特に高耐湿性、低応力比(曲げ弾性率、線
膨張率が低いこと)が望まれている。
の実用形態である成形物とする。このようにして得られ
る成形物は、特に高耐湿性、低応力比(曲げ弾性率、線
膨張率が低いこと)が望まれている。
すなわち、たとえばIC封止用樹脂の場合のように、I
Cを封止した後の硬化樹脂が長期間使用された場合には
、高湿度に曝されることもあり、あるいは過酷な温度変
化に曝されることもある。
Cを封止した後の硬化樹脂が長期間使用された場合には
、高湿度に曝されることもあり、あるいは過酷な温度変
化に曝されることもある。
このような場合に、湿気の侵入による故障、硬化樹脂の
線膨張ないし収縮による回路の断線等が起こる。よって
、そのような実用環境に耐える必要があることから、前
記の特性が要求される。
線膨張ないし収縮による回路の断線等が起こる。よって
、そのような実用環境に耐える必要があることから、前
記の特性が要求される。
ところで、従来からポリシロキサン化合物を使用して曲
げ弾性率を低下させる試みはなされていた。この方法で
は曲げ弾性率は低下するが、Tg、曲げ強度、その他の
成形性(成形時のパリの発生)に関して不利益があり、
必ずしも総合的に品質を満足させる方法ではなかった。
げ弾性率を低下させる試みはなされていた。この方法で
は曲げ弾性率は低下するが、Tg、曲げ強度、その他の
成形性(成形時のパリの発生)に関して不利益があり、
必ずしも総合的に品質を満足させる方法ではなかった。
そこで、さらに効果的な高耐湿性、低応力化を達成する
方法が望まれていた。
方法が望まれていた。
[発明の目的]
この発明は、前記のような実情に基づいてなされたもの
であり、エポキシ樹脂組成物より得られる成形物の耐湿
性の向上および低応力化を図ることを目的とする。
であり、エポキシ樹脂組成物より得られる成形物の耐湿
性の向上および低応力化を図ることを目的とする。
[発明の開示]
この発明は、反応性液状ポリシロキサン化合物と末端水
素を有するポリシロキサンまたはこれらを反応させたも
のをエポキシ樹脂または/およびフェノール樹脂中に分
散させたものを得て、これをエポキシ成形材料の原料と
して使用することを特徴とする。以下、詳細に説明する
。
素を有するポリシロキサンまたはこれらを反応させたも
のをエポキシ樹脂または/およびフェノール樹脂中に分
散させたものを得て、これをエポキシ成形材料の原料と
して使用することを特徴とする。以下、詳細に説明する
。
この発明において使用されるビニル基を含むポリシロキ
サン化合物とは、下記一般式〔A〕で表されるような、
ビニル基を有する反応性有するものであり、一方ポリシ
ロキサン化合物は下記一般式(B)表される末端に一3
iH基を有するものである。
サン化合物とは、下記一般式〔A〕で表されるような、
ビニル基を有する反応性有するものであり、一方ポリシ
ロキサン化合物は下記一般式(B)表される末端に一3
iH基を有するものである。
ここで、m、 n、 k、 1=100〜300
0R:メチル基、フェニル基、ポリエ・−チル基、グリ
シジルエーテル基、 直鎖アルキル基。
0R:メチル基、フェニル基、ポリエ・−チル基、グリ
シジルエーテル基、 直鎖アルキル基。
より具体的に説明すると、まずフェノール樹脂を120
〜150℃で溶融させ、必要に応じて触媒を加えた後、
ポリシロキサン〔A〕をフェノール樹脂に対して10〜
100重量%、好ましくは30〜50重量%添加し、よ
(分散させ、ついでポリシロキサン(B)を、〔A〕の
5〜15重量%、好ましくは10重量%程度添加し、攪
拌し、5〜20分間、好ましくは10分間反応させる。
〜150℃で溶融させ、必要に応じて触媒を加えた後、
ポリシロキサン〔A〕をフェノール樹脂に対して10〜
100重量%、好ましくは30〜50重量%添加し、よ
(分散させ、ついでポリシロキサン(B)を、〔A〕の
5〜15重量%、好ましくは10重量%程度添加し、攪
拌し、5〜20分間、好ましくは10分間反応させる。
ここでポリシロキサン同士の付加重合反応によりゴム化
したポリシロキサンがフェノール樹脂中に分散した状態
が得られる。つぎに冷却し、粉砕する。
したポリシロキサンがフェノール樹脂中に分散した状態
が得られる。つぎに冷却し、粉砕する。
ポリシロキサンを熱溶融させる時に使用する樹脂ハ、フ
ェノール樹脂以外にエポキシ樹脂でも使用可能であり、
両者併用も可能である。また〔A〕、(B)をフェノー
ル樹脂またはエポキシ樹脂とは別に溶融させておき、こ
れを混合し、ゴム化は成形時に行われるようにしてもよ
い。
ェノール樹脂以外にエポキシ樹脂でも使用可能であり、
両者併用も可能である。また〔A〕、(B)をフェノー
ル樹脂またはエポキシ樹脂とは別に溶融させておき、こ
れを混合し、ゴム化は成形時に行われるようにしてもよ
い。
本発明で使用するエポキシ樹脂は、少なくとも2個以上
のエポキシ基を持つものであれば、特に分子量、構造に
制限はない0例えば、ビスフェノールA系、フェノール
ノボラック系、タレゾールノボラック系等が使用される
。
のエポキシ基を持つものであれば、特に分子量、構造に
制限はない0例えば、ビスフェノールA系、フェノール
ノボラック系、タレゾールノボラック系等が使用される
。
フェノール樹脂としては、例えば通常のフェノール樹脂
、タレゾールノボラック樹脂、アルキル変性フェノール
樹脂等が使用される。これらは硬化剤として作用する。
、タレゾールノボラック樹脂、アルキル変性フェノール
樹脂等が使用される。これらは硬化剤として作用する。
ポリシロキサンの付加重合のための触媒としては、限定
するものではないが、たとえばイミダゾール系化合物、
トリフェニルフォスフイン、スズ系化合物等が使用され
る。充填剤としては、結晶性シリカ、溶融シリカ、ケイ
酸カルシウム、アルミナ等の粉末、ガラス繊維等が挙げ
られるが、通常は結晶性シリカあるいは溶融シリカを使
用するのが都合がよい。
するものではないが、たとえばイミダゾール系化合物、
トリフェニルフォスフイン、スズ系化合物等が使用され
る。充填剤としては、結晶性シリカ、溶融シリカ、ケイ
酸カルシウム、アルミナ等の粉末、ガラス繊維等が挙げ
られるが、通常は結晶性シリカあるいは溶融シリカを使
用するのが都合がよい。
以上の他、通常エポキシ樹脂の添加剤として使用される
ものは任意に配合される。
ものは任意に配合される。
つぎに実施例、比較例を説明する。
(実施例1)
下記配合により実施した。
0−タレゾールノボラックエポキシ樹脂 16.Owt
χフェノールノボラック樹脂 8.0〃2−
メチルイミダゾール 0.8〃ポリシロ
キサン〔A〕4.0〃 ポリシロキサン(B ) 0.4
〃臭素化エポキシ樹脂 2.0〃三酸
化アンチモン エ、0〃カルナバワ
ックス 4・0“カーボンブラッ
ク 0.8〃溶融シリカ
63.0〃なお、配合表中のフェノー
ルノボラック樹脂、2−メチルイミダゾール、ポリシロ
キサン〔A〕およびポリシロキサン(B)は、あらかじ
め溶融させたフェノールノボラック樹脂中に、2−メチ
ルイミダゾール、ポリシロキサン〔A〕およびポリシロ
キサン〔B〕を溶融分散させ、反応させた後便用した。
χフェノールノボラック樹脂 8.0〃2−
メチルイミダゾール 0.8〃ポリシロ
キサン〔A〕4.0〃 ポリシロキサン(B ) 0.4
〃臭素化エポキシ樹脂 2.0〃三酸
化アンチモン エ、0〃カルナバワ
ックス 4・0“カーボンブラッ
ク 0.8〃溶融シリカ
63.0〃なお、配合表中のフェノー
ルノボラック樹脂、2−メチルイミダゾール、ポリシロ
キサン〔A〕およびポリシロキサン(B)は、あらかじ
め溶融させたフェノールノボラック樹脂中に、2−メチ
ルイミダゾール、ポリシロキサン〔A〕およびポリシロ
キサン〔B〕を溶融分散させ、反応させた後便用した。
以上の配合物をミキサーでブレンドし、ロール混煉し、
冷却、粉砕したものを成形して、特性評価を行った。物
性としては、曲げ弾性、曲げ強度、PCT (プレッシ
ャー・クツカーテスト、半田耐熱後、5気圧下で実施)
を実施し、その結果を第1表に示した。
冷却、粉砕したものを成形して、特性評価を行った。物
性としては、曲げ弾性、曲げ強度、PCT (プレッシ
ャー・クツカーテスト、半田耐熱後、5気圧下で実施)
を実施し、その結果を第1表に示した。
(実施例2)
ポリシロキサンの重合をフェノール樹脂中でなく、エポ
キシ樹脂中で行った。他の配合等は実施例1と同様に実
施した。
キシ樹脂中で行った。他の配合等は実施例1と同様に実
施した。
(実施例3)
実施例1のフェノールノボラック樹脂の代わりにタレゾ
ールノボラック樹脂を使用した。他の配合等は実施例1
と同様に実施した。
ールノボラック樹脂を使用した。他の配合等は実施例1
と同様に実施した。
(実施例4)
実施例1のポリシロキサン〔A〕およびポリシロキサン
(B)の配合量を各々6.0.6wtχとし、他の条件
等は実施例1と同様に実施した。
(B)の配合量を各々6.0.6wtχとし、他の条件
等は実施例1と同様に実施した。
(比較例1)
ポリシロキサン〔A〕およびポリシロキサン〔B〕を添
加しないで、他は実施例1と同様にして実施した。
加しないで、他は実施例1と同様にして実施した。
第1図
[発明の効果コ
この発明は、反応性ポリシロキサン化合物と末端水素を
有するポリシロキサンまたはこれらを反応させたものを
エポキシ樹脂またはフェノール樹脂中に分散させた組成
物を得て、これをエポキシ成形材料の原料として使用す
ることを特徴とするので、耐湿性が向上し、低応力化さ
れたエポキシ樹脂硬化物が得られるという効果がある。
有するポリシロキサンまたはこれらを反応させたものを
エポキシ樹脂またはフェノール樹脂中に分散させた組成
物を得て、これをエポキシ成形材料の原料として使用す
ることを特徴とするので、耐湿性が向上し、低応力化さ
れたエポキシ樹脂硬化物が得られるという効果がある。
Claims (1)
- (1)エポキシ樹脂組成物において、下記構造式に示す
ポリシロキサン〔A〕および〔B〕またはこれらの反応
生成物を、エポキシ樹脂または/およびフェノール樹脂
中に分散させたものを用意し、これをエポキシ樹脂に配
合したことを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 式%式〔A〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔B〕 ここで、m、n、k、l=100〜3000R:メチル
基、フェニル基、ポリエー テル基、グリシジルエーテル基、 直鎖アルキル基。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27077287A JPH01113453A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27077287A JPH01113453A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01113453A true JPH01113453A (ja) | 1989-05-02 |
Family
ID=17490780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27077287A Pending JPH01113453A (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01113453A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0481423A (ja) * | 1990-07-24 | 1992-03-16 | Matsushita Electric Works Ltd | 封止用エポキシ樹脂組成物 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5346349A (en) * | 1976-10-08 | 1978-04-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Silicone resin composition |
JPS553412A (en) * | 1978-06-21 | 1980-01-11 | Hitachi Ltd | Epoxy resin composition |
JPS61185527A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-19 | Toray Silicone Co Ltd | 硬化性エポキシ樹脂組成物 |
JPS6484739A (en) * | 1987-09-28 | 1989-03-30 | Nitto Denko Corp | Resin sealed semiconductor device |
-
1987
- 1987-10-27 JP JP27077287A patent/JPH01113453A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5346349A (en) * | 1976-10-08 | 1978-04-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Silicone resin composition |
JPS553412A (en) * | 1978-06-21 | 1980-01-11 | Hitachi Ltd | Epoxy resin composition |
JPS61185527A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-19 | Toray Silicone Co Ltd | 硬化性エポキシ樹脂組成物 |
JPS6484739A (en) * | 1987-09-28 | 1989-03-30 | Nitto Denko Corp | Resin sealed semiconductor device |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0481423A (ja) * | 1990-07-24 | 1992-03-16 | Matsushita Electric Works Ltd | 封止用エポキシ樹脂組成物 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS62254454A (ja) | 半導体装置 | |
JPS62254453A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6263453A (ja) | 半導体装置 | |
KR100462143B1 (ko) | 반도체소자 봉지용 저응력화 변성 실리콘 에폭시 수지의 제조방 법 및 이를 함유하는 반도체소자 봉지용 수지 조성물 | |
JPH01113453A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
KR100429363B1 (ko) | 반도체소자밀봉용에폭시수지조성물 | |
JPH0379657A (ja) | エポキシ樹脂組成物の製法 | |
JPH0346486B2 (ja) | ||
JPH04328117A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 | |
JPS62112622A (ja) | 封止用樹脂組成物 | |
JPH02219814A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH10237273A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH01272620A (ja) | 電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料 | |
JPH04108853A (ja) | 表面処理フィラーおよびエポキシ樹脂組成物 | |
JPH05175373A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JPH03131057A (ja) | 半導体装置 | |
JP2828784B2 (ja) | 半導体封止用樹脂組成物 | |
JPH05214216A (ja) | 封止用エポキシ樹脂成形材料 | |
JPH02258831A (ja) | 封止用樹脂組成物及びその製造方法 | |
JPS6320324A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPS58173850A (ja) | 半導体装置 | |
JPS63202623A (ja) | エポキシ樹脂成形材料 | |
JPH08176278A (ja) | 樹脂組成物 | |
JPH02245055A (ja) | 封止用樹脂組成物 | |
JPH04248866A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |